シンポジウム(口頭講演)
[20p-141-1~13] 強誘電HfO2技術の最新動向 ～プロセス・物性からデバイス・回路応用まで～
2018年9月20日(木) 13:30 〜 18:30 141 (141+142)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 14:00
〇舟窪 浩1、 清水 荘雄1、 三村 和仙1 (1.東工大 物院)
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14:00 〜 14:30
〇生田目 俊秀1、 女屋 崇1,2,3、 澤本 直美2、 大井 暁彦1、 池田 直樹1、 小椋 厚志2 (1.物材機構、2.明治大学、3.学振特別研究員DC)
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14:30 〜 15:00
〇鳥海 明1、 右田 真司2 (1.東大院工、2.産総研)
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15:00 〜 15:15
〇(M1)片岡 正和1、 Min Gee Kim1、 大見 俊一郎1 (1.東工大工)
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15:15 〜 15:30
〇(D)MinGee Kim1、 Shun-ichiro Ohmi1 (1.Tokyo Tech.)
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15:30 〜 15:45
〇木口 賢紀1、 白石 貴久1、 三村 和仙2、 清水 荘雄2、 舟窪 浩2、 今野 豊彦1 (1.東北大金研、2.東工大)
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15:45 〜 16:00
〇右田 真司1、 太田 裕之1、 渋谷 圭介1、 山田 浩之1、 澤 彰仁1、 松川 貴1、 鳥海 明2 (1.産総研、2.東大院工)
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16:15 〜 16:45
〇藤村 紀文1、 高田 賢志1、 吉村 武1 (1.大阪府大工)
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16:45 〜 17:15
〇太田 裕之1、 池上 努1、 服部 淳一1、 浅井 栄大1、 福田 浩一1、 遠藤 和彦1、 右田 真司1、 鳥海 明2 (1.産総研、2.東大工)
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17:15 〜 17:45
〇小林 正治1 (1.東大生研)
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17:45 〜 18:00
〇右田 真司1、 太田 裕之1、 山田 浩之1、 渋谷 圭介1、 澤 彰仁1、 松川 貴1、 鳥海 明2 (1.産総研、2.東大院工)
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18:00 〜 18:15
〇山口 まりな1、 藤井 章輔1、 株柳 翔一1、 上牟田 雄一1、 井野 恒洋1、 中崎 靖1、 高石 理一郎1、 市原 玲華1、 齋藤 真澄1 (1.東芝メモリ)
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18:15 〜 18:30
〇(D)FEI MO1、 Tagawa Yusaku1、 Saraya Takuya1、 Hiramoto Toshiro1、 Kobayashi Masaharu1 (1.Tokyo univ.)
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