一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価
09:00 〜 09:15
〇星 拓也1、吉屋 佑樹1、杉山 弘樹1、中島 史人1 (1.NTT先端集積デバイス研)
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09:15 〜 09:30
〇安藤 裕二1,2、高橋 英匡1、牧迫 隆太郎1、分島 彰男3、須田 淳1,2 (1.名大院工、2.名大未来研、3.名工大)
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09:30 〜 09:45
〇久恒 悠介1、太田 貴士1、佐々木 満孝1、高橋 言緒2、井手 利英2、清水 光聡2、星井 拓也1、角嶋 邦之1、若林 整1、筒井 一生1 (1.東京工業大学、2.産業総合技術研究所)
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09:45 〜 10:00
〇田中 大貴1、磯 憲司2,3、三浦 輝紀2,3、安藤 裕二1,3、須田 淳1,3 (1.名大院工、2.三菱ケミカル、3.名大未来研)
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10:00 〜 10:15
〇伊東 幸風1、玉井 晟多1、星 拓也2、後藤 高寛1、宮本 恭幸1 (1.東工大、2.NTT先端集積デバイス研)
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10:15 〜 10:30
〇稲原 大輔1、松田 駿佑1、松村 航1、奥野 椋1、花咲 光基1、小脇 岳士1、宮本 弥凪1、金崎 蓮1、齊藤 俊介1、藤井 開1、倉井 聡1、岡田 成仁1、姚 永昭2、石川 由加里2、田中 敦之3、新田 州吾3、本田 善央3、天野 浩3、山田 陽一1 (1.山口大院・創成科学、2.ファインセラミックスセンター、3.名古屋大学未来材料・システム研究所)
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10:45 〜 11:00
〇野中 隆聖1、星井 拓也1、若林 整1、筒井 一生2、角嶋 邦之1 (1.東工大工学院、2.東工大科学技術創生研究科)
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11:00 〜 11:15
〇香川 諒1、重川 直輝2、梁 剣波2、川村 啓介3、坂井田 佳紀3、大内 澄人3、浦谷 泰基3、清水 康夫4、大野 裕4、長井 康介4 (1.大阪市大工、2.大阪公大工、3.エア・ウォーター（株）、4.東北大金研)
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11:15 〜 11:30
〇(M2)澤井 一樹1、梁 剣波1,2、清水 康雄3、大野 裕3、永井 康介3、重川 直輝1,2 (1.大阪市大院工、2.大阪公大院工、3.東北大金研)
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11:30 〜 11:45
〇(M2)戸田 圭太郎1、久保 俊晴1、江川 孝志1 (1.名工大)
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11:45 〜 12:00
〇瓜生 和也1,2、鈴木 寿一1 (1.北陸先端大、2.アドバンテスト研)
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