一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術
2019年9月19日(木) 13:45 〜 17:45 E305 (E305)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇飯岡 暁1、蓮沼 隆1 (1.筑波大)
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14:00 〜 14:15
〇久山 智弘1、占部 継一郎1、江利口 浩二1 (1.京大院工)
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14:15 〜 14:30
〇萩原 崇之1、亀田 直人1、三浦 敏徳1、森川 良樹1、花倉 満1、小杉 亮治2、中村 健2、野中 秀彦2 (1.明電舎、2.産総研)
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14:30 〜 14:45
〇鈴木 俊哉1、Holm Niklas1、Kilpi Väinö1、Blomberg Tom1 (1.Picosun Oy)
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14:45 〜 15:00
〇HuaHsuan Chen1、Bei Bei Ge1、Susumu Toko1、Daisuke Ohori1、Takuya Ozaki1、Tomohiro Kubota2、Mitsuya Utsuno2、Toshihisa Nozawa2、Seiji Samukawa3 (1.IFS,Tohoku Univ.、2.ASM Japan K.K.、3.AIMR, Tohoku Univ.)
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15:00 〜 15:15
〇YuWei Lin1、Jinhan Song1、Takuya Hoshii1、Hitoshi Wakabayashi1、Kazuo Tsutsui2、Kuniyuki Kakushima1 (1.Tokyo Tech. School of Eng.、2.Tokyo Tech. IIR)
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15:15 〜 15:30
〇宋 ジンハン1、太田 惇丈1、星井 拓也1、若林 整1、筒井 一生2、角嶋 邦之1 (1.東工大工学院、2.東工大科学技術創成研究院)
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15:30 〜 15:45
〇太田 惇丈1、宋 禛漢1、星井 拓也1、若林 整1、筒井 一生2、角嶋 邦之1 (1.東工大工学院、2.東工大科学技術創成研究院)
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16:00 〜 16:15
〇(M2)所附 武志1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.東京農工大院工)
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16:15 〜 16:30
〇豊田 健一郎1、渡邊 龍一郎1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.農工大院工)
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16:30 〜 16:45
〇渡邉 龍一郎1、豊田 健一郎1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.農工大院工)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇(M1)堀口 遥1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.東京農工大院工)
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17:00 〜 17:15
〇TsungEn Lee1、Kasidit Toprasertpong1、Mitsuru Takenaka1、Shinichi Takagi1 (1.The Univ. of Tokyo)
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17:15 〜 17:30
〇(M2)井芹 健人1、温 偉辰1、山本 圭介1、王 冬1、中島 寛2 (1.九大総理工、2.九大・グローバルイノベーションセンター)
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17:30 〜 17:45
〇(DC)Weichen Wen1、Keisuke Yamamoto1、Dong Wang1、Hiroshi Nakashima2 (1.IGSES, Kyushu Univ.、2.GIC, Kyushu Univ.)
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