一般セッション(口頭講演)
[13a-C31-1~8] 3.7 レーザープロセシング
2016年9月13日(火) 09:30 〜 12:00 C31 (日航3階孔雀AB)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:30 〜 09:45
〇欠端 雅之1、 高橋 俊彦2、 屋代 英彦1、 大矢根 綾子3、 伊藤 敦夫4、 西川 正2、 鳥塚 健二1 (1.産総研 電子光技術、2.東京電機大学、3.産総研 ナノ材料、4.産総研 健康工学)
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09:45 〜 10:00
〇田口 将大1、 谷 峻太郎1、 小林 洋平1 (1.東大物性研)
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10:00 〜 10:15
〇白石 正彦1、 合谷 賢治2、 窪寺 昌一1、 渡辺 一弘1 (1.創価大理工、2.産総研)
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10:15 〜 10:30
〇知念 直樹1、 白石 正彦1、 合谷 賢治2、 関 篤1、 渡辺 一弘1、 窪寺 昌一1 (1.創価大理工、2.産総研)
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10:45 〜 11:15
〇谷 峻太郎1、 小林 洋平1 (1.東大物性研)
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11:15 〜 11:30
川口 喜三1、 大村 英樹1、 〇佐藤 正健1 (1.産総研)
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11:30 〜 11:45
〇乙部 智仁1 (1.量研機構)
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11:45 〜 12:00
〇萩原 宏規1、 飯野 敬矩1、 洪 振益1、 前野 貴則1、 岡野 和宣1、 細川 陽一郎1 (1.奈良先端大物質)
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