一般セッション(口頭講演)
[16a-Z13-1~12] 13.3 絶縁膜技術
09:00 〜 09:15
〇寶藏 圭祐1、 韓 東杓1、 眞野 稜也1、 高橋 遼1、 藤木 領人1、 平松 稜也1、 澤井 奏人1、 上山 智1、 竹内 哲也1、 岩谷 素顕1、 赤崎 勇2、 福田 承生3、 藤井 高志3 (1.名城大学、2.名古屋大・赤崎記念研究センター、3.福田結晶技術研究所)
09:15 〜 09:30
〇(M1)長井 大誠1、 田岡 紀之1、 大田 晃生1、 池田 弥央1、 牧原 克典1、 宮﨑 誠一1 (1.名大院工)
09:30 〜 09:45
〇(M1)飯野 寛貴1、 堀口 遥1、 岩崎 好孝1、 上野 智雄1 (1.農工大院工)
09:45 〜 10:00
〇(M1)伊藤 圭佑1、 高橋 陽輝1、 岩崎 好孝1、 上野 智雄1 (1.農工大院工)
10:00 〜 10:15
〇Tsung-En Lee1、 Kasidit Toprasertpong1、 Mitsuru Takenaka1、 Shinichi Takagi1 (1.Univ. of Tokyo)
10:15 〜 10:30
〇(D)TsungEn Lee、 Kasidit Toprasertpong1、 Mitsuru Takenaka1、 Shinichi Takagi1 (1.Univ. of Tokyo)
10:45 〜 11:00
〇田村 敦史1、 Seungwoo Jang2、 Young-Geun Park2、 Hanjin Lim2、 喜多 浩之1 (1.東大院工、2.Semiconductor R&D Center, Samsung Electronics)
11:00 〜 11:15
〇(B)桐原 芳治1、 和田 励虎1、 辻口 良太1、 保井 晃2、 宮田 典幸3、 野平 博司1 (1.都市大、2.高輝度光科学研、3.産総研)
11:15 〜 11:30
〇山本 星斗1、 田中 有弥1,2、 神林 辰洋1、 矢嶋 赳彬3、 石井 久夫1,2,4 (1.千葉大院融合、2.千葉大先進、3.九大シス情報、4.千葉大MCRC)
11:30 〜 11:45
〇阿久津 敏1、 伊藤 和幸1、 菊地 拓雄1、 牧野 伸顕1、 北原 義之1、 大黒 達也2、 藤 慶彦2、 高橋 眞理2、 樫浦 由貴子2 (1.東芝、2.東芝デバイス&ストレージ)
11:45 〜 12:00
〇堅田 卓弥1、 八ッ橋 拓真1、 呉 研1、 高橋 芳浩1 (1.日大理工)
12:00 〜 12:15
〇山中 湧司1、 滝澤 諄弥1、 富田 基裕1、 渡邉 孝信1 (1.早大理工)