13:45 〜 14:00
〇平岩 篤1,2、大久保 智3、堀川 清貴3、川原田 洋1,3,4 (1.早大ナノ・ライフ、2.名大未来研、3.早大理工、4.早大材研)
一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
2018年3月18日(日) 13:45 〜 19:00 C302 (52-302)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇平岩 篤1,2、大久保 智3、堀川 清貴3、川原田 洋1,3,4 (1.早大ナノ・ライフ、2.名大未来研、3.早大理工、4.早大材研)
14:00 〜 14:15
〇(M2)小嶋 英嗣1、長川 健太1、白川 裕規1、洗平 昌晃1,2、白石 賢二1,2 (1.Nagoya University、2.Institute of Materials and System for Sustainability)
14:15 〜 14:30
〇出来 真斗1、曾根 和詩2、永松 謙太郎1、田中 敦之1,3、久志本 真希2、新田 州吾1、本田 善央1、天野 浩1,4,5 (1.名大 未来材料・システム研、2.名大院工、3.物材機構、4.名大 赤﨑記念研究センター、5.名大VBL)
14:30 〜 14:45
〇及木 達矢1、橋詰 保1 (1.北大量集センター)
14:45 〜 15:00
〇金木 奨太1、橋詰 保1 (1.北大量集セ)
15:00 〜 15:15
〇長川 健太1、成田 哲生2、菊田 大悟2、加地 徹3、塩崎 宏司3、白石 賢二3,1 (1.名大院工、2.豊田中研、3.名大・IMaSS)
15:15 〜 15:30
〇野崎 幹人1、寺島 大貴1、渡邉 健太1、山田 高寛1、吉越 章隆2、細井 卓治1、志村 考功1、渡部 平司2 (1.阪大院工、2.原子力機構)
15:30 〜 15:45
〇山田 高寛1、寺島 大貴1、渡邉 健太1、野崎 幹人1、山田 永2、高橋 言諸2、清水 三聡2、吉越 章隆3、細井 卓治1、志村 孝功1、渡部 平司1 (1.阪大院工、2.産総研、3.原子力機構)
16:00 〜 16:15
〇嘉数 誠1、深見 成1、石松 裕真1、桝谷 聡士1、大石 敏之1、藤居 大樹2、金 聖佑2 (1.佐賀大院工、2.アダマンド並木精密宝石株式会社)
16:15 〜 16:30
サハ ニロイ チャンドラ1、〇嘉数 誠1 (1.佐賀大院工)
16:30 〜 16:45
深見 成1、網代 康佑1、〇大石 敏之1、河野 直士1、荒木 幸二1、桝谷 聡士1、嘉数 誠1 (1.佐賀大)
16:45 〜 17:00
木瀬 信和1、〇青沼 遼介1、宮本 恭幸1 (1.東工大工)
17:00 〜 17:15
〇山田 友輝1、魚本 幸2、島津 武仁2、名田 允洋1、中島 史人1、松崎 松崎1 (1.NTT先端集積デバイス研、2.東北大学)
17:30 〜 17:45
〇佐々木 公平1,2、ティユ クァン トゥ1、脇本 大樹1,2、小石川 結樹1,2、高塚 章夫1、倉又 朗人1,2、山腰 茂伸1,2 (1.ノベルクリスタルテクノロジー、2.タムラ製作所)
17:45 〜 18:00
〇(M1)ChenYi Su1、Takuya Hoshii1、Iriya Muneta1、Hitoshi Wakabayashi1、Kazuo Tsutsui1、Hiroshi Iwai1、Kuniyuki Kakushima1 (1.Tokyo Institute of Technology)
18:00 〜 18:15
〇有馬 潤1、平林 潤1、藤田 実1、井ノ口 大輔1、佐々木 公平2,3、倉又 朗人2,3、福光 由章1 (1.TDK、2.ノベルクリスタルテクノロジー、3.タムラ製作所)
18:15 〜 18:30
〇林 家弘1、八田 直記2、小西 敬太3、渡辺 信也4、倉又 朗人4、八木 邦明2、東脇 正高1 (1.情通機構、2.サイコックス、3.東京農工大院工、4.タムラ製作所)
18:30 〜 18:45
〇ManHoi Wong1、Yoji Morikawa2、Masataka Higashiwaki1 (1.NICT、2.Silvaco Japan)
18:45 〜 19:00
〇ManHoi Wong1、Ken Goto2,3、Akito Kuramata2、Shigenobu Yamakoshi2、Hisashi Murakami3、Yoshinao Kumagai3、Masataka Higashiwaki1 (1.NICT、2.Tamura Corp.、3.Tokyo Univ. Agricul. Technol.)
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