一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
2018年9月20日(木) 09:00 〜 12:15 222 (222)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇(M2)肥田 聡太1,2,3、森田 巧1、山崎 隆浩3、奈良 純3、大野 隆央3、木下 健太郎1 (1.東京理科大、2.鳥取大工、3.物材機構)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇蔦 佑輔1、福地 厚1、有田 正志1、高橋 康夫1 (1.北大院情報)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇落合 克行1,2、木下 健太郎1、金子 拓海1、上沼 睦典3、浦岡 行治3 (1.東理大理、2.鳥取大工、3.奈良先端大)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇李 遠霖1、勝村 玲音1、Mika Grönroos1、福地 厚1、有田 正志1、高橋 庸夫1、安藤 秀幸2、森江 隆2 (1.北大・院情報、2.九工大・生命体工)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇(M1)宮谷 俊輝1、西 佑介1、木本 恒暢1 (1.京大院工)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
〇(M1)渡邊 佑紀1、小林 成1、清水 亮太1,2、西尾 和記1、リウ ウェイ3、渡邉 聡3、一杉 太郎1 (1.東工大物質理工、2.JSTさきがけ、3.東大工)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇石川 竜介1、福地 厚1、有田 正志1、高橋 庸夫1、工藤 昌輝2、松村 晶2 (1.北大院情報、2.九大超顕微セ)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇(M1)清水 敦史1,2、木下 健太郎1、中畝 悠介1、島 久2、高橋 慎2、内藤 泰久2、秋永 広幸2 (1.東理大理、2.産総研)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇(M1)奥田 裕司1,2,3、川北 純平2,3、谷内 敏之2,3、島 久2,4、清水 敦史1,4、内藤 泰久2,4、秋永 広幸2,4、木下 健太郎1、辛 埴2,3 (1.東京理科大学、2.産総研・東大 OIL、3.東大物性研、4.産総研ナノエレ)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
〇川本 大喜1、服部 梓1,2、山本 真人1、田中 秀和1 (1.阪大産研、2.JST さきがけ)
スケジュール
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11:45 〜 12:00
〇(M2)棚橋 直哉1、鶴岡 徹2、バロブ イリア3、長谷川 剛1 (1.早大先進理工、2.物材機構、3.ユーリッヒ研究所)
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12:00 〜 12:15
〇有馬 知里1、鶴岡 徹2、長谷川 剛1 (1.早大先進理工、2.物材機構)
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