2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

セッション一覧

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

一般セッション(口頭講演)

[18a-N304-1~8] 3.7 レーザープロセシング

2019年9月18日(水) 09:30 〜 11:45 N304 (N304)

中村 大輔(九大)、中嶋 隆(京大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[18p-N304-1~15] 3.7 レーザープロセシング

2019年9月18日(水) 13:15 〜 17:30 N304 (N304)

吉川 洋史(埼玉大)、小幡 孝太郎(理研)、安國 良平(奈良先端大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

14:45 〜 15:00

〇(P)飯野 敬矩1,2、 岡野 和宣1、 S. W. Lee2、 山川 健1、 萩原 宏規1、 Hong Zhen-Yi1、 前野 貴則1、 笠井 宥佑3、 佐久間 臣耶3、 早川 健3,4、 新井 史人3、 小関 泰之2、 合田 圭介2,5,6、 細川 陽一郎1 (1.奈良先端大物質、2.東大院、3.名大院工、4.中央大理工、5.JST、6.武漢大)

17:15 〜 17:30

〇(B)高橋 秀実1、 池山 潤2、 山地 真由2、 小林 成貴2、 丸山 美帆子3、 中嶋 誠4、 岡田 修司5、 吉村 政志4、 森 勇介3、 中林 誠一郎2、 吉川 洋史2 (1.埼大理化、2.埼大院理工、3.阪大院工、4.阪大レーザー研、5.山形大院有機)

一般セッション(口頭講演)

[19a-N304-1~10] 3.7 レーザープロセシング

2019年9月19日(木) 09:00 〜 11:45 N304 (N304)

石川 善恵(産総研)、欠端 雅之(産総研)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[19p-E303-1~8] 3.7 レーザープロセシング

2019年9月19日(木) 15:45 〜 18:00 E303 (E303)

和田 裕之(東工大)、吉田 岳人(阿南高専)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(ポスター講演)

[19p-PA2-1~9] 3.7 レーザープロセシング

2019年9月19日(木) 13:30 〜 15:30 PA2 (第一体育館)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

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