一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
09:00 〜 09:15
〇前田 拓也1、岡田 政也2、上野 昌紀2、山本 喜之2、木本 恒暢1、堀田 昌宏3、須田 淳3 (1.京大、2.住友電気工業、3.名大)
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09:15 〜 09:30
〇平岩 篤1,4、堀川 清貴2、川原田 洋1,2,3 (1.早大ナノ・ライフ、2.早大理工、3.早大材研、4.名大未来研)
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09:30 〜 09:45
〇村瀬 亮介1、前田 拓也2、鐘ヶ江 一孝1,2、須田 淳1,3、堀田 昌宏1,3 (1.名大院工、2.京大院工、3.名大未来材料・システム研究所)
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09:45 〜 10:00
〇(M2)田村 和也1、徳田 豊1、大川 峰司2、富田 英幹2 (1.愛知工大、2.トヨタ自動車)
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10:00 〜 10:15
〇(M2)鴨志田 亮1、村井 駿太1、赤澤 正道1 (1.北大量集センター)
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10:15 〜 10:30
〇(M1)吉田 光1、竹内 和歌奈1、徳田 豊1、大川 峰司2、富田 英幹2 (1.愛知工大、2.トヨタ自動車)
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10:45 〜 11:00
〇前田 瑛里香1,2、生田目 俊秀2、廣瀨 雅史1,2、井上 万里2、大井 暁彦2、池田 直樹2、塩崎 宏司3、清野 肇1 (1.芝浦工大、2.物材機構、3.名大)
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11:00 〜 11:15
〇(M1)和田 悠平1、野崎 幹人1、細井 卓治1、志村 考功1、渡部 平司1 (1.阪大院工)
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11:15 〜 11:30
〇青島 慶人1、堀田 昌宏1,2、金木 奨太3、須田 淳1,2、橋詰 保3 (1.名大院工、2.名大未来研、3.北大量エレ研)
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11:30 〜 11:45
〇安藤 悠人1,6、中村 徹2、出来 真斗2、田岡 紀之1、田中 敦之2,3、渡邉 浩崇2、久志本 真希1、新田 州吾2、本田 善央2、山田 永6、清水 三聡2,6、天野 浩2,3,4,5 (1.名大院工、2.名大未来材料・システム研究所、3.物質・材料研究機構、4.名大赤﨑記念研究センター、5.名大VBL、6.産総研GaN-OIL)
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11:45 〜 12:00
〇(M2)東 雅人1、上沼 睦典1、吉嗣 晃治2、柳生 栄治2、石河 泰明1、浦岡 行治1 (1.奈良先端大、2.三菱電機（株）)
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12:00 〜 12:15
〇古川 暢昭1、上沼 睦典1、Kotzea Simon2、石河 泰明1、Vescan Andrei2、浦岡 行治1 (1.奈良先端大、2.アーヘン工科大)
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