一般セッション(口頭講演)

[11a-N401-1~5] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2021年9月11日(土) 09:00 〜 10:15 N401 (口頭)

山本治朗(日立)、谷口淳(東理大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

09:00 〜 09:15

[11a-N401-1] 対向放物面ミラープロトタイプ露光装置を用いたレジストパターン形成の実証

〇堀内敏行¹、小林宏史¹ (1.東京電機大工)

09:15 〜 09:30

〇唐晨¹、関口淳^2,3、安田雅昭³、平井義彦³ (1.上海新陽半導体、2.リソテックジャパン、3.阪府大院工)

09:30 〜 09:45

〇(M2)金子奈帆¹、前田優斗¹、大賀友瑛¹、林智広¹、 Mondarte Evan Angelo¹、金子智^2,1、松田晃史¹、吉本護¹ (1.東工大物質理工、2.神奈川県産技総研)

09:45 〜 10:00

〇古田敦大¹、日和佐伸²、谷口淳¹ (1.東京理科大先進工、2.オーテックス株式会社)

10:00 〜 10:15

〇田邉英毅¹、川田博昭¹、安田雅昭¹、平井義彦¹ (1.大府大工)