13:00 〜 13:15
〇川崎 仁晴1、佐竹 卓彦1,2、青木 振一2 (1.佐世保高専、2.崇城大)
一般セッション(口頭講演)
8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理
2023年3月17日(金) 13:00 〜 17:45 A205 (6号館)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:00 〜 13:15
〇川崎 仁晴1、佐竹 卓彦1,2、青木 振一2 (1.佐世保高専、2.崇城大)
13:15 〜 13:30
〇平山 奈津美1、浅見 綾香1、山川 裕1、大城 盛作1、釆山 和弘1 (1.サクラクレパス)
13:30 〜 13:45
〇多村 尚起1、野村 俊光1、垣内 弘章1、大参 宏昌1 (1.阪大院工)
13:45 〜 14:00
〇田口 貢士1、山原 基裕1、富川 弥奈1、登尾 一幸1 (1.株式会社魁半導体)
14:00 〜 14:15
〇田口 貢士1、富川 弥奈1、山原 基裕1、登尾 一幸1 (1.株式会社魁半導体)
14:15 〜 14:30
〇田口 貢士1、柏木 大樹1、登尾 一幸1、山原 基裕1、富川 弥奈1、山村 明弘1 (1.魁半導体)
14:30 〜 14:45
〇植野 伸哉1、山原 基裕1、登尾 一幸1、田口 貢士1 (1.株式会社魁半導体)
14:45 〜 15:00
〇布村 正太1、坂田 功1、堤 隆嘉2、堀 勝2 (1.産総研、2.名大)
15:00 〜 15:15
〇郷矢 崇浩1、占部 継一郎1、江利口 浩二1 (1.京大院工)
15:30 〜 15:45
〇塩田 貴支1、佐竹 真1、岩瀬 拓1、園田 靖2 (1.日立研開、2.日立ハイテク)
15:45 〜 16:00
〇中村 昭平1,2、谷出 敦1,2、灘原 壮一1,2、石川 健治2、小田 修2、堀 勝2 (1.SCREENホールディングス、2.名古屋大学)
16:00 〜 16:15
〇日和佐 登1、片岡 淳司1、笹尾 典克1、久保井 宗一1、飯野 大輝1、栗原 一彰1、福水 裕之1 (1.キオクシア)
16:15 〜 16:30
〇(B)川村 隼也1、市川 景太1、鈴木 陽香1、飯野 大輝2、福水 裕之2、栗原 一彰2、豊田 浩孝1 (1.名古屋大、2.キオクシア)
16:30 〜 16:45
〇(M1)川畑 竣大1、伊藤 智子1、Kang Song-Yun2、Lee Dongkyu2、唐橋 一浩1、浜口 智志1 (1.阪大院工、2.Samsung Electronics)
16:45 〜 17:00
〇(M2)加藤 響1、花房 宏明1、東 清一郎1 (1.広島大先進理工)
17:00 〜 17:15
〇(M1)北井 達也1、高 思源2、岩本 敏2、太田 泰友1 (1.慶應大理工、2.東大先端研)
17:15 〜 17:30
〇菅野 量子1、岩瀬 拓1、桑原 謙一2 (1.日立研開、2.日立ハイテク)
17:30 〜 17:45
〇林 俊雄1、石川 健治1、関根 誠1、堀 勝1、兒玉 直人1、豊田 浩孝1 (1.名古屋大学工)
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