2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

セッション一覧

3 光・フォトニクス » 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

一般セッション(口頭講演)

[19a-S622-1~13] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

2016年3月19日(土) 09:00 〜 12:30 S622 (南6号館)

岩長 祐伸(物材機構)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[19p-S622-1~16] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

2016年3月19日(土) 14:00 〜 18:15 S622 (南6号館)

今北 健二(神戸大)、坂野 斎(山梨大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[20a-S622-1~11] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

2016年3月20日(日) 09:15 〜 12:15 S622 (南6号館)

久保 若奈(農工大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[20p-S622-1~19] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

2016年3月20日(日) 13:45 〜 19:00 S622 (南6号館)

松井 裕章(東大)、西田 宗弘(広島大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(ポスター講演)

[21p-P1-1~15] 3.12 ナノ領域光科学・近接場光学

2016年3月21日(月) 13:30 〜 15:30 P1 (屋内運動場)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

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