一般セッション(口頭講演)

[16a-4E-9~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2015年9月16日(水) 11:15 〜 12:15 4E (437)

座長:山本治朗(日立)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

+全てマイスケジュールに登録

11:15 〜 11:30

△ [16a-4E-9] 12.5 nm HPレジスト評価用EUV二光束干渉露光系の透過型回折格子の製作

〇(M1)福田裕貴¹、福井翼¹、谷野寛仁¹、原田哲男¹、渡邊健夫¹ (1.兵県大)

11:30 〜 11:45

[16a-4E-10] NEB-22を用いた電子ビームリソグラフィーによる50nmラインアンドスペースパターンの作製

〇岡田真¹、松井真二¹ (1.兵県大高度研)

11:45 〜 12:00

[16a-4E-11] 新規アクリル系ポリマー型電子線レジストの露光特性

〇星野亮一¹、河田敦¹、國武雅司²、落合俊介³、髙山智寛³、岸村由紀子³、浅田裕法³ (1.グルーオンラボ、2.熊本大学、3.山口大学)

12:00 〜 12:15

[16a-4E-12] 両親媒性液晶型ジブロック共重合体の急速熱的誘導自己組織化による準長距離配向秩序を持った2次元垂直シリンダ列の形成

〇山口徹¹、小村元憲³、長井圭治²、藤原聡¹、山口浩司¹、彌田智一² (1.NTT物性基礎研、2.東工大資源研、3.沼津高専)

一般セッション(口頭講演)

[16p-4E-1~11] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2015年9月16日(水) 13:45 〜 16:45 4E (437)

座長:山口徹(ＮＴＴ),岡田真(兵庫県立大),柳下崇(首都大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

+全てマイスケジュールに登録

13:45 〜 14:00

[16p-4E-1] 次世代マルチパターニング露光に対応した波長計測高精度化技術

〇古里博志¹、守屋正人¹、熊崎貴仁¹、對馬弘朗¹、太田毅¹、黒須昭彦¹、田中智史¹、松永隆¹、溝口計¹ (1.ギガフォトン)

14:00 〜 14:15

[16p-4E-2] 微細コードマーク転写用の光ファイバマトリクスの新成型技術

〇渡辺潤¹、岩崎順哉¹、堀内敏行¹ (1.東京電機大院工)

14:15 〜 14:30

[16p-4E-3] 屈折率分布型レンズアレイを用いた走査投影露光の解像度と均一性低下原因の検討

〇佐藤貴紀¹、堀内敏行¹ (1.電機大院工)

14:30 〜 14:45

[16p-4E-4] デスクトップ型投影露光装置を用いたレンチキュラーレンズパターンの形成

〇森實祐太¹、堀内敏行¹ (1.東京電機大院工)

14:45 〜 15:00

△ [16p-4E-5] 酸素を微量添加した水素ラジカルを用いたレジストの除去

〇山本雅史¹、梅本宏信²、大平圭介³、西山聖⁴、堀邊英夫⁴ (1.香川高専、2.静大、3.北陸先端大、4.大阪市大)

15:00 〜 15:15

[16p-4E-6] ビルトインレンズマスクリソグラフィによる3 次元露光の検討Ⅲ

〇田中利樹¹、笹子勝¹、菊田久雄¹、川田博昭¹、平井義彦¹ (1.大阪府大　院　工)

休憩（15:15 〜 15:30）

15:30 〜 15:45

△ [16p-4E-7] 熱ナノインプリント法を用いた透明ポリイミドシートへの単原子ステップパターンの転写と表面超平坦化

〇嶋田航大¹、譚ゴオン¹、野沢靖久¹、浦上達宣²、小山浩司³、金子智^4,1、松田晃史¹、吉本護¹ (1.東工大総理工、2.三井化学、3.並木精密宝石、4.神奈川県産技セ)

15:45 〜 16:00

△ [16p-4E-8] ポリマー表面への単原子ステップナノインプリント転写に与える加熱・加圧条件およびモールドの原子ステップ形状の影響

〇譚ゴオン¹、嶋田航大¹、野沢靖久¹、小山浩司²、金子智^3,1、松田晃史¹、吉本護¹ (1.東工大総理工、2.並木精密宝石、3.神奈川県産技センター)

16:00 〜 16:15

[16p-4E-9] ポーラスアルミナを用いた光ナノインプリントによるナノ・マイクロ階層構造の形成と構造制御

〇村越海斗¹、柳下崇¹、益田秀樹¹ (1.首都大都市環境)

16:15 〜 16:30

[16p-4E-10] ダブルナノインプリントグラフォエピタキシーによる液晶分子の局所配向

〇岡田真¹、谷口雄亮²、春山雄一¹、小野浩司³、川月喜弘²、松井真二¹ (1.兵県大高度研、2.兵県大工、3.長岡技科大)

16:30 〜 16:45

[16p-4E-11] 連続ＵＶナノインプリントにおける離型層の耐久性の検討

〇伊吉就三¹、岡田真¹、春山雄一¹、松井真二¹ (1.兵庫県立大学　高度研)

セッション一覧

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術