一般セッション(口頭講演)
[20p-E203-7~19] 3.5 レーザー装置・材料
2019年9月20日(金) 15:30 〜 19:00 E203 (E203)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
15:30 〜 15:45
〇古瀬 裕章1、 堀内 尚紘2、 金 炳男3 (1.北見工大、2.東京医科歯科大、3.物材機構)
15:45 〜 16:00
〇佐藤 庸一1,2、 平等 拓範1,2 (1.理研RSC、2.分子研)
16:00 〜 16:15
〇横関 海翔1、 藤岡 加奈1、 時田 茂樹1、 荻野 純平1、 北島 将太朗1、 宮永 憲明2、 河仲 準二1 (1.阪大レーザー研、2.レーザー総研)
16:15 〜 16:30
〇(P)Hengjun Chen1、 Akio Ikesue2、 Hiroyuki Noto1、 Hiyori Uehara1、 Yoshimitsu Hishinuma1、 Takeo Muroga1、 Ryo Yasuhara1 (1.NIFS、2.World-Lab co., Ltd.)
16:30 〜 16:45
〇上原 日和1、 Chen Hengjun1、 池末 明生2、 能登 裕之1、 菱沼 良光1、 室賀 健夫1、 安原 亮1 (1.核融合研、2.(株)ワールドラボ)
16:45 〜 17:00
〇(M1)今井 麻由1、 古瀬 裕章1、 森田 孝治2、 金 炳男2、 鈴木 達2、 吉田 英弘3、 目 義男2、 平賀 啓二郎2 (1.北見工大、2.物材機構、3.東京大)
17:00 〜 17:15
〇(D)河瀬 広樹1、 上原 日和1,2、 安原 亮1,2 (1.総研大、2.核融合研)
17:30 〜 17:45
〇五十嵐 裕紀1、 田丸 裕基1、 曲 晨1、 上場 康弘1、 淵向 篤1、 村上 嘉彦1、 三浦 泰祐1、 藤本 准一1、 溝口 計1 (1.ギガフォトン(株))
17:45 〜 18:00
〇宮田 憲太郎1、 棚橋 晃宏1、 茂原 瑞希2、 志村 啓2、 中山 伸一3、 和田 智之1 (1.理研、2.日立ハイテク、3.メガオプト)
18:00 〜 18:15
〇中山 和也1、 岡島 茂樹1、 田中 謙治2、 安原 亮2、 川端 一男2 (1.中部大工、2.核融合研)
18:15 〜 18:30
〇川崎 泰介1,2、 ヤヒア ヴァンサン2、 平等 拓範1,2 (1.理研、2.分子研)
18:30 〜 18:45
〇荻野 純平1、 時田 茂樹1、 Li Zhaoyang1、 山口 尚弘1、 北島 将太朗1、 本越 伸二2、 森尾 登1、 椿本 孝治1、 吉田 英次1、 藤岡 加奈1、 河仲 準二1、 植田 憲一1,3、 兒玉 了祐1 (1.阪大レーザー研、2.レーザー総研、3.電通大レーザー研)
18:45 〜 19:00
〇吉田 英次1、 時田 茂樹1、 椿本 孝治1、 河仲 準二1 (1.阪大レーザー研)