一般セッション(口頭講演)
合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
2019年9月20日(金) 09:00 〜 12:15 B31 (B31)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇(D)曲 勇作1、増田 健太郎1、牧野 久雄1,2、古田 守1,2 (1.高知工科大、2.高知工科大総研)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇清水 耕作1 (1.日大生産工(院))
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇是友 大地1、古田 守1,2 (1.高知工科大、2.高知工科大総研)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇上野 充1、半那 拓1、小林 大士1、新井 真1、清田 淳也1 (1.アルバック)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇(M1C)森 海1、是友 大地1、河野 守哉1、古田 守1,2 (1.高知工科大、2.総研)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
〇(M1C)神寳 健太1、是友 大地1、古田 守1、川嶋 絵美2、霍間 勇輝2 (1.高知工科大、2.出光興産)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇高橋 崇典1、藤井 茉美1、宮永 美紀2、Bermundo Juan Paolo1、石河 泰明1、浦岡 行治1 (1.奈良先端大、2.住友電気工業株式会社)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇橋間 裕貴1、髙橋 崇典1、石河 泰明1、浦岡 行治1 (1.奈良先端大)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇小林 陸1,2、生田目 俊秀2、栗島 一徳2,3、女屋 崇1,2,4、大井 暁彦2、池田 直樹2、長田 貴弘2、塚越 一仁2、小椋 厚志1 (1.明大理工、2.物材機構 MANA、3.学振PD、4.学振DC)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
〇Ployrung Kesorn1、Juan Paolo Bermundo1、Naofumi Yoshida2、Toshiaki Nonaka2、Mami N. Fujii1、Yasuaki Ishikawa1、Yukiharu Uraoka1 (1.Nara Institute of Science and Technology、2.Merck Performance Material Ltd.)
スケジュール
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11:45 〜 12:00
〇(M2)Aimi Syairah Safaruddin1、Juan Paolo Bermundo1、Naofumi Yoshida2、Toshiaki Nonaka2、Mami N. Fujii1、Yasuaki Ishikawa1、Yukiharu Uraoka1 (1.NAIST for Nara Institute of Science and Technology、2.MERCK for Merck Performance Materials Ltd.)
スケジュール
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12:00 〜 12:15
〇(D)Dianne Cabrejas Corsino1、Juan Paolo Bermundo1、Mami Fujii1、Yasuaki Ishikawa1、Hiroshi Ikenoue2、Yukiharu Uraoka1 (1.NAIST、2.Kyushu Univ.)
スケジュール
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