一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術
2019年9月19日(木) 09:00 〜 12:15 E305 (E305)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇和光 拓人1、仮屋崎 弘昭2、黒田 周1、宮本 聡1、藤森 洋行2、遠藤 哲郎3,4、伊藤 公平1 (1.慶大理工、2.グローバルウェーハズ・ジャパン、3.東北大CIES、4.JST-ACCEL)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇尹 尚希1、加藤 公彦1、横山 千晶1、安 大煥1、竹中 充1、高木 信一1 (1.東京大学)
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09:30 〜 09:45
〇草深 一樹1、Sunglin Tsai1、星井 拓也1、若林 整1、筒井 一生2、角嶋 邦之1 (1.東工大工学院、2.東工大科学技術創成研究院)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇原田 和輝1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.東京農工大学院工)
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10:00 〜 10:15
〇野平 博司1、和⽥ 励虎1、保井 晃2、宮田 典幸3 (1.都市大工、2.高輝度光科学研究センター、3.産総研)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
〇浅沼 周太郎1、住田 杏子1、宮口 有典2、堀田 和正2、神保 武人2、齋藤 一也2、宮田 典幸1 (1.産総研、2.アルバック)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇寺垣 亮太1、小林 晃平1、吉田 晴彦1、新船 幸二1、神吉 滉輝夫2、堀田 育志1 (1.兵県大工、2.阪大産研)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇小林 滉平1、寺垣 亮太1、吉田 晴彦1、新船 幸二1、堀田 育志1 (1.兵庫県立工)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇山口 まりな1、藤井 章輔1、株柳 翔一1、上牟田 雄一1、井野 恒洋1、中崎 靖1、高石 理一郎1、市原 玲華1、齋藤 真澄1 (1.東芝メモリ)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
〇トープラサートポン カシディット1、田原 建人1、福井 太一郎1、竹中 充1、高木 信一1 (1.東大工)
スケジュール
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11:45 〜 12:00
〇田原 建人1、加藤 公彦1、トープラサートポン カシディット1、竹中 充1、高木 信一1 (1.東京大学)
スケジュール
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12:00 〜 12:15
〇(M2)Chenyu Liao1、Kasidit Toprasertpong1、Taichirou Fukui1、Mitsuru Takenaka1、Shinichi Takagi1 (1.The Univ. of Tokyo)
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