一般セッション(口頭講演)
13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術
2016年3月19日(土) 13:45 〜 18:15 S423 (南4号館)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇満留 将人1、本間 浩章1,2、伊藤 伸太郎3、石田 誠1、澤田 和明1、高橋 一浩1 (1.豊橋技科大、2.特別研究員DC2、3.名古屋大学)
スケジュール
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14:00 〜 14:15
〇(M1)北野 卓也1、伊藤 卓也1、鈴木 宏明1、石島 達夫1、田中 康規1、上杉 喜彦1、クンプアン ソマワン2、原 史朗2 (1.金沢大、2.産総研)
スケジュール
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14:15 〜 14:30
〇新田 航平1、多喜川 良1、池田 晃裕1、熊澤 光章2、平井 俊明2、小松 通郎2、浅野 種正1 (1.九大シ情、2.日揮触媒化成(株))
スケジュール
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14:30 〜 14:45
〇西川 太二1、山内 智1 (1.茨大工)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇須田 隆太郎1、八木 麻実子1、小島 明1、白樫 淳一1、越田 信義1 (1.農工大・院･工)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇(M1)宇津野 仁史1、杉浦 修2 (1.千葉工大院、2.千葉工大工)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇(B)大場 俊輔1、橋本 修一郎1、武井 康平1、ソン セイ1、張 旭1、徐 泰宇1、麻田 修平1、臼田 稔宏1、遠藤 清1、富田 基裕1,2,3、徳武 寛紀3、今井 亮佑3、小椋 厚志3、松川 貴4、昌原 明植4、渡邉 孝信1 (1.早大理工、2.学振PD、3.明大理工、4.産総研)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇(M2)Chen Mengyi1、政広 泰2、大見 俊一郎1 (1.東工大、2.田中貴金属)
スケジュール
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16:00 〜 16:15
〇(M1)建山 知輝1、永冨 雄太1、田中 慎太郎1、山本 圭介2、王 冬1、中島 寛2 (1.九大総理工、2.九大産連センター)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇西村 知紀1、矢嶋 赳彬1、鳥海 明1 (1.東大院工)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇鈴木 陽洋1、中塚 理1、坂下 満男1、財満 鎭明1,2 (1.名古屋大院工、2.名古屋大未来研)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇岡田 直也1,2、内田 紀行2、金山 敏彦2 (1.JSTさきがけ、2.産総研)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇石塚 典男1、佐久間 憲之1 (1.日立研開)
スケジュール
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17:15 〜 17:30
〇(M2)大澤 航1、土屋 敏章1 (1.島大工)
スケジュール
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17:30 〜 17:45
李 恩慈1、〇野田 周一1、水林 亘2、遠藤 和彦2、寒川 誠二1,2 (1.東北大流体研、2.産総研ナノエレ)
スケジュール
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17:45 〜 18:00
〇森田 行則1、前田 辰郎1、太田 裕之1、水林 亘1、大内 真一1、昌原 明植1、松川 貴1、遠藤 和彦1 (1.産業技術総合研究所)
スケジュール
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18:00 〜 18:15
〇稲葉 賢二1、佐藤 絵美1、佐藤 愛美1、小原 幸子1、石澤 由紀江1、宮野 正之1、三浦 隆治1、ボノー パトリック1、鈴木 愛1、宮本 直人1、畠山 望1、張山 昌論1、宮本 明1 (1.東北大学)
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