一般セッション(口頭講演)

[28p-B2-1~13] 7.3 リソグラフィ

2013年3月28日(木) 13:30 〜 17:00 B2 (K2号館 3F-1302)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

[28p-B2-1] ｢講演奨励賞受賞記念講演｣（15分）
集束イオンビーム実時間照射量制御によるオーバーハング微細構造の長尺作製 (1:30 PM ～ 1:45 PM)

^○郭登極，米谷玲皇，割澤伸一，石原直 (東大工)

^○山崎謙治，山口浩司 (NTT物性基礎研)

^○小島明^1,2，池上尚克²，吉田孝³，宮口裕³，大井英之¹，越田信義²，江刺正喜³ (クレステック¹，農工大工²，東北大工³)

^○堀内敏行，鈴木岳，小林宏史 (東京電機大院工)

^○角田和之¹，杉大作¹，松井繁²，江畠佳定²，渡邉哲也²，長谷川昇雄² (日立製作所ＭＤ事¹，日立ハイテク²)

^○妹川要，熊崎貴仁，渡部義信，對馬弘朗，柿崎弘司，黒須昭彦，松永隆，溝口計 (ギガフォトン)

^○宮田隆司，佐々木陽一，浅山武志，増田浩幸，熊崎貴仁，對馬弘朗，黒須昭彦，柿崎弘司，松永隆，溝口計 (ギガフォトン)

^○齊藤誠二¹，松田卓也¹，石黒啓太¹，高橋聖司¹，河野昭彦¹，関口淳²，谷口克人³，田中初幸³，堀邊英夫¹ (金沢工大¹，リソテックジャパン²，AZエレクトロニックマテリアルズ³)

^○渡邊健夫¹，江村和也¹，塩野大寿²，春山雄一¹，大森克美²，佐藤和史²，原田哲男¹，木下博雄¹ (兵庫県立大高度研¹，東京応化工業²)

^○Juliusjoseph Santillan，井谷俊郎 (EUVL基盤開発センター)

^○永田豊^1,2,3，原田哲男^2,3，中筋正人²，木下博雄^1,2,3，緑川克美¹ (理研基幹研¹，兵庫県立大²，JST CREST³)

^○中筋正人^1,3，九鬼真輝^1,3，原田哲男^1,3，永田豊^2,3，渡邊健夫^1,3，緑川克美²，木下博雄^1,3 (兵庫県立大¹，理化学研究所²，JST-CREST³)

^○田中祐輔¹，原田哲男¹，渡邊健夫¹，臼井洋一²，木下博雄¹ (兵庫県立大¹，EUVL基盤開発センター²)