一般セッション(ポスター講演)

[17a-P04-1~5] 3.7 レーザープロセシング

2021年3月17日(水) 09:00 〜 09:50 P04 (ポスター)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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09:00 〜 09:50

[17a-P04-1] Selective Laser Thermoregulation法による加熱試験のための引張試験機の開発

〇亀田祐輝¹、越地駿人²、大久保友雅^1,2、中尾根美樹¹、後藤健³、香川豊⁴ (1.東京工科大工、2.東京工科大院、3.宇宙科学研、4.東京工科大片柳研)

09:00 〜 09:50

[17a-P04-2] 自由電子レーザを用いたレーザ誘起ナノ構造生成の試み

〇野平真義¹、岩田展幸¹ (1.日大理工)

09:00 〜 09:50

[17a-P04-3] 局所レーザー加熱を用いたNi基板上へのグラファイト膜の選択合成

〇藤原英樹¹、弥勒院達紀¹、大橋由梨²、海住英生^2,3、平井健二⁴、雲林院宏⁴ (1.北海学園大工、2.慶大理工、3.慶大スピンセンター、4.北大電子研)

09:00 〜 09:50

[17a-P04-4] 金薄膜へのナノ秒光渦レーザー照射

〇(M1)藤本翼¹、東畠三洋¹、池上浩^1,2、中村大輔¹ (1.九大シス情、2.九大ギガフォトン共同部門)

09:00 〜 09:50

[17a-P04-5] レーザー誘起衝撃波によるメタノール中でのC–C、C-OおよびO–O結合生成

石川和香子¹、〇佐藤俊一¹ (1.東北大多元研)

一般セッション(口頭講演)

[18a-Z04-1~11] 3.7 レーザープロセシング

2021年3月18日(木) 09:00 〜 12:00 Z04 (Z04)

中村大輔(九大)、佐藤雄二(阪大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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09:00 〜 09:15

[18a-Z04-1] [講演奨励賞受賞記念講演] フレキシブルデバイス応用に向けたPDMSのフェムト秒レーザー改質による導電性構造作製

〇林秀一郎¹、茂呂澤郁也¹、寺川光洋^1,2 (1.慶大院理工、2.慶大理工)

09:15 〜 09:30

[18a-Z04-2] [講演奨励賞受賞記念講演] フェムト秒レーザー照射チタン表層の吸収係数深さ分布のアブレーションによる測定

〇古川雄規^1,2、井上峻介^1,2、橋田昌樹¹ (1.京大化研、2.京大院理)

09:30 〜 09:45

△ [18a-Z04-3] Si におけるレーザー加工痕のパルス時間幅依存性

〇(M1)三村一暉¹、高橋孝²、山口誠³、小林洋平²、富田卓朗¹ (1.徳島大院創成、2.東京大物性研、3.秋田大理工)

09:45 〜 10:00

△ [18a-Z04-4] ピコ秒レーザー照射を用いたSiC上DLCにおけるレーザー誘起ナノ周期構造の形成

〇山本健¹、高橋孝²、内海慶春³、柴田明宣⁴、山口誠⁵、小林洋平²、富田卓朗¹ (1.徳島大院創成、2.東大物性研、3.日本アイ・ティ・エフ(株)、4.日新電機(株)、5.秋田大理工)

10:00 〜 10:15

△ [18a-Z04-5] 高精度、高密度な選択的レーザー溶融法の開発のための欠陥形成因子の解明

〇(M1)有村恒良¹、井濱雅弘²、竹中啓輔³、吉田徳雄³、森本健斗³、佐藤雄二³、吉田実¹、塚本雅裕³ (1.近大院総合理工、2.阪大工、3.阪大接合研)

10:30 〜 10:45

△ [18a-Z04-6] 任意波形ナノ秒パルスレーザーによる表面加工の時間波形依存性評価

〇遠藤翼¹、谷峻太郎¹、小林洋平¹ (1.東大物性研)

10:45 〜 11:00

△ [18a-Z04-7] レーザーアブレーションを用いて液中および真空中で作製したSiCナノ微粒子のサイズ分布の評価

〇池田光希¹、石原淳¹、宮島顕祐¹ (1.東理大応)

11:00 〜 11:15

△ [18a-Z04-8] ドライレーザーピーニング効果に及ぼすフェムト-ピコ秒領域でのパルス幅依存性

〇西端樹¹、吉田雅幸¹、伊藤佑介²、杉田直彦²、廣瀬明夫¹、佐野智一¹ (1.阪大院工、2.東大院工)

11:15 〜 11:30

△ [18a-Z04-9] レーザー誘起気泡を用いたPDMS微細加工技術(microFLIB)のメカニズム解明

〇(M2)宮原勇兵¹、髙橋涼平¹、花田修賢¹ (1.弘前大理工)

11:30 〜 11:45

△ [18a-Z04-10] 励起電子への過渡選択的光吸収による合成石英ガラス除去閾値の評価

〇(D)吉崎れいな¹、吉武俊哉¹、伊藤佑介¹、魏超然¹、柴田章広²、長澤郁夫²、長藤圭介¹、杉田直彦¹ (1.東大院工、2.AGC株式会社)

11:45 〜 12:00

△ [18a-Z04-11] 円偏光干渉パターンを用いたカイラル構造の多点同時形成

〇小坂悠起¹、平川裕人¹、森塚翼¹、椿本孝治¹、白神宏之¹、宮永憲明¹、中田芳樹¹ (1.大阪大学)

一般セッション(口頭講演)

[18p-Z32-1~11] 3.7 レーザープロセシング

2021年3月18日(木) 13:30 〜 16:30 Z32 (Z32)

吉川洋史(埼玉大)、溝尻瑞枝(長岡技科大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

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13:30 〜 13:45

△ [18p-Z32-1] 透過型ポンプ-プローブイメージング装置による石英ガラスの超短パルスレーザー誘起加工現象の時間分解測定

〇寺澤英知^1,2、佐藤大輔^2,3、澁谷達則³、盛合靖章²、小川博嗣^2,3、田中真人^2,3、黒田隆之助^2,3、小林洋平^2,4、坂上和之^1,5、鷲尾方一¹ (1.早大理工総研、2.産総研オペランド計測OIL、3.産総研分析計測標準、4.東大物性研、5.東大光量子センター)

13:45 〜 14:00

△ [18p-Z32-2] 空気との非線形相互作用による光パルスの強度分布変化のレーザー加工への影響

〇山田涼平¹、小松原航¹、櫻井治之²、小西邦昭¹、三尾典克¹、湯本潤司¹、五神真¹ (1.東大院理、2.東大物性研)

14:00 〜 14:15

△ [18p-Z32-3] 多光子還元法を利用した温度応答性ハイドロゲルの受動的透過率制御

〇富川啓文¹、長野陽²、寺川光洋^1,2 (1.慶大理工、2.慶大理工院)

14:15 〜 14:30

▼ [18p-Z32-4] Single-shot three-dimensional laser processing with an in-system-optimized hologram

〇(D)HONGHAO ZHANG¹、 Satoshi Hasegawa¹、 Haruyoshi Toyoda²、 Yoshio Hayasaki¹ (1.Utsunomiya Univ.、2.Hamamatsu Photonics.)

14:30 〜 14:45

▼ [18p-Z32-5] BiBurst mode with GHz fs-pulse burst in MHz burst for efficient surface microfabrication of silicon

〇(P)Francesc CaballeroLucas¹、 Kotaro Obata¹、 Koji Sugioka¹ (1.RIKEN Center for Advanced Photonics)

15:00 〜 15:15

△ [18p-Z32-6] フェムト秒レーザーによるガラスの改質測定システムの開発

〇(M1)住谷大志¹、谷峻太郎¹、櫻井治之¹、小林洋平¹ (1.東大物性研)

15:15 〜 15:30

△ [18p-Z32-7] フェムト秒レーザー穴あけ加工におけるフィードバック制御のチューニング

〇場本圭一¹、谷峻太郎¹、小林洋平¹ (1.東大物性研)

15:30 〜 15:45

△ [18p-Z32-8] レーザーアブレーションによる氷酢酸融液からの結晶化

〇(M1)高橋秀実^1,2、杉山輝樹^2,3、中林誠一郎¹、吉川洋史¹ (1.埼大院理工、2.交通大応化、3.奈良先端大)

15:45 〜 16:00

[18p-Z32-9] ダブルパルスレーザーアブレーション法におけるプルームの混合とナノ粒子の複合構造

〇(M2)岡田蓮¹、片山慶太²、中村貴宏³、福岡寛⁴、吉田岳人⁵、青木珠緒¹、梅津郁朗¹ (1.甲南大、2.九大、3.東北大、4.奈良高専、5.阿南高専)

16:00 〜 16:15

[18p-Z32-10] 液中レーザーアブレーション法によるアップコンバージョンナノ粒子の作製と光学特性

〇(M2)鄭優莉¹、 Wang Haohao²、和田裕之¹ (1.東工大物質理工、2.南京農大)

16:15 〜 16:30

[18p-Z32-11] レーザを用いたセルロースナノファイバーの作製と評価

〇足立零生¹、石内俊一²、和田裕之¹ (1.東工大物質理工学院、2.東工大理学院)

一般セッション(口頭講演)

[19a-Z07-1~11] 3.7 レーザープロセシング

2021年3月19日(金) 09:00 〜 12:00 Z07 (Z07)

寺川光洋(慶大)、安國良平(奈良先端大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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09:00 〜 09:15

▲ [19a-Z07-1] Laser direct writing of amino acid homo-polymers

〇(P)Daniela Serien¹、 Koji Sugioka¹ (1.RIKEN RAP)

09:15 〜 09:30

[19a-Z07-2] 微小物体に作用するフェムト秒レーザー衝撃力のダブルパルス効果

〇規家涼太¹、田中陽²、 Yalikun Yaxiaer^1,2、細川陽一郎¹ (1.奈良先端大物質、2.理研)

09:30 〜 09:45

[19a-Z07-3] 干渉計測と蛍光観察の複合による衝撃波と細胞膜の相互作用機構の調査

〇伊藤佑介¹、 Veysset David^2,3、 Kooi Steven²、 Martynowych Dmitro²、中川桂一¹、 Nelson Keith² (1.東大院工、2.マサチューセッツ工科大、3.スタンフォード大)

09:45 〜 10:00

[19a-Z07-4] AFM探針のフェムト秒レーザー加工によるフェムト秒レーザー誘起衝撃力の高感度検出

〇荒木崇志¹、安國良平¹、細川陽一郎¹ (1.奈良先端大物質)

10:00 〜 10:15

[19a-Z07-5] フェムト秒レーザーを用いたゼブラフィッシュ胚の発生初期段階における細胞間機械特性の評価

〇(M1)弘永海人¹、山田壮平¹、別所康全²、松井貴輝²、細川陽一郎¹ (1.奈良先端大物質、2.奈良先端大バイオ)

10:30 〜 10:45

▲ [19a-Z07-6] Electrochemical Surface-enhanced Raman Scattering Microfluidic Chip Fabricated by Hybrid Femtosecond and CW Laser Processing

〇(P)Shi Bai¹、 Koji Sugioka¹ (1.RAP, RIKEN)

10:45 〜 11:00

[19a-Z07-7] 並列ビーム走査型レーザー加工とガラス表面溝加工への適用

〇(M1)田中智就¹、長谷川智士¹、早崎芳夫¹ (1.宇都宮大オプティクス)

11:00 〜 11:15

[19a-Z07-8] ホログラフィックフェムト秒レーザー加工によるフッ素ポリマーCYTOPのナノ粒子生成および細胞培養応用

〇中平敬太¹、尾崎諒¹、花田修賢¹ (1.弘前大理工)

11:15 〜 11:30

[19a-Z07-9] 【注目講演】強誘電性液晶空間光変調素子を用いたパルス毎ビーム成形によるホログラフィックフェムト秒レーザー加工

野崎健太¹、田辺綾乃²、長谷川智士¹、〇早崎芳夫¹ (1.宇都宮大、2.シチズン)

11:30 〜 11:45

[19a-Z07-10] 波面補償を用いたホログラフィック紫外ナノ秒レーザー加工

〇長谷川智士¹、加藤瑞樹¹、早崎芳夫¹ (1.宇都宮大)

11:45 〜 12:00

[19a-Z07-11] ナノ秒光渦レーザーによるSi表面のレーザーアブレーション

〇中村大輔¹、川本実季¹、藤本翼¹、東畠三洋¹、池上浩¹、若山俊隆²、砂原淳³、東口武史⁴ (1.九大シス情、2.埼玉医科大、3.パデュー大、4.宇都宮大)

一般セッション(口頭講演)

[19p-Z07-1~9] 3.7 レーザープロセシング

2021年3月19日(金) 13:30 〜 16:00 Z07 (Z07)

花田修賢(弘前大)、谷峻太郎(東大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

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13:30 〜 13:45

[19p-Z07-1] パルス幅制御による2024アルミニウム合金のドライレーザーピーニング効果向上

〇吉田雅幸¹、西端樹¹、松田朋己¹、伊藤佑介²、杉田直彦²、荒河一渡³、廣瀬明夫¹、佐野智一¹ (1.阪大院工、2.東大院工、3.島大院工)

13:45 〜 14:00

[19p-Z07-2] 塗布膜を用いたレーザードーピング法によるシリコン極浅高濃度ドーピング層の形成

〇倉重貴行¹、水谷彬^1,2、中村大輔¹、池上浩^1,2、片山慶太¹ (1.九大シス情、2.九大ギガフォトン共同部門)

14:00 〜 14:15

[19p-Z07-3] フェムト秒レーザ還元Cuパターニングにおける酸化抑制

〇吉冨恭平¹、溝尻瑞枝¹ (1.長岡技科大)

14:15 〜 14:30

[19p-Z07-4] 【注目講演】レーザーアブレーションによるITO透明導電性フィルムの微細加工と微細金属グリッド形成

〇渡辺明¹、 Rahman Ashiqur¹、駒田めぐみ² (1.東北大多元研、2.住友化学)

14:30 〜 14:45

[19p-Z07-5] ローダミン水溶液中でのレーザー加工によるクラックの少ないミニチュアねじの作製

世古匠¹、〇松尾繁樹¹ (1.芝浦工大)

15:00 〜 15:15

[19p-Z07-6] ライン整形されたフェムト秒レーザーパルスにより加工された溝のインプロセス形状計測

〇長谷川智士¹、藤本正俊²、渥美利久²、早崎芳夫¹ (1.宇都宮大、2.浜松ホトニクス)

15:15 〜 15:30

[19p-Z07-7] ピコ秒レーザー照射によるSi上DLC膜の構造変化

〇高林圭佑¹、カイディールカマロン¹、山口誠¹、富田卓朗²、高橋孝³、小林洋平³ (1.秋田大理工、2.徳島大学、3.東京大学)

15:30 〜 15:45

[19p-Z07-8] 深層学習シミュレータを用いたパルスエネルギー変調加工の最適条件探索

〇(D)島原光平¹、谷峻太郎¹、小林洋平¹ (1.東大物性研)

15:45 〜 16:00

[19p-Z07-9] フェムト秒アブレーション加工による熱影響の定量評価

〇谷峻太郎¹、小林洋平¹ (1.東大物性研)

セッション一覧

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[17a-P04-1~5] 3.7 レーザープロセシング

[18a-Z04-1~11] 3.7 レーザープロセシング

△ [18a-Z04-3] Si におけるレーザー加工痕のパルス時間幅依存性

△ [18a-Z04-4] ピコ秒レーザー照射を用いたSiC上DLCにおけるレーザー誘起ナノ周期構造の形成

△ [18a-Z04-5] 高精度、高密度な選択的レーザー溶融法の開発のための欠陥形成因子の解明

△ [18a-Z04-6] 任意波形ナノ秒パルスレーザーによる表面加工の時間波形依存性評価

△ [18a-Z04-7] レーザーアブレーションを用いて液中および真空中で作製したSiCナノ微粒子のサイズ分布の評価

△ [18a-Z04-8] ドライレーザーピーニング効果に及ぼすフェムト-ピコ秒領域でのパルス幅依存性

△ [18a-Z04-9] レーザー誘起気泡を用いたPDMS微細加工技術(microFLIB)のメカニズム解明

△ [18a-Z04-10] 励起電子への過渡選択的光吸収による合成石英ガラス除去閾値の評価

△ [18a-Z04-11] 円偏光干渉パターンを用いたカイラル構造の多点同時形成

[18p-Z32-1~11] 3.7 レーザープロセシング

△ [18p-Z32-1] 透過型ポンプ-プローブイメージング装置による石英ガラスの超短パルスレーザー誘起加工現象の時間分解測定

△ [18p-Z32-2] 空気との非線形相互作用による光パルスの強度分布変化のレーザー加工への影響

△ [18p-Z32-3] 多光子還元法を利用した温度応答性ハイドロゲルの受動的透過率制御

▼ [18p-Z32-4] Single-shot three-dimensional laser processing with an in-system-optimized hologram

▼ [18p-Z32-5] BiBurst mode with GHz fs-pulse burst in MHz burst for efficient surface microfabrication of silicon

△ [18p-Z32-6] フェムト秒レーザーによるガラスの改質測定システムの開発

△ [18p-Z32-7] フェムト秒レーザー穴あけ加工におけるフィードバック制御のチューニング

△ [18p-Z32-8] レーザーアブレーションによる氷酢酸融液からの結晶化

[19a-Z07-1~11] 3.7 レーザープロセシング

▲ [19a-Z07-1] Laser direct writing of amino acid homo-polymers

▲ [19a-Z07-6] Electrochemical Surface-enhanced Raman Scattering Microfluidic Chip Fabricated by Hybrid Femtosecond and CW Laser Processing

[19p-Z07-1~9] 3.7 レーザープロセシング

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