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[1401-10-05] 銅電解精製におけるアノード不動態化に及ぼすアノード組成の影響
司会:佐々木秀顕(愛媛大学)
Chairman: Hideaki Sasaki (Ehime University)
キーワード:銅、電解精製、アノード、不動態化、不純物
銅の電解精製におけるアノードの不動態化は、アノード表面への硫酸銅結晶の析出が主原因であるため、不動態化を抑制するにはアノード表面からの銅イオンの拡散を促進する必要がある。これまで、電解液組成の最適化を検討してきたが、アノードスライム層も拡散を阻害する因子であることから、不純物元素の種類によるアノードスライム層の性状の違いと、不動態化への影響について調査した。一般的な銅アノードに含まれる不純物元素を、相互作用を持つと推定される4つのグループ(①As,Sb,Bi、②Se,Te,Ag、③O、④Pb,Ni,Sn)に分類し、各グループのアノードを試作して、それらアノードの不動態化傾向をLSVや定電流電解等の電気化学的手法を用いて調査したところ、②Se,Te,Ag>③O>④Pb,Ni,Sn>①As,Sb,Biの順に不動態化の発生を促進する結果が得られた。また、アノード表面に生成したスライム層を観察し、その形状や剥離性から、不動態化促進のメカニズムを考察した。
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