〇大久保 匠¹、 矢野 稔貴¹、 生野 孝¹ (1.東理大基工)

〇楢崎 友城¹、 金 大貴¹ (1.大阪市大院工)

〇(M1)平石 真也^1,2、 IJspeert Mark¹、 俵 毅彦^1,2,3、 足立 智⁴、 尾身 博雄^1,3、 後藤 秀樹¹ (1.NTT物性研、2.東京理科大、3.NTTナノフォトニクスセンタ、4.北海道大学)

〇(B)大宮 寛太¹、 松崎 亮典²、 藤澤 秀樹¹、 鍜治 怜奈²、 足立 智²、 笹倉 弘理² (1.北大工、2.北大院工)

〇(D)Lilin Xie¹、 Xiaona Zhang²、 Yoshifumi Oshima¹ (1.Japan Advanced Institute of Science and Technology、2.Beijing University of Technology)

〇市川 研佑¹、 利根川 啓希¹、 廣瀬 皓大¹、 三上 萌¹、 福山 聡史¹、 熊谷 佳郎¹、 渡辺 正裕¹ (1.東工大工学院)

〇(M1)三上 萌¹、 福山 聡史¹、 渡辺 正裕¹ (1.東工大工学院)

〇Dolf Timmerman¹、 Eichi Matsubara²、 Leyre Gomez³、 Masaaki Ahida¹、 Tom Gregorkiewicz^3,1、 Yasufumi Fujiwara¹ (1.Osaka Univ.、2.Osaka Dental Univ.、3.Univ. of Amsterdam)

〇(B)池田 航介¹、 渡辺 彗²、 藤島 将伸³、 向井 剛輝^1,2,3 (1.横浜国大理工、2.横浜国大院工、3.横浜国大院理工)

〇木村 亮太¹、 杉崎 俊太¹、 杉本 卓也²、 藤島 将伸²、 渡辺 彗³、 向井 剛輝^1,2,3 (1.横浜国大理工、2.横浜国大院理工、3.横浜国大院工)

〇松田 侑己¹、 中村 雄一¹、 孫 啓明¹、 田代 大吾¹、 山内 敬仁¹、 下村 哲²、 竹内 淳¹ (1.早大先進理工、2.愛媛大理工)

〇石田 太郎¹、 松崎 亮典¹、 鍜治 怜奈¹、 小田島 聡²、 海住 英生³、 西井 準治³、 足立 智¹ (1.北大院工、2.北大創成研究機構、3.北大電子研)

〇伊藤 煕¹、 柴田 憲治^1,2、 Karalic Matija²、 Mittag Christopher²、 Tschirky Thomas²、 Reichl Christian²、 Wegscheider Werner²、 Ihn Thomas²、 Ensslin Klaus² (1.東北工大、2.ETH Zurich)

〇(D)Norizzawati Mohd Ghazali^1,2、 Noriyuki Hagiwara^1,3、 Katsuya Suzuki¹、 Hiroshi Tomizawa¹、 Abdul Manaf Hashim²、 Tomohiro Yamaguchi¹、 Seiji Akita⁴、 Koji Ishibashi^1,2,3,5 (1.RIKEN、2.MJIIT, Univ. Teknologi Malaysia、3.Chiba Univ.、4.Osaka Pref. Univ.、5.RIKEN CEMS)

〇Adnan Afiff^1,2,3、 Arief Udhiarto³、 Harry Sudibyo³、 Djoko Hartanto³、 Michiharu Tabe¹、 Daniel Moraru¹ (1.RIE, Shizuoka Univ.、2.GSST, Shizuoka Univ.、3.Univ. of Indonesia)

〇Gaurang Prabhudesai^1,2、 Muruganathan Manoharan³、 Masahiro Hori¹、 Yukinori Ono¹、 Hiroshi Mizuta³、 Michiharu Tabe¹、 Daniel Moraru¹ (1.RIE, Shizuoka Univ.、2.GSST, Shizuoka Univ.、3.JAIST)

〇山口 謙祐¹、 ムルガナタン マノハラン²、 水田 博²、 田部 道晴¹、 モラル ダニエル¹ (1.静大電研、2.北陸先端大)