〇(P)Dongshi Zhang¹、 Bikas Ranjan^1,2、 Takuo Tanaka^1,2、 Koji Sugioka¹ (1.RIKEN, RIKEN Center for Advanced Photonics (RAP)、2.Metamaterials Laboratory, RIKEN Cluster for Pioneering Research)

10:45 〜 11:00

[9a-W631-7] 短波長フェムト秒レーザーによる合成石英のアブレーション閾値のパルス幅依存性

〇(M1)寺澤英知^1,2、佐藤大輔²、澁谷達則²、盛合靖章²、黒田隆之助²、田中真人²、坂上和之³、鷲尾方一¹ (1.早大理工総研、2.産総研、3.東大光量子セ)

11:00 〜 11:15

[9a-W631-8] 【注目講演】フェムト秒レーザー微細穴あけ加工におけるビームモードの最適化

〇場本圭一¹、谷峻太郎¹、小林洋平¹ (1.東大物性研)

11:15 〜 11:30

[9a-W631-9] ダブルパルスレーザーアブレーションに対するレーザー照射遅延効果

〇肥後輝¹、片山慶太¹、中村亘¹、福岡寛²、吉田岳人³、青木珠緒¹、梅津郁朗¹ (1.甲南大理工、2.奈良高専、3.阿南高専)

11:30 〜 11:45

[9a-W631-10] レーザー加工したCFRPのラマン分光による化学分析

〇森山匡洋^1,5、水谷彬²、谷峻太郎³、中村亮介²、小菅淳³、伊藤功³、趙智剛³、平敬¹、小林洋平^3,4、田丸博晴^1,4、三尾典克^2,4、五神真¹、湯本潤司^1,4 (1.東大院理、2.東大院工、3.東大物性研、4.東大光量子機構、5.東レ)

11:45 〜 12:00

[9a-W631-11] 多光子重合による複合ハイドロゲル微細構造の作製

〇佐野諒¹、片山暁人²、町田茉南²、尾上弘晃^1,2、寺川光洋^1,2 (1.慶大理工、2.慶大院理工)

12:00 〜 12:15

[9a-W631-12] 鉄砲エビが生成する衝撃波発生過程の解明にむけたフェムト秒レーザー誘起キャビテーションバブルの数値解析

〇山本将也¹、中村篤人¹、廣和樹¹、矢尾匡永¹、安國良平²、細川陽一郎²、福岡寛¹ (1.奈良高専、2.奈良先端大物質)

一般セッション(口頭講演)

[9p-W631-1~11] 3.7 レーザープロセシング

2019年3月9日(土) 13:45 〜 16:45 W631 (W631)

花田修賢(弘前大)、寺川光洋(慶大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

+全てマイスケジュールに登録

13:45 〜 14:00

▼ [9p-W631-1] Feature Size Analysis of Pure Proteinaceous Microstructures Fabricated by Femtosecond Laser Direct Write

〇(P)Daniela Serien¹、 Koji Sugioka¹ (1.RIKEN RAP)

14:00 〜 14:15

△ [9p-W631-2] フェムト秒レーザ照射誘起改質を応用したNi/SiC界面における電極形成

〇(B)水尾優作¹、渕上裕暉²、富田卓朗³、久澤大夢³、岡田達也³ (1.徳島大・工・学部生、2.徳島大・院生、3.徳島大・理工)

14:15 〜 14:30

△ [9p-W631-3] 極端紫外線フェムト秒パルスによる誘電体のレーザー加工

〇(PC)澁谷達則¹、坂上和之²、ヂンタンフン³、高橋孝^1,2、石野雅彦³、東口武史⁴、鷲尾方一⁵、田中真人¹、小川博嗣¹、錦野将元³、小林洋平²、黒田隆之助¹ (1.産総研、2.東大、3.量研、4.宇大、5.早大)

14:30 〜 14:45

△ [9p-W631-4] 局所的電子励起領域へのレーザ光吸収によるガラスの超高速内部加工

〇(M1)宮本直之¹、伊藤佑介¹、吉﨑れいな¹、魏超然¹、柴田章広²、長澤郁夫²、長藤圭介¹、杉田直彦¹ (1.東大院工、2.AGC株式会社)

14:45 〜 15:00

△ [9p-W631-5] フェムト秒レーザーダブルパルス照射による金属表面への酸化膜形成によるドット着色

〇西野将伍^1,2、橋田昌樹^1,2、清水雅弘³、古川雄規^1,2、小島完興²、井上峻介^1,2、竹中啓輔⁴、塚本雅裕⁵、阪部周二^1,2 (1.京大院理、2.京大化研、3.京大院工、4.阪大院工、5.阪大接合研)

15:00 〜 15:15

△ [9p-W631-6] エキシマレーザーを用いたAl₂O₃膜アブレーションによる4H-SiCへのAlドーピング

〇(B)鎌田晃生¹、菊地俊文^1,2、中村大輔¹、池上浩^1,2 (1.九大、2.九大ギガフォトン共同部門)

15:30 〜 15:45

△ [9p-W631-7] 液中レーザー溶融法を利用した球状窒化ガリウム粒子の作製と特性評価

〇(M1)児玉裕美¹、和田裕之¹ (1.東工大)

15:45 〜 16:00

△ [9p-W631-8] ナフタロシアニン誘導体ナノ粒子の作製と特性評価

〇(M1)大村景太¹、和田裕之¹ (1.東工大)

16:00 〜 16:15

△ [9p-W631-9] ダブルパルスレーザーアブレーションにおけるプルームダイナミクスと堆積構造の相関

〇片山慶太¹、中村亘¹、福岡寛²、吉田岳人³、青木珠緒¹、梅津郁朗¹ (1.甲南大学、2.奈良工業高等専門学校、3.阿南工業高等専門学校)

16:15 〜 16:30

△ [9p-W631-10] 液中レーザー溶融法によるAgサブミクロン球状粒子作製におけるグリセリンの効果

〇吉原拓輝¹、越崎直人¹、石川善恵² (1.北大院工、2.産総研)

16:30 〜 16:45

△ [9p-W631-11] 液中レーザー溶融法におけるサブミクロン球状粒子生成プロセスに及ぼすパルス幅の効果

〇榊祥太¹、石川善恵²、越崎直人¹ (1.北大工、2.産総研)

一般セッション(ポスター講演)

[9p-PB2-1~12] 3.7 レーザープロセシング

2019年3月9日(土) 16:00 〜 18:00 PB2 (武道場)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

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16:00 〜 18:00

▲ [9p-PB2-1] Ultrasonic Assisted Fabrication of Metal Nanoparticles by Laser Ablation in Liquid

〇(M1)XIN HU¹、 Mardiansyan Mardis¹、 Wahyu Diono¹、 Noriharu Takada¹、 Hideki Kanda¹、 Motonobu Goto¹ (1.Nagoya Univ.)

16:00 〜 18:00

[9p-PB2-2] プラズモニックめっき法による酸化物半導体薄膜表面への銀ナノ構造作製

〇池田佳奈子¹、大西有佳里¹、吉川裕之¹、民谷栄一¹ (1.阪大院工)

16:00 〜 18:00

[9p-PB2-3] 球面収差を利用したレーザ加工による半導体ナノ構造形成

鈴木智貴¹、〇斉藤光徳¹ (1.龍谷大理工)

16:00 〜 18:00

[9p-PB2-4] 木材（杉）のCO2レーザー加工におけるレーザーパルス波形の影響

〇(M2)後藤勇人¹、宇野和行¹、實野孝久² (1.山梨大工、2.阪大レーザー研)

16:00 〜 18:00

[9p-PB2-5] 高繰り返しフェムト秒レーザーを用いた紫外透過性ポリマーの回折格子作製

〇尾崎諒¹、花田修賢¹ (1.弘前大理工)

16:00 〜 18:00

[9p-PB2-6] セラミックスの超短パルスレーザー加工における非熱的/熱的加工境界

〇奈良崎愛子¹、高田英行¹、吉富大¹、鳥塚健二¹、小林洋平² (1.産総研、2.東大物性研)

16:00 〜 18:00

[9p-PB2-7] フェムト秒レーザー誘起表面周期構造が形成されたジルコニアセラミックスの透過電子顕微鏡観察

〇欠端雅之¹、屋代英彦¹、大矢根綾子²、伊藤敦夫³、鳥塚健二¹ (1.産総研　電子光技術、2.産総研　ナノ材料、3.産総研　健康工学)

16:00 〜 18:00

[9p-PB2-8] 高強度レーザー光照射によるアルカンの分子変換における構造異性体の生成

石川和香子¹、〇佐藤俊一¹ (1.東北大多元研)

16:00 〜 18:00

[9p-PB2-9] フェムト秒パルスレーザの３次元強度分布とフェムト秒パルスレーザ照射により形成された気泡の形状との関係

〇(B)西村拓己¹、下林紀幸¹、水谷浩也¹、齋藤隆之¹ (1.静大工)

16:00 〜 18:00

▲ [9p-PB2-10] X-ray, Terahertz Wave, and Sound Emission from Water Flow Irradiated by Intense Femtosecond Laser Pulses in Air

〇Hsin-hui Huang¹、 Takeshi Nagashima²、 Saulius Juodkazis³、 Koji Hatanaka¹ (1.Academia Sinica、2.Setsunan Univ、3.Swinburne Univ. of Tech.)

16:00 〜 18:00

[9p-PB2-11] 共焦点表面位置検出を用いた細胞のフェムト秒レーザー加工

〇(M1)三浦誠¹、長谷川智士¹、岩永将司²、早崎芳夫¹ (1.宇都宮大オプティクス、2.宇都宮大農)

16:00 〜 18:00

[9p-PB2-12] CFRP付着シリコーンオイルのLIBS法による検出

〇佐藤正健¹、田代賢一¹、川口喜三¹、大村英樹¹、秋山陽久¹ (1.産総研)

一般セッション(口頭講演)

[10a-W631-1~12] 3.7 レーザープロセシング

2019年3月10日(日) 09:00 〜 12:15 W631 (W631)

西哲平(豊田中研)、溝尻瑞枝(長岡技科大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

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09:00 〜 09:15

[10a-W631-1] Cu含有クラスターを前駆体とした水の酸化触媒
-中性付近の電解質水溶液中における電気化学触媒活性-

〇西哲平¹、佐藤俊介¹、荒井健男¹、森川健志¹ (1.豊田中研)

09:15 〜 09:30

[10a-W631-2] 液中レーザー溶融法による球状粒子連続合成における分散液粘性が及ぼす効果

〇石川善恵¹、越崎直人² (1.産総研、2.北大工)

09:30 〜 09:45

[10a-W631-3] 気相パルスレーザーアブレーション法によるAgナノ粒子内包担持型TiO₂複合ナノ構造の創製と可視光励起触媒活性

〇(B)荒木崇志¹、今井武史¹、吉田岳人¹、梅津郁朗²、原口雅宣³ (1.阿南高専、2.甲南大理工、3.徳島大理工)

09:45 〜 10:00

[10a-W631-4] CeF₃薄膜を用いた紫外光センサの真空中アニール処理による欠陥制御

〇加藤誠也¹、鈴木健太郎¹、大谷潤¹、加瀬征彦²、小野晋吾¹ (1.名工大、2.ウシオ電機)

10:00 〜 10:15

[10a-W631-5] CO₂レーザー照射と高分子膜被覆で作成したAg/PMMAナノ構造のプラズモン共鳴波長チューニング

〇石松勇樹¹、西川隼人¹、中嶋隆¹ (1.京大エネ研)

10:15 〜 10:30

[10a-W631-6] 近接して生成したレーザーアブレーションバブルの融合過程

〇安東航太¹、石松勇樹¹、中嶋隆¹ (1.京大エネ研)

10:45 〜 11:00

[10a-W631-7] レーザー直接描画による酸化グラフェンー酸化チタンナノ粒子ハイブリッド膜への微細構造形成

〇渡辺明¹、蔡金光²、小川沙也加¹、青柳英二³、伊藤俊³ (1.東北大多元研、2.Inst. Mat., China Acad. Eng. Phys.、3.東北大金研)

11:00 〜 11:15

[10a-W631-8] 光渦同軸干渉光を利用したレーザー描画露光法によるフォトレジストへの回折限界を超えた曲線パターンの形成

〇(M1)膝附拓也¹、坂本盛嗣¹、野田浩平¹、佐々木友之¹、川月喜弘²、後藤耕平³、小野浩司¹ (1.長岡技科大、2.兵庫県立大、3.日産化学(株))

11:15 〜 11:30

[10a-W631-9] Cuメッシュ電極のフレキシブル基板上へのレーザ直接描画と温度センサ作製

〇溝尻瑞枝¹、 Nam Ha Phuong¹、伊藤恭章²、秦誠一² (1.長岡技科大、2.名大院工)

11:30 〜 11:45

[10a-W631-10] レーザー誘起気泡を用いたPDMSポリマーの特殊加工(2)

〇石戸谷悠治¹、成瀬智哉¹、花田修賢¹ (1.弘前大理工)

11:45 〜 12:00

[10a-W631-11] パルスレーザーメルティング法(PLM)によって硫黄を過飽和ドープしたSi単結晶のpn接合特性

〇川本兼司¹、早瀬弘基¹、青木珠緒¹、梅津郁朗¹ (1.甲南大)

12:00 〜 12:15

[10a-W631-12] フェムト秒レーザー照射による結晶改質がp-GaNへのオーミックコンタクトに与える影響

〇(M1)片山裕之¹、直井美貴¹、岡田達也¹、田中康弘²、富田卓朗¹ (1.徳島大工、2.香川大工)

セッション一覧

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[9a-W631-1~12] 3.7 レーザープロセシング

▲ [9a-W631-5] Hierarchical microstructures with high spatial frequency laser induced periodic surface structures (HSFLs) possessing different orientations created by high-fluence femtosecond laser ablation of silicon in liquids

▲ [9a-W631-6] Broadband Ultraviolet-to-Mid-Infrared Anti-Reflective Substrates Developed by Femtosecond Laser Ablation in Organic Solvents

[9p-W631-1~11] 3.7 レーザープロセシング

▼ [9p-W631-1] Feature Size Analysis of Pure Proteinaceous Microstructures Fabricated by Femtosecond Laser Direct Write

△ [9p-W631-2] フェムト秒レーザ照射誘起改質を応用したNi/SiC界面における電極形成

△ [9p-W631-3] 極端紫外線フェムト秒パルスによる誘電体のレーザー加工

△ [9p-W631-4] 局所的電子励起領域へのレーザ光吸収によるガラスの超高速内部加工

△ [9p-W631-5] フェムト秒レーザーダブルパルス照射による金属表面への酸化膜形成によるドット着色

△ [9p-W631-6] エキシマレーザーを用いたAl2O3膜アブレーションによる4H-SiCへのAlドーピング

△ [9p-W631-7] 液中レーザー溶融法を利用した球状窒化ガリウム粒子の作製と特性評価

△ [9p-W631-8] ナフタロシアニン誘導体ナノ粒子の作製と特性評価

△ [9p-W631-9] ダブルパルスレーザーアブレーションにおけるプルームダイナミクスと堆積構造の相関

△ [9p-W631-10] 液中レーザー溶融法によるAgサブミクロン球状粒子作製におけるグリセリンの効果

△ [9p-W631-11] 液中レーザー溶融法におけるサブミクロン球状粒子生成プロセスに及ぼすパルス幅の効果

[9p-PB2-1~12] 3.7 レーザープロセシング

▲ [9p-PB2-1] Ultrasonic Assisted Fabrication of Metal Nanoparticles by Laser Ablation in Liquid

▲ [9p-PB2-10] X-ray, Terahertz Wave, and Sound Emission from Water Flow Irradiated by Intense Femtosecond Laser Pulses in Air

[10a-W631-1~12] 3.7 レーザープロセシング

認証

△ [9p-W631-6] エキシマレーザーを用いたAl₂O₃膜アブレーションによる4H-SiCへのAlドーピング