一般セッション(口頭講演)
[14p-A303-1~14] 【CS.4】 6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス／配線／集積化技術のコードシェア
2020年3月14日(土) 13:45 〜 17:30 A303 (6-303)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇(B)藤原 悠希1、 田原 大祐1、 西中 浩之1、 吉本 昌広1、 野田 実1 (1.京工繊大)
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14:00 〜 14:15
〇(M1)大田 宗司1、 井上 泰一1、 広藤 裕一1、 小池 一歩1、 矢野 満明1 (1.大阪工大ナノ材研)
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14:15 〜 14:30
〇(D)三村 和仙1、 清水 荘雄1、 舟窪 浩1 (1.東京工業大学)
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14:30 〜 14:45
▼ [14p-A303-4] Fabrication of ferroelectric hafnium-zirconium dioxide thin films by solution process
〇(D)Mohit Mohit1、 Jyotish Patidar1、 Ken-Ichi Haga1、 Eisuke Tokumitsu1 (1.School of Materials Science, JAIST)
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14:45 〜 15:00
〇(PC)志村 礼司郎1、 三村 和仙1、 舘山 明紀1、 清水 荘雄1、 舟窪 浩1 (1.東工大物院)
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15:00 〜 15:15
〇(M2)片岡 正和1、 林 将生1、 Kim Min Gee1、 大見 俊一郎1 (1.東工大)
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15:15 〜 15:30
〇藤沢 浩訓1、 中嶋 誠二1、 右田 真司2 (1.兵庫県大、2.産総研)
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15:45 〜 16:00
〇柴山 茂久1、 永野 丞太郎2、 坂下 満男1、 中塚 理1,3 (1.名大院工、2.名大工、3.名大未来研)
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16:00 〜 16:15
〇女屋 崇1,2,3,4、 生田目 俊秀3、 Jung Yongchan2、 Heber Hernandez-Arriaga2、 Mohan Jaidah2、 Kim Harrison S.2、 Khosravi Ava2、 澤本 直美1、 長田 貴弘3、 Wallace Robert M.2、 Kim Jiyoung2、 小椋 厚志1 (1.明治大学、2.テキサス大学ダラス校、3.物材機構、4.学振DC)
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16:15 〜 16:30
〇Zaoyang Lin1、 Tsung-En Lee1、 Hanzhi Tang1、 Kasidit Toprasertpong1、 Mitsuru Takenaka1、 Shinichi Takagi1 (1.The Univ. of Tokyo)
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16:30 〜 16:45
〇(DC)Siri Nittayakasetwat1、 Koji Kita1 (1.Univ. of Tokyo)
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16:45 〜 17:00
〇トープラサートポン カシディット1、 竹中 充1、 高木 信一1 (1.東大院工)
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17:00 〜 17:15
〇吉村 英将1、 莫 非1、 平本 俊郎1、 小林 正治1,2 (1.東大生研、2.東大d.lab)
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17:15 〜 17:30
〇右田 真司1、 太田 裕之1、 森田 行則1 (1.産総研)
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