13:45 〜 14:00
〇李 虎1、伝宝 一樹1 (1.東京エレクトロン)
一般セッション(口頭講演)
8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理
2020年3月12日(木) 13:45 〜 18:00 A205 (6-205)
太田 貴之(名城大)、深沢 正永(ソニーセミコンダクタソリューションズ)、岩瀬 拓(日立製作所)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇李 虎1、伝宝 一樹1 (1.東京エレクトロン)
14:00 〜 14:15
〇(M2)小川 慎1、小田 昭紀1、太田 貴之2、上坂 裕之3 (1.千葉工大工、2.名城大理工、3.岐阜大工)
14:15 〜 14:30
〇安藤 あゆみ1、浦谷 昭太1、中村 慶子1、釆山 和弘1 (1.株式会社サクラクレパス)
14:30 〜 14:45
〇大久保 雄司1、中川 哲哉1、遠藤 勝義1、山村 和也1 (1.阪大院工)
14:45 〜 15:00
〇織田 祥成1、堤 隆嘉1、石川 健治1、堀 勝1 (1.名大)
15:15 〜 15:30
〇羽澄 匡広1、スガンサマラー セルヴァラジ2、蕭 世男2、関根 誠2、林 久貴3,2、佐々木 俊行3、阿部 知央3、堤 隆嘉2、石川 健治2、堀 勝2 (1.名大院工、2.名大 低温プラズマ科学研究センター、3.キオクシア(株))
15:30 〜 15:45
〇中原 尚哉1、森山 誠1、三矢 晶洋1、鈴木 陽香1、豊田 浩孝1 (1.名大工)
15:45 〜 16:00
〇(D)森山 誠1、中原 尚哉1、三矢 晶洋1、鈴木 陽香1、豊田 浩孝1 (1.名大工)
16:00 〜 16:15
〇谷田 知史1、飯野 大輝1、久保井 宗一1、栗原 一彰1、福水 裕之1 (1.キオクシア)
16:15 〜 16:30
〇林 俊雄1、関根 誠1、石川 健治1、堀 勝1 (1.名古屋大学工)
16:45 〜 17:00
〇唐橋 一浩1、伊藤 智子1、浜口 智志1 (1.阪大院工)
17:00 〜 17:15
〇(M1)Hojun Kang1、Tomoko Ito1、Junghwan Um2、Hikaru Kokura2、Taekyun Kang2、Sungil Cho2、Hyunjung Park2、Kazuhiro Karahashi1、Satoshi Hamaguchi1 (1.Osaka Univ.、2.Samsung Electronics)
17:15 〜 17:30
〇濱野 誉1、占部 継一郎1、江利口 浩二1 (1.京大院工)
17:30 〜 17:45
〇布村 正太1、中根 一也2、堤 隆嘉2、松原 浩司1、堀 勝2 (1.産総研、2.名大)
17:45 〜 18:00
〇布村 正太1、坂田 功1、松原 浩司1 (1.産総研 太陽光発電研究センター)
要旨・抄録、PDFの閲覧には参加者用アカウントでのログインが必要です。参加者ログイン後に閲覧・ダウンロードできます。
» 参加者用ログイン