一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
2019年9月18日(水) 13:00 〜 18:00 N302 (N302)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:00 〜 13:15
〇加藤 正史1,2、浅田 貴斗1、朱 帥1、伊藤 健治3、冨田 一義3、成田 哲生3、加地 徹2 (1.名工大、2.名大、3.豊田中研)
スケジュール
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13:15 〜 13:30
〇(M2)伊藤 俊1、徳田 豊1 (1.愛知工大)
スケジュール
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13:30 〜 13:45
〇西田 宗史1、星井 拓也1、片岡 寛明1、筒井 一生2、角嶋 邦之1、若林 整1 (1.東工大工学院、2.東工大科学技術創成研究院)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇遠藤 彗1、鐘ヶ江 一孝1、堀田 昌宏1,2、須田 淳1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇塩島 謙次1、谷川 智之2、片山 竜二2、松岡 隆志3 (1.福井大院工、2.阪大院工、3.東北大NICHe)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇(M1)松田 陵1、堀切 文正2、成田 好伸2、吉田 丈洋2、三島 友義3、塩島 謙次1 (1.福井大院工、2.サイオクス、3.法政大)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇(M1)六野 祥平1、堀田 昌宏1,2、須田 淳1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇Toshikazu Yamada1、Hisashi YAMADA1、Tokio TAKAHASHI1、Mituaki SIMIZU1 (1.National Institute of Advanced Industrial Science & Technology)
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15:15 〜 15:30
〇櫻井 秀樹1,2,3、山田 真嗣1,2,3、高良 昭彦3、堀田 昌宏1,2、Bockowski Michal1,4、須田 淳1,2、加地 徹1 (1.名大 IMaSS、2.名大院工、3.(株)アルバック半電研、4.UNIPRESS)
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15:30 〜 15:45
〇釣本 浩貴1、堀田 昌宏1,2、須田 淳1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)
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15:45 〜 16:00
〇早坂 明泰1、青沼 遼介1、堀田 航史1、金井 七重1、眞壁 勇夫2、吉田 成輝2、宮本 恭幸1 (1.東工大工、2.住友電気工業)
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16:00 〜 16:15
〇高橋 昌大1、田中 敦之2,3、安藤 悠人1、渡邉 浩崇2、出来 真斗2、久志本 真希1、新田 州吾2、本田 善央2、Chen Kevin J.2,4、天野 浩2,3,5,6 (1.名大院工、2.名大未来材料・システム研究所、3.物質・材料研究機構、4.香港科技大、5.名大赤﨑記念研究センター、6.名大VBL)
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16:30 〜 16:45
〇(M2)河端 晋作1、アスバル ジョエル1、徳田 博邦1、山本 暠勇1、葛原 正明1 (1.福井大院工)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇越智 亮太1、安藤 祐次1、金木 奨太1、橋詰 保1 (1.北大量集センター)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇鐘ヶ江 一孝1,4、成田 哲生2、冨田 一義2、加地 徹3、堀田 昌宏1,3,4、木本 恒暢1、須田 淳1,3,4 (1.京大院工、2.豊田中研、3.名大 IMaSS、4.名大院工)
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17:15 〜 17:30
〇(M2)西谷 高至1、神谷 俊佑1、アスバル ジョエル1、徳田 博邦1、葛原 正明1 (1.福井大院工)
スケジュール
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17:30 〜 17:45
〇(M1)久樂 顕1、今西 祥一朗1、堀川 清貴1、平岩 篤1、川原田 洋1,2 (1.早稲田大学、2.早大材研)
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17:45 〜 18:00
〇(M1)西村 隼1、岩瀧 雅幸1、大井 信敬1、平岩 篤1、川原田 洋1,2 (1.早大理工、2.早大材研)
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