シンポジウム(口頭講演)
[10p-W933-1~9] 新デバイス・材料開発のためのナノスケール2次元/3次元分析(II)
2019年3月10日(日) 13:30 〜 17:45 W933 (W933)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:30 〜 14:00
〇臼田 宏治1 (1.東芝メモリ)
14:00 〜 14:15
〇横町 伝1、 院南 晧一1、 小林 圭1、 山田 啓文1 (1.京大工)
14:15 〜 14:45
戸野 博史1、 木村 邦子1、 小林 圭1、 〇山田 啓文1 (1.京大院工)
14:45 〜 15:15
〇辻 俊宏1 (1.東北大)
15:15 〜 15:30
〇李 智蓮1、 Kim Jeong Rae2,3、 Mun Junsik2,4、 Kim Yoonkoo2,4、 Shin Yeong Jae2,3、 Kim Bongju2,3、 Das Saikat2,3、 Wang Lingfei2,3、 Kim Miyoung2,4、 Kim Tae Heon5、 Noh Tae Won2,3、 リップマー ミック1 (1.東大物性研、2.CCES, IBS、3.ソウル大物理天文学部、4.ソウル大新素材研、5.蔚山大)
15:45 〜 16:15
〇長谷川 正樹1、 小林 健二1、 兼岡 則幸1、 尾方 智彦1、 大平 健太郎1、 川上 和弘1、 郡司 毅志1、 小貫 勝則1 (1.日立ハイテク)
16:15 〜 16:45
〇筒井 一生1、 松下 智裕2、 名取 鼓太郞1、 小川 達博1、 室 隆桂之2、 森川 良忠3、 星井 拓也1、 角嶋 邦之1、 若林 整1、 林 好一4、 松井 文彦5、 木下 豊彦2 (1.東工大、2.高輝度光科学研究センター、3.阪大、4.名工大、5.分子研)
16:45 〜 17:15
〇山下 良之1 (1.物材件)
17:15 〜 17:45
〇表 和彦1、 伊藤 義泰1 (1.リガクX線研究所)