MMIJ & EARTH 2017, Sapporo

Presentation information (2017/08/24 Ver.)

Poster (MMIJ Students and Young Researchers)

Environment

Tue. Sep 26, 2017 3:30 PM - 5:30 PM Poster Room1, Seminar Room & Foyer (Fl.2.,Build.Frontier, Seminar Room2 & Foyer)

3:30 PM - 5:30 PM

[PY1-28] Removal of arsenic using ultrasound oxidation and layered double hydroxide

○Yasuyuki Tanaka1, Hirokazu Okawa1, Yuya Takahashi1, Takahiro Kato1, Katsuyasu Sugawara1 (1. Akita university)

Keywords:arsenic, ultrasound, oxidation, layered double hydroxide, removal

ヒ素は,人体に有害である。溶液中に含まれている場合,除去を行う必要がある。ヒ素の除去は,鉄系酸化物による吸着除去や水酸化鉄の生成に伴う共沈が知られている。この際,ヒ素は,亜ヒ酸よりヒ酸の方が除去しやすいことから,通常,酸化処理が施される。我々は,超音波による酸化を検討してきた。超音波は,強い酸化作用をもつヒドロキシラジカルを生成するため,酸性条件下においても亜ヒ酸を酸化することが可能である。しかしながら,欠点として空気雰囲気下で超音波を利用すると,硝酸が生成し,溶液のpHが低下する。処理溶液が中性であった場合,照射後に中和が必要となる。そこで我々は,層状複水酸化物(LDH)に着目した。LDHは,水酸化物シートで層を構成し,イオン交換及び表面吸着によってヒ素を除去できる材料である。また,焼成を行うことによって層が縮合脱水し,水酸化物が酸化物へと変化する。この酸化物は,溶液に添加した際,再水和反応によりOH-を放出する。今回,焼成したLDHのヒ酸吸着性能とpH緩衝作用について調べた。また超音波照射と焼成したLDHを用いて亜ヒ酸を酸化・除去し,処理溶液のpH変化,ヒ素の除去率について確認した。

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