一般セッション(口頭講演)
21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
09:00 〜 09:15
〇桝谷 聡士1、佐々木 公平2,3、倉又 朗人2,3、上田 修4 (1.佐賀大院工、2.ノベルクリスタルテクノロジー、3.タムラ製作所、4.金沢工大)
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09:15 〜 09:30
〇山口 博隆1 (1.産総研)
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09:30 〜 09:45
〇山口 博隆1、倉又 朗人2 (1.産総研、2.ノベルクリスタル)
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09:45 〜 10:00
〇(B)片桐 英鉄1、森林 朋也1、佐々木 公平2,3、川崎 克己4、平林 潤4、倉又 朗人2,3、嘉数 誠1 (1.佐賀大院工、2.ノベルクリスタルテクノロジー、3.タムラ製作所、4.TDK)
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10:15 〜 10:30
〇伊藤 利充1、尾崎 康子1、富岡 泰秀1、渡邊 幸志1 (1.産総研)
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10:30 〜 10:45
リンガパルティ ラビキラン1、中田 義昭1、倉又 朗人2、山腰 茂伸2、〇東脇 正高1 (1.情通研機構、2.タムラ製作所)
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10:45 〜 11:00
〇李 政洙1、若林 諒1、吉松 公平1、加渡 幹尚2、大友 明1,3 (1.東工大物質理工学院、2.トヨタ自動車、3.元素戦略)
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11:00 〜 11:15
〇中込 真二1、安田 隆1、國分 義弘1 (1.石巻専修大理工)
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11:15 〜 11:30
〇中込 真二1、佐々木 光1、目黒 真也1、國分 義弘1 (1.石巻専修大理工)
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