13:30 〜 15:30
〇小西 敏文1、山根 大輔2,4、伊藤 浩之2,4、道正 志郎2,4、石原 昇2,4、年吉 洋3,4、益 一哉2,4、町田 克之1,4 (1.NTT-AT、2.東工大、3.東大、4.JST-CREST)
一般セッション(ポスター講演)
13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術
2016年9月14日(水) 13:30 〜 15:30 P5 (展示ホール)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:30 〜 15:30
〇小西 敏文1、山根 大輔2,4、伊藤 浩之2,4、道正 志郎2,4、石原 昇2,4、年吉 洋3,4、益 一哉2,4、町田 克之1,4 (1.NTT-AT、2.東工大、3.東大、4.JST-CREST)
13:30 〜 15:30
〇山根 大輔1,4、小西 敏文2、佐布 晃昭2、曽根 正人1,4、年吉 洋3,4、益 一哉1,4、町田 克之2,4 (1.東工大、2.NTT-AT、3.東大、4.JST-CREST)
13:30 〜 15:30
〇山根 大輔1,4、小西 敏文2、佐布 晃昭2、伊藤 浩之1,4、道正 志郎1,4、石原 昇1,4、曽根 正人1,4、年吉 洋3,4、益 一哉1,4、町田 克之2,4 (1.東工大、2.NTT-AT、3.東大、4.JST-CREST)
13:30 〜 15:30
〇村上 修一1、岩城 遼2、佐藤 和郎1、田中 恒久1、宇野 真由美1、舘野 高2 (1.大阪府立産技研、2.北海道大学)
13:30 〜 15:30
〇(P)YongJun Seo1,2、Kazuya Harii1,3、Ryo Takahashi1,3、Hiroyuki Chudo1,3、Koichi Oyanagi4、Zhiyong Qiu2、Takahito Ono5、Yuki Shiomi1,4、Eiji Saitoh1,2,3,4 (1.ERATO SQR project、2.AIMR、3.JAEA、4.IMR、5.Tohoku Univ.)
13:30 〜 15:30
〇(B)三石 昂洋1、秋山 正弘1、Dali Zhang2、Myung-Jae Lee2、Edoardo Charbon2 (1.長野高専、2.TUDelft)
13:30 〜 15:30
〇原 明人1、西村 勇哉1、大澤 弘樹1 (1.東北学院大工)
13:30 〜 15:30
粂内 真子1、熊谷 慎也1、趙 亨峻2、近藤 博基2、石川 健治2、堀 勝2、〇佐々木 実1 (1.豊工大、2.名大)
13:30 〜 15:30
〇米谷 玲皇1、村上 剛浩1、前田 悦男1 (1.東大院工)
13:30 〜 15:30
〇奥野 将人1、米谷 玲皇1、前田 悦男1 (1.東大院工)
13:30 〜 15:30
〇(M2)山田 惇弘1、末岡 浩治1 (1.岡山県大情報工)
13:30 〜 15:30
〇三木 一司1,2、村田 晃一1,2、金澤 孝1,2、田中 博也3、日塔 光一1,2、大野 真也3、田中 正俊3 (1.物材機構、2.筑波大数物、3.横国大院)
13:30 〜 15:30
〇Muhammad Monirul Islam1、Takeaki Sakurai1、Katsuhiro Akimoto1 (1.Tsukuba Univ.)
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