一般セッション(口頭講演)

[10a-N321-1~11] 3.7 レーザープロセシング

2021年9月10日(金) 09:00 〜 12:00 N321 (口頭)

谷峻太郎(東大)、小幡孝太郎(理研)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

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09:00 〜 09:15

[10a-N321-1] フェムト秒レーザー直描LN導波路の構造および光学特性評価

〇井上飛鳥¹、藤原裕士¹、渡辺啓¹ (1.NTT先デ研)

09:15 〜 09:30

[10a-N321-2] フェムト秒レーザー照射によるダイヤモンド内部へのNV中心形成

〇下間靖彦¹、栗田寅太郎¹、矢野下瑠星¹、木内康平¹、藤原正規²、水落憲和²、植本光治³、矢花一浩⁴、清水雅弘¹、三浦清貴¹ (1.京大工、2.京大化研、3.神戸大工、4.筑波大)

09:30 〜 09:45

[10a-N321-3] 【注目講演】GHzバーストモードフェムト秒レーザーパルスによる銅アブレーション加工中に発生するプラズマ遮蔽の影響

〇小幡孝太郎¹、川端祥太^1,2、カバジェロルカスフランセスク¹、花田修賢³、宮地悟代²、杉岡幸次¹ (1.理研光量子、2.東京農工大、3.弘前大理工)

09:45 〜 10:00

[10a-N321-4] フェムト秒レーザー微細穴あけ加工における多次元フィードバック制御

〇(D)場本圭一¹、櫻井治之¹、谷峻太郎¹、小林洋平¹ (1.東大物性研)

10:00 〜 10:15

[10a-N321-5] 位相精度遅延制御ダブルパルス照射による金属チタンへの表面周期構造形成

〇欠端雅之¹、屋代英彦¹ (1.産総研電子光)

10:15 〜 10:30

[10a-N321-6] フェムト秒レーザーによるダイヤモンド内部への高濃度NVセンター形成

〇栗田寅太郎¹、下間靖彦¹、矢野下瑠星¹、木内康平¹、藤原正規²、藤江昌弘²、水落憲和²、清水雅弘¹、三浦清貴¹ (1.京大院工、2.京大化研)

10:45 〜 11:00

[10a-N321-7] GHzバーストモードレーザーを用いたSiウェハの高速加工

〇山崎祐¹、影林由郎¹、藤本靖² (1.ウシオ電機（株）、2.千葉工大)

11:00 〜 11:15

[10a-N321-8] フェムト秒レーザパルス照射によるグリオキシル酸Cu錯体からのCu還元析出の動的観察

〇(B)大森元貴¹、大石知司²、溝尻瑞枝¹ (1.長岡技科大、2.芝浦工大)

11:15 〜 11:30

[10a-N321-9] ホログラフィックフェムト秒レーザー加工を用いた体積型回折格子の作製

〇(M1)石田典也¹、張弘昊¹、長谷川智士¹、早崎芳夫¹ (1.宇都宮大)

11:30 〜 11:45

[10a-N321-10] 添加剤不要の2光子造形法を用いた生体材料の3次元ナノ造形

〇中山篤志^1,2、熊本康昭¹、田口敦清³、藤田克昌^1,2 (1.阪大院工、2.産総研・阪大先端フォトバイオ、3.北大電子研)

11:45 〜 12:00

[10a-N321-11] Direct Laser WritingによるEr-Ybガラスへの導波路作製

〇(M2)住谷大志¹、谷峻太郎¹、櫻井治之¹、小林洋平¹ (1.東大物性研)

一般セッション(口頭講演)

[10p-N305-1~18] 3.7 レーザープロセシング

2021年9月10日(金) 13:30 〜 18:30 N305 (口頭)

辻剛志(島根大)、吉田剛(防大)、屋代英彦(産総研)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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13:30 〜 13:45

[10p-N305-1] 強く集光したベクトルビームを用いた金属表面へのダブルパルスアブレーション加工

〇(M2)大野剛史¹、小澤祐市¹、上杉祐貴¹、佐藤俊一¹ (1.東北大多元研)

13:45 〜 14:00

[10p-N305-2] インシステム最適化された成形ビームによるフェムト秒レーザー加工

〇(M2)小野寺遼¹、長谷川智士¹、早崎芳夫¹ (1.宇都宮大オプティクス)

14:00 〜 14:15

[10p-N305-3] 液中レーザーアブレーションによるSrAl₂O₄:Eu²⁺蛍光体粒子の作製

〇(M2)井上應理¹、中村俊博¹ (1.法政大理工)

14:15 〜 14:30

[10p-N305-4] ダブルパルスレーザーアブレーションでの球状サブミクロン粒子複合体の形成

〇(M1)伊東佑真¹、岡田幸樹¹、吉田岳人²、青木珠緒¹、梅津郁朗¹ (1.甲南大、2.阿南高専)

14:30 〜 14:45

[10p-N305-5] 気相中における紫外パルスレーザーアブレーション生成SiO₂ナノ粒子のレーザー画像計測

〇小池怜志¹、鈴木理央¹、片山慶太¹、東畠三洋¹、池上浩^1,2、中村大輔¹ (1.九大シス情、2.九大ギガフォトンNext GLP)

14:45 〜 15:00

[10p-N305-6] エクリプス型PLD法によるハイドロキシアパタイト成膜の結晶性の評価

〇屋代英彦¹、欠端雅之¹ (1.産総研電子光)

15:15 〜 15:30

[10p-N305-7] ArFエキシマレーザーによるシリコーンゴム上へのマイクロカップ構造形成

〇岩崎楓¹、吉田剛¹、大越昌幸¹ (1.防大電気電子)

15:30 〜 15:45

[10p-N305-8] 深紫外パルスレーザー照射による金属の撥水性付与

〇(M2)徐天予¹、飯田一樹²、草川義起²、山下錬²、藤本靖²、谷峻太郎¹、伊藤功¹、櫻井治之¹、小林洋平¹ (1.東大物性研、2.千葉工大工)

15:45 〜 16:00

[10p-N305-9] 炭化水素液中での短パルスレーザー照射によるチタン合金の表面炭化

〇(D)田中良樹¹、劉暁旭¹、藤原奨¹、前川覚¹、小野晋吾¹、糸魚川文広¹ (1.名古屋工業大学)

16:00 〜 16:15

[10p-N305-10] フェムト秒レーザー誘起音を利用したレーザー焦点位置の適応的制御

〇(M1)三浦拓真¹、熊谷幸汰¹、早崎芳夫¹ (1.宇都宮大オプティクス)

16:15 〜 16:30

[10p-N305-11] レーザー加工時におけるリアルタイム温度計測

〇高田英行¹、吉富大¹、奈良崎愛子¹ (1.産総研)

16:30 〜 16:45

[10p-N305-12] 高強度レーザー場中金属薄膜の光エネルギー吸収シミュレーション

〇谷水城^1,2、乙部智仁²、篠原康¹、石川顕一¹ (1.東大院工、2.量研関西研)

16:45 〜 17:00

[10p-N305-13] 低エネルギーロングパルスを用いたアモルファス合金箔の効率的穴開け加工

〇辻剛志^1,2、山本翔大¹、原央真¹、池本隼¹、太田元基²、中村大輔³ (1.島根大総理工、2.島根大次世代たたらセ、3.九大工)

17:15 〜 17:30

[10p-N305-14] ゼブラフィッシュ胚の細胞間機械特性に関わる遺伝子スクリーニングのためのフェムト秒レーザーアブレーション法

〇弘永海人¹、山田壮平²、別所康全²、松井貴輝²、細川陽一郎¹ (1.奈良先端大物質、2.奈良先端大バイオ)

17:30 〜 17:45

[10p-N305-15] フェムト秒レーザー穿孔と原子間力顕微鏡法による植物細胞の力学状態評価

〇山崎勇輝¹、伊藤賢四郎¹、岡野和宣¹、津川暁²、細川陽一郎¹ (1.奈良先端大物質、2.秋田県立システム科技)

17:45 〜 18:00

[10p-N305-16] 第一原理計算に基づく高強度レーザー励起後のAlスラブ模型のARPESの解析

〇加藤洋生¹、宮本良之²、石川顕一¹ (1.東京大院工、2.産総研)

18:00 〜 18:15

[10p-N305-17] N温度模型の解の解析的性質

〇加藤洋生¹、石川顕一¹ (1.東京大院工)

18:15 〜 18:30

[10p-N305-18] 水晶を例とした絶縁体における非線形吸収異方性の第一原理計算

〇(M2)松永将之¹、篠原康¹、石川顕一¹ (1.東大院工)

一般セッション(口頭講演)

[11a-N321-1~11] 3.7 レーザープロセシング

2021年9月11日(土) 09:00 〜 12:00 N321 (口頭)

溝尻瑞枝(長岡技科大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

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09:00 〜 09:15

△ [11a-N321-1] ダブルパルスフェムト秒レーザーによりSi表面に誘起されるプラズモニック・ナノアブレーションの制御

〇飯田悠斗¹、立田実花¹、宮地悟代¹ (1.東京農工大)

09:15 〜 09:30

△ [11a-N321-2] ガラスのフェムト秒レーザ加工中の超高速圧力分布計測

〇(D)服部隼也¹、伊藤佑介¹、杉田直彦¹ (1.東大院工)

09:30 〜 09:45

△ [11a-N321-3] 選択的レーザー溶融法におけるSUS316L粉末の溶融挙動観察

〇井濱雅弘¹、水口佑太¹、有村恒良²、竹中啓輔³、吉田徳雄³、佐藤雄二³、吉田実²、塚本雅裕³ (1.阪大院工、2.近大院理工、3.阪大接合研)

09:45 〜 10:00

△ [11a-N321-4] 空気中での非線形伝搬の効果を用いたレーザー加工形状制御

〇山田涼平¹、櫻井治之²、小西邦昭¹、三尾典克¹、湯本潤司¹、五神真¹ (1.東大院理、2.東大物性研)

10:00 〜 10:15

△ [11a-N321-5] 単一パルスでのレーザーアブレーションの詳細観測を目的とした時間分解デジタルホログラフィ光学系の開発

〇(D)川野将太郎¹、玉光未侑¹、櫻井治之²、小西邦昭¹、井手口拓郎¹、湯本潤司¹、五神真¹ (1.東大院理、2.東大物性研)

10:30 〜 10:45

△ [11a-N321-6] フェムト秒レーザーによりSiO₂表面に形成した均一なナノ構造とその反射・透過特性

〇枝窪南¹、 Ihlemann Juergen²、宮地悟代¹ (1.東京農工大、2.ゲッチンゲンナノ工学研)

10:45 〜 11:00

△ [11a-N321-7] アジマス偏光超短パルスレーザーによる方向依存性の少ない構造色形成

〇(M1)長井大輔^1,2、宮地悟代¹、吉富大²、奈良崎愛子² (1.東京農工大、2.産総研)

11:00 〜 11:15

△ [11a-N321-8] Cuをキャップ層として用いたAlのフェムト秒レーザー誘起構造変化

〇三村一暉¹、坂東賢哉¹、山口誠²、岡田達也¹、富田卓朗¹ (1.徳島大、2.秋田大理工)

11:15 〜 11:30

△ [11a-N321-9] 無容器浮遊法により作製したAl₂O₃-Lu₂O₃ガラス内部のレーザー誘起結晶成長

〇奥野達也¹、下間靖彦¹、清水雅弘¹、三浦清貴¹ (1.京大院工)

11:30 〜 11:45

▼ [11a-N321-10] Femtosecond laser pulses with GHz bursts in MHz burst for ablation enhancement circumventing air ionization

〇(P)Francesc CaballeroLucas¹、 Shota Kawabata^1,2、 Kotaro Obata¹、 Godai Miyaji²、 Koji Sugioka¹ (1.RIKEN RAP、2.Tokyo Univ. of A. & T.)

11:45 〜 12:00

△ [11a-N321-11] フェムト秒レーザー照射によるダイヤモンド内のNV中心形成とその偏光による影響

〇木内康平¹、矢野下瑠星¹、栗田寅太郎¹、下間靖彦¹、藤原正規²、水落憲和²、清水雅弘¹、三浦清貴¹ (1.京大院工、2.京大化研)

一般セッション(口頭講演)

[11p-N321-1~8] 3.7 レーザープロセシング

2021年9月11日(土) 13:30 〜 15:45 N321 (口頭)

中村大輔(九大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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13:30 〜 13:45

△ [11p-N321-1] フェムト秒レーザーを用いたナノ薄膜干渉加工法の開発

〇三輪泰斗^1,2、門口尚広^1,2、上杉祐貴²、小澤祐市²、佐藤俊一² (1.東北大工、2.東北大多元研)

13:45 〜 14:00

△ [11p-N321-2] 多光子架橋により作製したダブルネットワークハイドロゲルの力学的特性変化

〇常光兼人¹、渡辺明²、尾上弘晃^1,3、寺川光洋^1,3 (1.慶大院理工、2.東北大、3.慶大理工)

14:00 〜 14:15

△ [11p-N321-3] 超高速光パルス誘起形態変化現象における光学的減衰長の役割解明

〇澁谷達則¹、坂上和之²、小川博嗣¹、佐藤大輔¹、ヂンタンフン³、石野雅彦³、田中真人¹、鷲尾方一⁴、東口武史⁵、錦野将元³、小林洋平²、黒田隆之助¹ (1.産総研、2.東大、3.量研、4.早稲田大、5.宇都宮大)

14:15 〜 14:30

△ [11p-N321-4] フェムト秒レーザー衝撃力の多段照射による変位量差を利用した多重選択型セルソーターの実証

〇(M2)規家涼太¹、田中陽²、 Yalikun Yaxiaer^1,2、細川陽一郎¹ (1.奈良先端大物質、2.理研)

14:45 〜 15:00

△ [11p-N321-5] アントラセンのレーザー誘起結晶化過程に伴う濃度場の高速度観察

〇(D)釣優香¹、丸山美帆子^1,2,3、吉川洋史¹、塚本勝男^1,4、高野和文^3,5、安達宏昭⁵、宇佐美茂佳¹、今西正幸¹、吉村政志⁶、森勇介¹ (1.阪大院工、2.阪大高等共創、3.京府大生命環境、4.東北大院理、5.創晶、6.阪大レーザー研)

15:00 〜 15:15

△ [11p-N321-6] 不純物をドープした4H-SiC基板からレーザーアブレーションにより作製したナノ微粒子の光学的特性の評価

〇池田光希¹、石原淳¹、宮島顕祐¹ (1.東理大院)

15:15 〜 15:30

△ [11p-N321-7] シリコーンゴム表面でのArFレーザー照射による微細隆起構造成長におけるパルス繰り返し周波数の影響

〇吉田剛¹、大越昌幸¹ (1.防大電気電子)

15:30 〜 15:45

△ [11p-N321-8] 励起電子への過渡選択的光吸収による合成石英ガラス除去メカニズム

〇(D)吉崎れいな¹、伊藤佑介¹、吉武俊哉¹、小池匠¹、魏超然¹、柴田章広²、長澤郁夫²、長藤圭介¹、杉田直彦¹ (1.東大院工、2.AGC株式会社)

一般セッション(ポスター講演)

[21p-P06-1~5] 3.7 レーザープロセシング

2021年9月21日(火) 15:00 〜 16:40 P06 (ポスター)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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15:00 〜 16:40

[21p-P06-1] 液相レーザーアブレーション法による2D 有機無機ハイブリッドペロブスカイト微粒子の作製 Ⅲ

〇(M2)福田賀優¹、濱中泰¹ (1.名工大)

15:00 〜 16:40

[21p-P06-2] ガラス3Dマイクロポアオプティクス開発

〇野本憲太郎¹、谷口卓郎¹、那脇洋平¹、鶴岡和之¹、小髙大樹¹、伊藤弘子²、原田芳昌²、浅川雄一² (1.ウシオ電機、2.レーザーシステム)

15:00 〜 16:40

[21p-P06-3] レーザー照射で誘起される水中CO₂分子からのC2化合物生成反応

〇西哲平¹、佐藤俊介¹、大嶋文子¹、中村貴宏²、佐藤俊一²、森川健志¹ (1.豊田中研、2.東北大多元研)

15:00 〜 16:40

[21p-P06-4] 二酸化炭素溶解メタノールへの高強度レーザー光照射効果

石川和香子¹、〇佐藤俊一¹ (1.東北大多元研)

15:00 〜 16:40

[21p-P06-5] フェムト秒レーザーを用いた単層グラフェンの加工プロセスの開発

〇門口尚広¹、三輪泰斗¹、上杉祐貴¹、小澤祐市¹、佐藤俊一¹ (1.東北大多元研)

セッション一覧

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[10a-N321-1~11] 3.7 レーザープロセシング

[10p-N305-1~18] 3.7 レーザープロセシング

[11a-N321-1~11] 3.7 レーザープロセシング

△ [11a-N321-1] ダブルパルスフェムト秒レーザーによりSi表面に誘起されるプラズモニック・ナノアブレーションの制御

△ [11a-N321-2] ガラスのフェムト秒レーザ加工中の超高速圧力分布計測

△ [11a-N321-3] 選択的レーザー溶融法におけるSUS316L粉末の溶融挙動観察

△ [11a-N321-4] 空気中での非線形伝搬の効果を用いたレーザー加工形状制御

△ [11a-N321-5] 単一パルスでのレーザーアブレーションの詳細観測を目的とした時間分解デジタルホログラフィ光学系の開発

△ [11a-N321-6] フェムト秒レーザーによりSiO2表面に形成した均一なナノ構造とその反射・透過特性

△ [11a-N321-7] アジマス偏光超短パルスレーザーによる方向依存性の少ない構造色形成

△ [11a-N321-8] Cuをキャップ層として用いたAlのフェムト秒レーザー誘起構造変化

△ [11a-N321-9] 無容器浮遊法により作製したAl2O3-Lu2O3ガラス内部のレーザー誘起結晶成長

▼ [11a-N321-10] Femtosecond laser pulses with GHz bursts in MHz burst for ablation enhancement circumventing air ionization

△ [11a-N321-11] フェムト秒レーザー照射によるダイヤモンド内のNV中心形成とその偏光による影響

[11p-N321-1~8] 3.7 レーザープロセシング

△ [11p-N321-1] フェムト秒レーザーを用いたナノ薄膜干渉加工法の開発

△ [11p-N321-2] 多光子架橋により作製したダブルネットワークハイドロゲルの力学的特性変化

△ [11p-N321-3] 超高速光パルス誘起形態変化現象における光学的減衰長の役割解明

△ [11p-N321-4] フェムト秒レーザー衝撃力の多段照射による変位量差を利用した多重選択型セルソーターの実証

△ [11p-N321-5] アントラセンのレーザー誘起結晶化過程に伴う濃度場の高速度観察

△ [11p-N321-6] 不純物をドープした4H-SiC基板からレーザーアブレーションにより作製したナノ微粒子の光学的特性の評価

△ [11p-N321-7] シリコーンゴム表面でのArFレーザー照射による微細隆起構造成長におけるパルス繰り返し周波数の影響

△ [11p-N321-8] 励起電子への過渡選択的光吸収による合成石英ガラス除去メカニズム

[21p-P06-1~5] 3.7 レーザープロセシング

認証

△ [11a-N321-6] フェムト秒レーザーによりSiO₂表面に形成した均一なナノ構造とその反射・透過特性

△ [11a-N321-9] 無容器浮遊法により作製したAl₂O₃-Lu₂O₃ガラス内部のレーザー誘起結晶成長