一般セッション(口頭講演)
[10p-S321-1~7] 3.2 材料・機器光学
2019年3月10日(日) 13:45 〜 15:45 S321 (S321)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇藤枝 一郎1、 柚木 康平1、 高本 享昌1、 繁田 光浩1、 堤 康宏1 (1.立命館大理工)
14:00 〜 14:15
〇福本 禄寿1、 太田 正倫1、 繁田 光浩1、 堤 康宏1、 藤枝 一郎1 (1.立命館大理工)
14:15 〜 14:30
〇(M1)影山 明久1、 富田 康生1、 梅本 浩一2、 Klepp Jürgen3、 Pruner Chrinstian4、 Fally Martin3 (1.電通大、2.ダイセル、3.ウィーン大、4.ザルツブルグ大)
14:30 〜 14:45
〇二神 渉1、 熊澤 光章1、 眞田 夕子1、 村口 良1 (1.日揮触媒化成(株))
15:00 〜 15:15
〇(M1)百崎 龍成1、 河合 孝太郎2、 坂本 盛嗣1、 野田 浩平1、 佐々木 友之1、 川月 喜弘3、 小野 浩司1 (1.長岡技科大、2.神戸高専、3.兵庫県立大)
15:15 〜 15:30
〇(M1)王 培ヒン1、 竹家 啓1、 川瀬 晃道1、 内田 裕久1,2 (1.名古屋大学、2.アークレイ(株))
15:30 〜 15:45
〇吉尾 里司1、 足立 健治1 (1.住友金属鉱山)