一般セッション(口頭講演)

[29p-B1-1~20] 7.4 ナノインプリント

2013年3月29日(金) 13:30 〜 18:45 B1 (K2号館 3F-1301)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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[29p-B1-1] 選択的エッジリソグラフィによるナノ,ミクロンサイズ混在パターンの作製 (1:30 PM ～ 1:45 PM)

^○野間隼史，阪本隼志，川田博昭，安田雅昭，平井義彦 (大府大工)

[29p-B1-2] ナノ電極リソグラフィにおける多重パターニングを使ったギャップパタン狭幅化 (1:45 PM ～ 2:00 PM)

^○横尾篤^1,2，ゲディミナスダウデリス¹，福田眞³，納富雅也^1,2 (NTTナノフォトニクスセンタ¹，ＮＴＴ物性研²，弘前大院理工³)

[29p-B1-3] ガラスチップ内マイクロチェンバーの傾斜側壁の形成 (2:00 PM ～ 2:15 PM)

^○銘苅春隆¹，奥山千枝子¹，上野昭久² (産総研¹，ナノクラフトテクノロジーズ²)

[29p-B1-4] 電圧印加ガラスインプリントによる微細構造形成 (2:15 PM ～ 2:30 PM)

^○（B）生田目直季¹，池田弘¹，酒井大輔²，原田建治²，西井準治¹ (北大¹，北見工大²)

[29p-B1-5] 遮蔽モールドを用いた光反応性高分子液晶へのハイブリッドナノインプリント (2:30 PM ～ 2:45 PM)

^○岡田真¹，西岡江美²，近藤瑞穂²，佐々木友之³，春山雄一¹，小野浩司³，川月喜弘²，松井真二¹ (兵県大高度研¹，兵県大工²，長岡技科大³)

[29p-B1-6] UVナノインプリントによる自己組織化フッ素系単分子膜の選択パターニング (2:45 PM ～ 3:00 PM)

^○若葉瞳^1,2，岡田真^1,2，伊吉就三^1,2，春山雄一^1,2，松井真二^1,2 (兵庫県立大¹，JST-CREST²)

[29p-B1-7] ポーラスアルミナを用いたナノインプリント法によるナノ・マイクロ階層構造の作製 (3:00 PM ～ 3:15 PM)

^○柳下崇^1,2，西尾和之^1,2，益田秀樹^1,2 (首都大都市環境¹，神奈川科学技術アカデミー²)

[29p-B1-8] 非晶質材料表面への天然素材を使ったナノインプリントパターニング (3:15 PM ～ 3:30 PM)

^○井上直哉¹，譚ゴオン¹，大井秀雄²，三田正弘²，奥田徳路³，松田晃史¹，吉本護¹ (東工大¹，協同インターナショナル²，SCIVAX³)

[29p-B1-8.1] 休憩(15分)

[29p-B1-9] シームレス円筒モールドによる繊維状基材の高速成形 (3:45 PM ～ 4:00 PM)

^○銘苅春隆^1,2，大友明宏^1,3，高木秀樹^1,2，小久保光典^1,3，後藤博史^1,3 (BEANSプロジェクト¹，産総研²，東芝機械³)

[29p-B1-10] ナノインプリントにおける多軸制御離型機構を用いた離型モードの検討 (4:00 PM ～ 4:15 PM)

^○西野朋季^1,2，藤田萌花¹，川田博昭^1,2，平井義彦^1,2 (大阪府立大¹，JST-CREST²)

[29p-B1-11] PMMA薄膜の熱ナノインプリントにおけるフッ素液体を用いた液浸効果 (4:15 PM ～ 4:30 PM)

^○銘苅春隆，廣島洋 (産総研)

[29p-B1-12] 水晶発振子マイクロバランス法を用いたアクリレート薄膜によるペンタフルオロプロパンの吸収挙動の検討 (4:30 PM ～ 4:45 PM)

^○金子周¹，中川勝^1,2 (東北大多元研¹，JST-CREST²)

[29p-B1-13] △サブ100nmパターンを有する容積均一化モールドを使用する残膜の均一化に関する評価 (4:45 PM ～ 5:00 PM)

^○鈴木健太^1,2,3，尹成圓^2,3，王清^2,3，廣島洋^2,3，西岡泰城¹ (日大¹，産総研²，JST-CREST³)

[29p-B1-14] UVナノインプリントの繰返し離型における添加剤の耐久性評価 (5:00 PM ～ 5:15 PM)

^○伊吉就三^1,2，岡田真^1,2，春山雄一^1,2，松井真二^1,2，中川勝^2,3，廣島洋^2,4 (兵庫県立大¹，JST-CREST²，東北大³，AIST⁴)

[29p-B1-15] X線光電子分光法によるフッ素系添加剤含有UVナノインプリントレジストの深さ方向分析 (5:15 PM ～ 5:30 PM)

^○（B）大山貴弘^1,3，岡田真^1,3，伊吉就三^1,3，春山雄一^1,3，三宅弘人²，水田智也²，松井真二^1,3 (兵庫県立大¹，ダイセル²，JST-CREST³)

[29p-B1-16] ナノインプリントにおける離型プロセスのシミュレーション解析 (5:30 PM ～ 5:45 PM)

^○塩津隆弘^1,2，西倉直紀^1,2，安田雅昭^1,2，川田博昭^1,2，平井義彦^1,2 (大阪府立大院工¹，JST-CREST²)

[29p-B1-17] 有機放射線計測素子の感度向上に向けたナノインプリント技術の応用 (5:45 PM ～ 6:00 PM)

^○多田和広¹，高田英治¹，友廣航平²，藤井一緒¹，増山陽太¹，平井義彦² (富山高専¹，大阪府大院工²)

[29p-B1-18] △熱ナノインプリント技術によるAg配線パターンの形成 (6:00 PM ～ 6:15 PM)

^○丹保浩行¹，大門貴史²，角田龍則¹，横山義之¹，坂井雄一¹，二口友昭¹ (富山県工技セ¹，北陸電工²)

[29p-B1-19] 熱ナノインプリントリソグラフィと無電解Niメッキを用いた微細金属パターン作製 (6:15 PM ～ 6:30 PM)

^○（M1）北川拓哉，川田博昭，平井義彦 (大阪府立大)

[29p-B1-20] ナノインプリント技術を用いた波長可変レーザの作製 (6:30 PM ～ 6:45 PM)

^○吉永弘幸¹，栁沢昌輝¹，金子俊光¹，秋山幹²，田嶋未来雄²，庄子大生²，藤井卓也²，小路元¹ (住友電工¹，住友電工デバイスイノベーション²)

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