一般セッション(口頭講演)
[18a-B201-1~8] 3.15 シリコンフォトニクス
2018年3月18日(日) 09:30 〜 11:45 B201 (53-201)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
09:30 〜 09:45
〇北 翔太1,2、 新家 昭彦1,2、 野崎 謙悟1,2、 コン グアンウェイ3、 山田 浩治3、 納富 雅也1,2 (1.NTTナノフォトニクスセンタ、2.NTT物性研、3.産総研)
09:45 〜 10:00
〇北 翔太1,2、 野崎 謙悟1,2、 高田 健太1,2、 新家 昭彦1,2、 納富 雅也1,2 (1.NTTナノフォトニクスセンタ、2.NTT物性研)
10:00 〜 10:15
〇阿部 紘士1、 馬場 俊彦1 (1.横国大・院工)
10:15 〜 10:30
〇竹内 梧朗1、 寺田 陽祐1、 阿部 紘士1、 伊藤 寛之1、 馬場 俊彦1 (1.横国大院工)
10:45 〜 11:00
〇鉄矢 諒1、 阿部 紘士1、 馬場 俊彦1 (1.横国大院工)
11:00 〜 11:15
〇古門 優弥1、 阿部 紘士1、 雛倉 陽介1、 馬場 俊彦1 (1.横浜国大・院工)
11:15 〜 11:30
〇伊藤 寛之1、 建部 知紀1、 阿部 紘士1、 馬場 俊彦1 (1.横国大院工)
11:30 〜 11:45
〇伊藤 寛之1、 馬場 俊彦1 (1.横国大院工)