一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術
2018年3月17日(土) 13:45 〜 18:15 F206 (61-206)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇Mengnan Ke1、Kimihiko Kato1、Mitsuru Takenaka1、Shinichi Takagi1 (1.Tokyo Univ.)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇Wang Xu1、Tomonori Nishimura1、Takeaki Yajima1、Akira Toriumi1 (1.Tokyo Univ.)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇竹村 千里1、柴山 茂久1、西村 知紀1、矢嶋 赳彬1、鳥海 明1 (1.東大工)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇(D)Weichen Wen1、Taisei Sakaguchi1、keisuke Yamamoto1、Dong Wang1、Hiroshi Nakashima2 (1.IGSES, Kyushu Univ.、2.GIC, Kyushu Univ.)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇野間 勇祐1、宋 宇振1、西村 知紀1、矢嶋 赳彬1、鳥海 明1 (1.東大院工)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇和知 祥太郎1、岩崎 好孝1、上野 智雄1、北原 義典1、山田 浩史1、並木 美太郎1 (1.農工大院工)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇藤原 遥香1、岩崎 好孝1、上野 智雄1、山田 浩史1、並木 美太郎1 (1.農工大院工)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇古荘 仁久1、高山 恭一1、山本 圭介2、中島 寛3、野平 博司4、金島 岳1 (1.阪大基礎工、2.九大総合理工学研究院、3.九大GIC、4.東京都市大工)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇首藤 広大1、吉仲 泰萌1、末政 涼1、河原崎 光2、青山 敬幸2、加藤 慎一2、奈良 安雄1 (1.兵県大工、2.(株)SCREENセミコンダクターソリューションズ)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇大場 裕貴1、野中 理帆1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.農工大工)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇(M1)森 優樹1、柴山 茂久1、矢嶋 赳彬1、西村 知紀1、右田 真司2、鳥海 明1 (1.東大院工、2.産総研)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇右田 真司1、太田 裕之1、山田 浩之1、渋谷 圭介1、澤 彰仁1、松川 貴1、鳥海 明2 (1.産総研、2.東大工)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇柴山 茂久1、西村 知紀1、右田 真司2、鳥海 明1 (1.東大院工、2.産総研)
スケジュール
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17:15 〜 17:30
〇柴山 茂久1、西村 知紀1、右田 真司2、鳥海 明1 (1.東大院工、2.産総研)
スケジュール
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17:30 〜 17:45
〇(M2)女屋 崇1,2、生田目 俊秀2,3、澤本 直美1、大井 暁彦2、池田 直樹2、知京 豊裕2、小椋 厚志1 (1.明治大学、2.物質・材料研究機構、3.CREST, JST)
スケジュール
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17:45 〜 18:00
〇(DC)Xuan Tian1、Shigehisa Shibayama1、Tomonori Nishimura1、Takeaki Yajima1、Shinji Migita2、Akira Toriumi1 (1.Univ. of Tokyo、2.AIST)
スケジュール
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18:00 〜 18:15
〇藤村 信幸1、大田 晃生1、池田 弥央1、牧原 克典1、宮崎 誠一1 (1.名大院工)
スケジュール
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