一般セッション(口頭講演)
[16p-Z26-1~15] CS.5 6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス/配線/集積化技術のコードシェアセッション
2021年3月16日(火) 13:30 〜 17:30 Z26 (Z26)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:30 〜 13:45
〇莫 非1、 更屋 拓哉1、 平本 俊郎1、 小林 正治1 (1.東大生産研)
13:45 〜 14:00
〇FEI MO1、 Takuya Saraya1、 Toshiro Hiramoto1、 Masaharu Kobayashi1 (1.Institute of Industrial Science, the University of Tokyo)
14:00 〜 14:15
〇(M2)項 嘉文1、 張 文馨2、 更屋 拓哉1、 入沢 寿史2、 平本 俊郎1、 小林 正治1 (1.東大生研、2.産総研)
14:15 〜 14:30
〇トープラサートポン カシディット1、 田原 建人1、 福井 太一郎1、 林 早阳1、 渡辺 耕坪1、 竹中 充1、 高木 信一1 (1.東大工)
14:30 〜 14:45
〇田原 建人1、 トープラサートポン カシディット1、 竹中 充1、 高木 信一1 (1.東大工)
14:45 〜 15:00
〇(P)Jixuan Wu1、 Fei Mo1、 Takuya Saraya1、 Toshiro Hiramoto1、 Masaharu Kobayashi1 (1.IIS, Univ. of Tokyo)
15:00 〜 15:15
〇(D)Siri Nittayakasetwat1、 Koji Kita1 (1.Univ. of Tokyo)
15:15 〜 15:30
〇籾山 陽紀1、 Nittayakasetwat Siri1、 喜多 浩之1 (1.東大マテ工)
15:45 〜 16:00
〇女屋 崇1,2,3,4、 生田目 俊秀2、 Jung Yong Chan3、 Hernandez-Arriaga Heber3、 Mohan Jaidah3、 Kim Harrison S.3、 澤本 直美5、 Nam Chang-Yong6、 Tsai Esther H. R.6、 長田 貴弘2、 Kim Jiyoung3、 小椋 厚志1,5 (1.明大理工、2.物材機構、3.UT Dallas、4.学振DC、5.明大 MREL、6.Brookhaven National Lab.)
16:00 〜 16:15
〇和泉 賢人1、 高橋 響1、 河原崎 光2、 谷村 英昭2、 加藤 慎一2、 奈良 安雄1 (1.兵庫県大工、2.SCREENセミコン)
16:15 〜 16:30
〇永野 丞太郎1、 柴山 茂久1、 坂下 満男1、 中塚 理1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)
16:30 〜 16:45
〇平永 良臣1、 三村 和仙2、 清水 荘雄2、 舟窪 浩2、 長 康雄1 (1.東北大、2.東工大)
16:45 〜 17:00
〇(DC)Mohit Mohit1、 Shinji Migita2、 Hiroyuki Ota2、 Yukinori Morita2、 Eisuke Tokumitsu1 (1.JAIST、2.AIST)
17:00 〜 17:15
〇尾内 惇平1、 藤沢 浩訓1、 中嶋 誠二1 (1.兵庫県立大工)
17:15 〜 17:30
〇(M1)藤原 悠希1、 大西 潤哉1、 西中 浩之1、 吉本 昌広1、 野田 実1 (1.京工繊大)