一般セッション(口頭講演)
21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
2023年3月15日(水) 13:30 〜 18:15 E102 (12号館)
古田 守(高知工科大)、井手 啓介(東工大)、後藤 健(農工大)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:30 〜 13:45
〇髙橋 崇典1、上沼 睦典1、小林 正治2、浦岡 行治1 (1.奈良先端大、2.東京大学)
スケジュール
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13:45 〜 14:00
〇KuanJu Zhou1、Keisuke Ide2、Takayoshi Katase2、Toshio Kamiya2,3、TingChang Chang1 (1.National Sun Yat-Sen Univ、2.MSL Tokyo Tech、3.MDX Tokyo Tech)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇漆間 由都1、井上 禎人1、加瀬 直樹1、宮川 宣明1 (1.東理大理)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇曲 勇作1、ゲディア プラシャント1、楊 卉1,2、張 雨橋3、松尾 保孝1、太田 裕道1 (1.北大電子研、2.北京交通大、3.江蘇大)
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇Prashant Ghediya1、Yusaku Magari1、Hui Yang1,2、Yuqiao Zhang3、Yasutaka Matsuo1、Hiromichi Ohta1 (1.RIES-Hokkaido Univ.、2.Beijing Jiaotong Univ.、3.Jiangsu Univ.)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇XIAOQIAN WANG1、Mamoru Furuta1 (1.Kochi Univ. of Tech.)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇中野渡 俊喜1、渡邉 悠太1、服部 吉晃1、北村 雅季1 (1.神戸大院工)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇(D)Hui Yang1,2、Prashant Ghediya1、Yuqiao Zhang3、Yasutaka Matsuo1、Yusaku Magari1、Hiromichi Ohta1 (1.RIES-Hokkaido Univ.、2.Beijing Jiaotong Univ.、3.Jiangsu Univ.)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇山根 裕也1、安田 圭佑1、宇井 利昌1、立道 潤一1 (1.日新イオン機器)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇星川 輝1、高橋 崇典1、上沼 睦典1、浦岡 行治1 (1.奈良先端大)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇長島 陽1、近松 彰2、廣瀬 靖3 (1.東大院理、2.お茶大理、3.都立大院理)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇(D)高根 倫史1、大島 孝仁2、田中 勝久1、金子 健太郎3 (1.京大、2.物材研、3.立命館大)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇(DC)Xiaojiao Liu1、Tatsuya Yasuoka1、Li Liu2、Toshiyuki Kawaharamura1,2 (1.Kochi Univ. of Tech.、2.Res. Inst.)
スケジュール
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17:15 〜 17:30
〇(DC)島添 和樹1、西中 浩之1、加藤 貴広1、谷口 陽子1、鐘ケ江 一考1、吉本 昌広1 (1.京都工繊大)
スケジュール
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17:30 〜 17:45
〇(D)Sayleap Sdoeung1、Kohei Sasaki2、Akito Kuramata2、Makoto Kasu1 (1.Saga Univ.、2.Novel Crystal Technology)
スケジュール
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17:45 〜 18:00
〇(B)大坪 優斗1、スダーン セイリープ1、佐々木 公平2、倉又 朗人2、嘉数 誠1 (1.佐賀大学、2.（株）ノベルクリスタルテクノロジー)
スケジュール
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18:00 〜 18:15
〇神野 莉衣奈1、金子 健太郎1、藤田 静雄1 (1.京都大学)
スケジュール
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