一般セッション(口頭講演)

[17a-F4-1~11] 7.6 イオンビーム一般

2014年3月17日(月) 09:30 〜 12:30 F4 (F304)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

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09:30 〜 09:45

[17a-F4-1] イオンビームスパッタ成膜とリフトオフプロセスによる10nm微細金属パターンの形成

^○三輪和弘，西村高志，土田智之，杉山嘉也，小島靖彦，伊藤高臣，永井佐利 (エリオニクス)

09:45 〜 10:00

[17a-F4-2] 集束イオンビームを用いたオールドライプロセスによるマイクロ流路デバイス作製プロセスの検討

^○（M2）安達正哲，吉田黎，柳沢淳一 (滋賀県立大工)

10:00 〜 10:15

[17a-F4-3] イオンビーム照射成膜によるc軸垂直配向希土類GaN薄膜の形成

^○鈴木雅視，柳谷隆彦 (名工大)

10:15 〜 10:30

[17a-F4-4] 石英ガラス表層の銀ナノ粒子による表面プラズモン電界を利用した二酸化チタン薄膜の光触媒活性の向上

^○辻博司，宮川豪，後藤康仁 (京大院工)

10:30 〜 10:45

[17a-F4-5] セシウム添加土壌において栽培された稲の分析

^○（PC）大石乾詞¹，坂本哲夫¹，川上勇²，奥村丈夫³ (工学院大工¹，阿藤工務店²，日本中性子光学³)

休憩 10:45〜11:00 （10:45 〜 11:00）

11:00 〜 11:15

[17a-F4-6] 4-MeV C⁴⁺イオンのガラス曲面間チャネル透過

^○本橋健次^1,3，齋藤勇一²，宮脇信正²，的場史朗²，鈴木優紀³ (東洋大理工¹，原子力機構高崎²，東洋大院工³)

11:15 〜 11:30

[17a-F4-7] 真空エレクトロスプレーを用いたSIMS用イオン液体ビーム源の開発

^○藤原幸雄，齋藤直昭 (産総研)

11:30 〜 11:45

[17a-F4-8] ヘリウムビームを用いたTOF-ERDA測定における深さ分解能

^○安田啓介¹，石神龍哉¹，中田吉則¹，日比章五² (若狭湾エネ研¹，豊田中研²)

11:45 〜 12:00

[17a-F4-9] 二段階引出によるTOF-SIMSの質量分解能向上

^○長嶋悟¹，坂本哲夫²，佐藤孝樹³，藤井正明³ (トヤマ¹，工学院大²，東工大³)

12:00 〜 12:15

[17a-F4-10] 低真空下における揮発性試料の二次イオン質量分析に関する検討

^○草刈将一，藤井麻樹子，瀬木利夫，青木学聡，松尾二郎 (京大)

12:15 〜 12:30

[17a-F4-11] 新しい二次イオン質量分析法を用いた生体試料中の脂質分析

^○藤井麻樹子，草刈将一，中川駿一郎，瀬木利夫，青木学聡，松尾二郎 (京大院工)

一般セッション(口頭講演)

[17p-F4-1~13] 7.6 イオンビーム一般

2014年3月17日(月) 14:00 〜 17:30 F4 (F304)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

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昼食 12:30〜14:00 （12:30 〜 14:00）

14:00 〜 14:15

[17p-F4-1] イオン液体 EMIM-N(CN)₂イオンビームの固体表面照射効果

濱口拓也，^○星出優輝，竹内光明，龍頭啓充，高岡義寛 (京大光電子理工セ)

14:15 〜 14:30

[17p-F4-2] C_nH_2n+1⁺多原子分子イオンビームによるガラス基板の表面処理

林恭平，^○竹内光明，龍頭啓充，高岡義寛 (京大光・電子理工セ)

14:30 〜 14:45

[17p-F4-3] 半経験的モデルによるガスクラスター生成特性の評価

^○高橋一匡¹，中島充夫²，長谷川純²，堀岡一彦²，佐々木徹¹，菊池崇志¹，阿蘇司¹，原田信弘¹ (長岡技大工¹，東工大総理工²)

14:45 〜 15:00

[17p-F4-4] 中性クラスター速度計測技術の開発

^○瀬木利夫¹，唐橋一浩²，青木学聡¹，松尾二郎¹ (京大院工¹，阪大院工²)

15:00 〜 15:15

[17p-F4-5] ガスクラスターイオンビームによる4H-SiC表面の室温酸化及び平坦化

^○日野浦諒¹，山口明良¹，児島誠¹，豊田紀章¹，原謙一²，山田公¹ (兵庫県立大院工学研究科¹，東京エレクトロン²)

15:15 〜 15:30

[17p-F4-6] ガスクラスターイオンビームによるRu薄膜の平坦化（Ｉ）

^○（M2）山口明良¹，稲葉賢二³，日野浦諒¹，豊田紀章¹，原謙一²，畠山望³，宮本明³，山田公¹ (兵県大院工¹，東京エレクトロン²，東北大未来科学技術共同研究センター³)

15:30 〜 15:45

△ [17p-F4-7] ガスクラスターイオンビームによるRu薄膜の平坦化（ＩＩ）

^○（M2）山口明良¹，日野浦諒¹，豊田紀章¹，原謙一²，山田公¹ (兵県大院工¹，東京エレクトロン²)

休憩 15:45〜16:00 （15:45 〜 16:00）

16:00 〜 16:15

[17p-F4-8] アセトンクラスターイオンビームのフォトレジストに対する照射効果

角元友樹，^○藤田朗人，龍頭啓充，竹内光明，高岡義寛 (京大光電子理工セ)

16:15 〜 16:30

[17p-F4-9] 固体表面への水クラスターイオン照射によるルミネッセンス

^○（M2）坂田彬¹，MusumeciFrancesco^1,2，龍頭啓充¹，竹内光明¹，高岡義寛¹ (京大光理工セ¹，Catania Univ.²)

16:30 〜 16:45

[17p-F4-10] 水クラスターイオンビーム照射によるSIMS分析

^○中川駿一郎¹，瀬木利夫^1,2，青木学聡^1,2，松尾二郎^1,2 (京大院工¹，JST-CREST²)

16:45 〜 17:00

[17p-F4-11] 希ガス及び分子性クラスターイオンビーム照射によるアミノ酸分子の二次イオン測定

^○井原一誠，盛谷浩右，金井政典，乾徳夫，持地広造 (兵県大)

17:00 〜 17:15

[17p-F4-12] ガスクラスターイオンビームによる有機多層膜の3D質量イメージング

^○若本恵佑，中川俊一郎，瀬木利夫，青木学聡，松尾二郎 (京大)

17:15 〜 17:30

[17p-F4-13] Arクラスターイオンビームを用いた細胞レベルの質量イメージング

^○鳥居聡太，瀬木利夫，青木学聡，松尾二郎 (京大院工)

一般セッション(ポスター講演)

[18a-PA4-1~3] 7.6 イオンビーム一般

2014年3月18日(火) 09:30 〜 11:30 PA4 (アリーナ)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

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09:30 〜 11:30

[18a-PA4-1] 角形状を持つ標的材料へのクラスターイオン衝突シミュレーション

^○青木学聡，瀬木利夫，松尾二郎 (京大工学研究科)

09:30 〜 11:30

[18a-PA4-2] 透明高分子膜表面へのナノ構造の室温形成と照射エネルギー依存性評価

^○野田匠利，GhoshPradip，SubramanianMunisamy，GhoshDebasish，ZulkifliZurita，土屋琢磨，岡部晋宜，安達俊二，平岡陽祐，GolapKalita，種村眞幸 (名工大院工)

09:30 〜 11:30

[18a-PA4-3] 酸素イオンビーム照射によって表面改質した高分子基板上の細胞接着

辻中諒，西出美穂，^○竹内光明，龍頭啓充，高岡義寛 (京大光電子理工セ)

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[17a-F4-1~11] 7.6 イオンビーム一般

[17a-F4-1] イオンビームスパッタ成膜とリフトオフプロセスによる10nm微細金属パターンの形成

[17a-F4-2] 集束イオンビームを用いたオールドライプロセスによるマイクロ流路デバイス作製プロセスの検討

[17a-F4-3] イオンビーム照射成膜によるc軸垂直配向希土類GaN薄膜の形成

[17a-F4-4] 石英ガラス表層の銀ナノ粒子による表面プラズモン電界を利用した二酸化チタン薄膜の光触媒活性の向上

[17a-F4-5] セシウム添加土壌において栽培された稲の分析

[17a-F4-6] 4-MeV C⁴⁺イオンのガラス曲面間チャネル透過

[17a-F4-7] 真空エレクトロスプレーを用いたSIMS用イオン液体ビーム源の開発

[17a-F4-8] ヘリウムビームを用いたTOF-ERDA測定における深さ分解能

[17a-F4-9] 二段階引出によるTOF-SIMSの質量分解能向上

[17a-F4-10] 低真空下における揮発性試料の二次イオン質量分析に関する検討

[17a-F4-11] 新しい二次イオン質量分析法を用いた生体試料中の脂質分析

[17p-F4-1~13] 7.6 イオンビーム一般

[17p-F4-1] イオン液体 EMIM-N(CN)₂イオンビームの固体表面照射効果

[17p-F4-2] C_nH_2n+1⁺多原子分子イオンビームによるガラス基板の表面処理

[17p-F4-3] 半経験的モデルによるガスクラスター生成特性の評価

[17p-F4-4] 中性クラスター速度計測技術の開発

[17p-F4-5] ガスクラスターイオンビームによる4H-SiC表面の室温酸化及び平坦化

[17p-F4-6] ガスクラスターイオンビームによるRu薄膜の平坦化（Ｉ）

△ [17p-F4-7] ガスクラスターイオンビームによるRu薄膜の平坦化（ＩＩ）

[17p-F4-8] アセトンクラスターイオンビームのフォトレジストに対する照射効果

[17p-F4-9] 固体表面への水クラスターイオン照射によるルミネッセンス

[17p-F4-10] 水クラスターイオンビーム照射によるSIMS分析

[17p-F4-11] 希ガス及び分子性クラスターイオンビーム照射によるアミノ酸分子の二次イオン測定

[17p-F4-12] ガスクラスターイオンビームによる有機多層膜の3D質量イメージング

[17p-F4-13] Arクラスターイオンビームを用いた細胞レベルの質量イメージング

[18a-PA4-1~3] 7.6 イオンビーム一般

[18a-PA4-1] 角形状を持つ標的材料へのクラスターイオン衝突シミュレーション

[18a-PA4-2] 透明高分子膜表面へのナノ構造の室温形成と照射エネルギー依存性評価

[18a-PA4-3] 酸素イオンビーム照射によって表面改質した高分子基板上の細胞接着