13:00 〜 13:15
〇(D)Weiqi Zhou1、Takuto Soma1、Akira Ohtomo1 (1.Tokyo Tech)
一般セッション(口頭講演)
21 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
2022年9月20日(火) 13:00 〜 19:00 B203 (B203)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:00 〜 13:15
〇(D)Weiqi Zhou1、Takuto Soma1、Akira Ohtomo1 (1.Tokyo Tech)
13:15 〜 13:30
〇(M2)三木 隼之介1、松田 彪雅1、竹田 尚史1、堀田 育志1、唐 佳藝1、佐々木 公平2、倉又 朗人2、三木 一司1 (1.兵庫県立大工、2.ノベルクリスタルテクノロジー)
13:30 〜 13:45
〇(M1)山田 魁1、山田 梨詠1、田口 義士1、高橋 昴1、山口 智広1、尾沼 猛儀1、本田 徹1 (1.工学院大学)
13:45 〜 14:00
〇山本 拓実1、田口 義士1、山田 梨詠1、永井 裕己1、尾沼 猛儀1、本田 徹1、山口 智広1 (1.工学院大)
14:00 〜 14:15
〇高田 晃平1、西野 克志1 (1.徳島大理工)
14:15 〜 14:30
〇林 家弘1、江間 研太郎1、桝谷 聡士1、ティユ クァントゥ1、阪口 良一1、佐々木 公平1、倉又 朗人1 (1.ノベルクリスタルテクノロジー)
14:30 〜 14:45
〇(M1)松田 彪雅1、三木 隼之介1、飯村 隆介2、唐 佳藝1、佐々木 公平2、倉又 朗人2、三木 一司1 (1.兵庫県立大工、2.ノベルクリスタルテクノロジー)
15:00 〜 15:15
〇大島 孝仁1 (1.物材研)
15:15 〜 15:30
〇高橋 勲1,2、Kochurikhin Vladimir1、富田 健稔1、姚 永昭3、佐藤 功二3、石川 由加里3、菅原 孝昌2、庄子 育宏1、鎌田 圭1,2、柿本 浩一2、吉川 彰1,2 (1.C&A、2.東北大、3.ファインセラミックスセンター)
15:30 〜 15:45
〇Zhenwei Wang1、Daiki Takatsuki2、Jianbo Liang2、Takahiro Kitada1,2、Naoteru Shigekawa2、Masataka Higashiwaki1,2 (1.NICT、2.OMU)
15:45 〜 16:00
〇河村 貴宏1、秋山 亨1 (1.三重大院工)
16:00 〜 16:15
〇大島 孝仁1、大島 祐一1 (1.物材研)
16:15 〜 16:30
〇秋山 亨1、河村 貴宏1、伊藤 智徳1 (1.三重大院工)
16:30 〜 16:45
〇富樫 理恵1、石田 遥夏1、後藤 健2、東脇 正高3,4、熊谷 義直2 (1.上智大理工、2.東京農工大院工、3.大阪公立大、4.情報通信研究機構)
16:45 〜 17:00
〇後藤 健1、西村 太郎1、外里 遥1、池永 和正1,2、佐々木 捷悟3、石川 真人4、町田 英明4、熊谷 義直1,3 (1.東京農工大院工、2.大陽日酸(株)、3.東京農工大FLOuRISH、4.気相成長(株))
17:15 〜 17:30
〇池永 和正1,2、西村 太郎1、後藤 健1、石川 真人3、町田 英明3、上野 智雄1、熊谷 義直1 (1.東京農工大院工、2.大陽日酸㈱、3.気相成長㈱)
17:30 〜 17:45
〇(M2)長野 理紗1、江間 研太郎2、佐々木 公平2、倉又 朗人2、村上 尚1 (1.東京農工大院工、2.(株)ノベルクリスタルテクノロジー)
17:45 〜 18:00
〇(M2)長井 啓1、川村 啓介2、浦谷 泰基2、坂井田 佳紀2、重川 直輝1,3、梁 剣波1,3 (1.大阪市大工、2.エア・ウォーター、3.大阪公大工)
18:00 〜 18:15
〇西中 浩之1、上田 修2、迫 秀樹3、池永 訓昭4、宮戸 祐治5、蓮池 紀幸1、鐘ケ江 一孝1、吉本 昌広1 (1.京工繊大、2.明治大学、3.東レリサーチセンター、4.金沢工大、5.龍谷大学)
18:15 〜 18:30
〇大槻 匠1、東脇 正高1,2 (1.情通機構、2.大阪公立大院工)
18:30 〜 18:45
〇宇野 和行1、田村 大翔1、太田 茉莉香1 (1.和歌山大システム工)
18:45 〜 19:00
〇(M2)菊池 瑛嗣1、金子 健太郎1、藤田 静雄1 (1.京大院工)
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