一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
2018年9月19日(水) 15:00 〜 18:45 CE (センチュリーホール)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
15:00 〜 15:30
〇藤倉 序章1、今野 泰一郎1、吉田 丈洋1、堀切 文正1 (1.サイオクス)
スケジュール
いいね！
)
15:30 〜 15:45
〇平岩 篤1,4、大久保 智2、堀川 清貴2、川原田 洋2,3 (1.早大ナノ・ライフ、2.早大理工、3.早大材研、4.名大未来研)
スケジュール
いいね！
)
15:45 〜 16:00
〇及木 達矢1、橋詰 保1 (1.北大量集セ)
スケジュール
いいね！
)
16:00 〜 16:15
〇金木 奨太1、橋詰 保1 (1.北大量集セ)
スケジュール
いいね！
)
16:15 〜 16:30
〇山田 高寛1、寺島 大貴1、野崎 幹人1、山田 永2、高橋 言諸2、清水 三聡2、吉越 章隆3、細井 卓治1、志村 考功1、渡部 平司1 (1.阪大院工、2.産総研、3.原子力機構)
スケジュール
いいね！
)
16:30 〜 16:45
〇山田 高寛1、寺島 大貴1、野崎 幹人1、山田 永2、高橋 言諸2、清水 三聡2、細井 卓治1、志村 考功1、渡部 平司1 (1.阪大院工、2.産総研)
スケジュール
いいね！
)
17:00 〜 17:15
〇齋藤 進1、高橋 和照1、Salmon Michael E.2、新宮 一恵1 (1.ナノサイエンス(株)、2.EAG Inc.)
スケジュール
いいね！
)
17:15 〜 17:30
〇櫻井 秀樹1,2,3、山田 真嗣1,2,3、大森 雅登1、古川 幸弘3、鈴木 英夫3、Boćkowski Michał1,4、須田 淳1,2、加地 徹1 (1.名大 未来材料・システム研究所、2.名大院工、3.(株)アルバック 半電研、4.UNIPRESS)
スケジュール
いいね！
)
17:30 〜 17:45
〇花房 宏明1、東 清一郎1、塩崎 宏司2 (1.広大先端研、2.名大未来・システム研)
スケジュール
いいね！
)
17:45 〜 18:00
〇前川 順子1、川野輪 仁1、青木 正彦1、高廣 克己2、一色 俊之2 (1.1.㈱イオンテクノセンター、2.2.京都工芸繊維大学)
スケジュール
いいね！
)
18:00 〜 18:15
〇福田 清貴1,2、高島 信也3、尾沼 猛儀2、山口 智広2、本田 徹2、上殿 明良4、角谷 正友1 (1.物材機構、2.工学院大、3.富士電機、4.筑波大)
スケジュール
いいね！
)
18:15 〜 18:30
〇福田 清貴1,2、浅井 祐哉3、関 慶祐4、Sang Liwen1、吉越 章隆5、上殿 明良3、石垣 隆正4、尾沼 猛儀2、山口 智広2、本田 徹2、角谷 正友1 (1.物材機構、2.工学院大、3.筑波大、4.法政大、5.原子力機構)
スケジュール
いいね！
)
18:30 〜 18:45
〇高橋 昌大1、田中 敦之2,3、宇佐美 茂佳1、安藤 悠人1、出来 真斗2、久志本 真希1、新田 州吾2、本田 善央2、天野 浩2,3,4,5 (1.名大院工、2.名大未来材料・システム研究所、3.物質・材料研究機構、4.名大赤﨑記念研究センター、5.名大VBL)
スケジュール
いいね！
)
要旨・抄録、PDFの閲覧には参加者用アカウントでのログインが必要です。参加者ログイン後に閲覧・ダウンロードできます。
» 参加者用ログイン