一般セッション(口頭講演)
[18p-B403-1~19] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長
2018年3月18日(日) 13:15 〜 18:30 B403 (53-403)
尾崎 壽紀(関西学院大)、寺西 亮(九大)、一野 祐亮(名大)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:15 〜 13:30
〇元木 貴則1,5、 池田 周平1、 中村 新一2、 本田 元気3、 永石 竜起3、 土井 俊哉4,5、 下山 淳一1,5 (1.青学大理工、2.TEP、3.住友電工、4.京大院エネ科、5.JST-ALCA)
13:30 〜 13:45
〇作間 啓太1、 佐藤 迪夫1、 三浦 正志1 (1.成蹊大)
13:45 〜 14:00
〇奥 亮太1、 佐藤 迪夫1、 三浦 正志2、 衣斐 顕2、 中岡 晃一2、 和泉 輝郎2 (1.成蹊大理工、2.産業技術総合研究所)
14:00 〜 14:15
〇荒木 猛司1、 林 真理子1、 石井 宏尚1、 福家 浩之1 (1.東芝R&D)
14:15 〜 14:30
〇石井 宏尚1、 荒木 猛司1、 林 真理子1、 加藤 丈晴2、 横江 大作2、 吉田 竜視2、 西島 元3、 松本 明善3 (1.東芝R&D、2.JFCC、3.NIMS)
14:30 〜 14:45
〇森 大輔1、 Hu Jingwen1、 佐藤 祐喜1、 吉門 進三1 (1.同志社大院理工)
14:45 〜 15:00
〇田中 橘平1、 佐伯 夏海1、 田中 博美1、 松本 凌2,3、 高野 義彦2,3 (1.米子高専、2.物材機構、3.筑波大学)
15:15 〜 15:30
〇尾崎 壽紀1、 Qiang Li2 (1.関学大理工、2.BNL)
15:30 〜 15:45
〇Iida Kazumasa1、 カウフマンーヴァイス サンドラ2、 大村 泰斗1、 松本 拓也1、 タランティーニ キアラ3、 ヤロスンスキー ヤン3、 畑野 敬史1、 トーベン ボール2、 ランガー マルコ2、 ホルツアプフェル バーンハルド2、 ヘーニッシュ イェンツ2、 生田 博志1 (1.名大工、2.カールスルーエ工科大、3.米国立強磁場研)
15:45 〜 16:00
〇Iida Kazumasa1、 大村 泰斗1、 松本 拓也1、 畑野 敬史1、 生田 博志1 (1.名大工)
16:00 〜 16:15
〇Li Lei1,2、 Limin Li1、 Shasha Wang1、 Gaoyang Zhao1、 Jiqiang Jia1、 Yoshifumi Oshima2、 Lihua Jin3、 Chengshan Li3、 Pingxiang Zhang3 (1.Xian University of Technology、2.Japan Advanced Institute of Science and Technology、3.Northwest Institute for Nonferrous Metal Research)
16:15 〜 16:30
〇樋口 甲太郎1、 田所 朋1、 堀井 滋1、 土井 俊哉1、 一瀬 中2 (1.京大院エネ科、2.電中研)
16:30 〜 16:45
〇山口 滉太1、 廣瀬 勝敏1、 前田 啓貴1、 堀井 滋1,2、 一瀬 中2,3、 土井 俊哉1,2 (1.京大院エネ科、2.JST-ALCA、3.電中研)
17:00 〜 17:15
〇宮島 友博1、 寺西 亮1、 佐藤 幸生1、 金子 賢治1、 中村 美幸2、 Petrykin Valery2、 Lee Sergey2、 淡路 智3 (1.九大工、2.SuperOx Japan、3.東北大)
17:15 〜 17:30
〇(M1)澤田 陽平1、 尾形 直也1、 末光 優也1、 ジャー アロク1、 堀出 朋哉1、 松本 要1、 吉田 隆2、 淡路 智3 (1.九工大工、2.名古屋大、3.東北大)
17:30 〜 17:45
〇村瀬 剛毅1、 一野 祐亮1、 土屋 雄司1、 吉田 隆1 (1.名古屋大学)
17:45 〜 18:00
〇吉田 隆1、 田尻 修也1、 一野 祐亮1、 土屋 雄司1、 一瀬 中2 (1.名大工、2.電中研)
18:00 〜 18:15
〇加藤 寛樹1、 土屋 雄司1、 一野 祐亮1、 一瀬 中2、 吉田 隆1 (1.名大工、2.電中研)
18:15 〜 18:30
〇一野 祐亮1、 佐藤 俊1、 土屋 雄司1、 吉田 隆1 (1.名大工)