2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

セッション一覧

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

一般セッション(口頭講演)

[19p-W321-1~14] 3.7 レーザープロセシング

2016年3月19日(土) 13:30 〜 17:30 W321 (西2・3号館)

石川 善恵(産総研)、和田 裕之(東工大)、池上 浩(九大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[20a-W321-1~10] 3.7 レーザープロセシング

2016年3月20日(日) 09:00 〜 11:45 W321 (西2・3号館)

坂倉 政明(京大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

11:00 〜 11:15

山崎 正瑛1、 下垣 哲也1、 小田 晃司1、 Iyamperumal Palani2、 中村 大輔1、 東畠 三洋1、 中田 芳樹3、 池上 浩1、 Nilesh Vasa4、 岡田 龍雄1 (1.九大シス情、2.インド工科大学インドール校、3.阪大レーザー研、4.インド工科大学マドラス校)

一般セッション(口頭講演)

[21a-W321-1~12] 3.7 レーザープロセシング

2016年3月21日(月) 09:00 〜 12:15 W321 (西2・3号館)

花田 修賢(弘前大)、玉木 隆幸(奈良高専)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(ポスター講演)

[21p-P14-1~7] 3.7 レーザープロセシング

2016年3月21日(月) 16:00 〜 18:00 P14 (屋内運動場)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

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