一般セッション(口頭講演)

[12a-B410-1~8] 3.7 レーザープロセシング

2020年3月12日(木) 09:30 〜 11:45 B410 (2-410)

大越昌幸(防衛大)、津山美穂(近畿大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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09:30 〜 09:45

[12a-B410-1] 薄膜のシングルショットレーザー干渉加工による電子ホログラムの作製

〇福島涼太^1,2、上杉祐貴²、齋藤晃³、佐藤俊一² (1.東北大院工、2.東北大多元研、3.名古屋大未来研)

09:45 〜 10:00

[12a-B410-2] 光渦同軸干渉光を利用したレーザー描画露光法における位相差制御を用いた曲線レジストパターンの形成

〇(M2)膝附拓也¹、坂本盛嗣¹、野田浩平¹、川月喜弘²、筒井皇晶³、小野浩司¹ (1.長岡技科大、2.兵庫県立大、3.日産化学(株))

10:00 〜 10:15

[12a-B410-3] レーザー直接描画法によるグラフェンハイブリッド構造の形成とセンサー応用

〇渡辺明¹、 Rahman Ashiqur^1,2、 Cai Jinguang³、 Aminuzzaman Mohammod⁴ (1.東北大多元研、2.American Int. Univ. Bangladesh、3.Inst. Mat., China Acad. Eng. Phys.、4.Universiti Tunku Abdul Rahman)

10:15 〜 10:30

[12a-B410-4] ドライプラズマ閉じ込め層下におけるレーザーピーニング効果

〇津山美穂¹、杉本優樹¹、部谷学²、中野人志¹ (1.近大理工、2.大産大工)

10:45 〜 11:00

[12a-B410-5] 時間依存偏光フェムト秒レーザーパルス照射により誘起されるジルコニアセラミックス表面の周期構造

〇欠端雅之¹、屋代英彦¹ (1.産総研　電子光)

11:00 〜 11:15

[12a-B410-6] パルスレーザーメルティング法（PLM）によって硫黄を過飽和ド－プしたSi 結晶の少数キャリア濃度

〇川本兼司¹、青木珠緒¹、梅津郁朗¹ (1.甲南大)

11:15 〜 11:30

[12a-B410-7] 薄膜レーザーアブレーションによりドーピングが施された4H-SiCの電気特性評価

〇菊地俊文^1,2、妹川要²、池田晃裕³、中村大輔¹、浅野種正¹、池上浩^1,2 (1.九大シス情、2.九大ギガフォトンNextGLP共同研究部門、3.崇城大学情報学科)

11:30 〜 11:45

[12a-B410-8] 光化学改質法により形成した耐摩耗性シリコーン塗膜の分子構造分布解析

〇小島洋治¹、野尻秀智²、大越昌幸³ (1.広島県総研、2.レニアス、3.防衛大電気電子)

一般セッション(口頭講演)

[12p-B410-1~16] 3.7 レーザープロセシング

2020年3月12日(木) 13:30 〜 18:00 B410 (2-410)

中村大輔(九大)、寺川光洋(慶大)、辻剛志(島根大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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13:30 〜 13:45

[12p-B410-1] 液中レーザーアブレーションによるナノ粒子ゲル状凝集体の生成とこれを利用したナノコンポジットの作製

〇辻剛志¹、金子美貴¹、藤原萌豊¹、新大軌¹、宮崎英敏¹ (1.島根大総理工)

13:45 〜 14:00

[12p-B410-2] 液中レーザーアブレーション法によるGd₂O₃:Er,Yb ナノ粒子の作製と光学特性

〇(M1)鄭優莉¹、 Wang Haohao²、和田裕之¹ (1.東工大物質理工、2.南京農大)

14:00 〜 14:15

[12p-B410-3] 液中レーザーアブレーション法による硫化銅ナノ粒子の作製と評価

〇磯田和輝¹、柳原龍河¹、和田裕之¹ (1.東工大物質理工)

14:15 〜 14:30

[12p-B410-4] パルスレーザー堆積法によるポーラスAl₂O₃膜の形成

〇(B)佐嘉田幹大¹、菊池俊文^1,2、中村大輔¹、池上浩^1,2 (1.九大、2.九大ギガフォトン共同部門)

14:30 〜 14:45

[12p-B410-5] レーザーを用いたZnOマイクロ結晶球合成における雰囲気圧力の影響

〇川本実季¹、大島広暉¹、東畠三洋¹、池上浩¹、中村大輔¹ (1.九大シス情)

15:00 〜 15:15

[12p-B410-6] 対向衝撃波通過後のパルスレーザー誘起プルームのダイナミクス

〇肥後輝¹、片山慶太¹、福岡寛²、吉田岳人³、青木珠緒¹、梅津郁朗¹ (1.甲南大、2.奈良高専、3.阿南高専)

15:15 〜 15:30

[12p-B410-7] 衝突するパルスレーザー誘起プルームの混合過程に対する雰囲気ガス種の効果

〇岡田蓮¹、片山慶太¹、肥後輝¹、福岡寛²、吉田岳人³、青木珠緒¹、梅津郁朗¹ (1.甲南大、2.奈良高専、3.阿南高専)

15:30 〜 15:45

△ [12p-B410-8] パルスレーザーアブレーション過程で複合ナノ粒子の凝集に対する衝撃波の効果

〇(DC)片山慶太¹、福岡寛²、吉田岳人³、青木珠緒¹、梅津郁朗¹ (1.甲南大理工、2.奈良高専、3.阿南高専)

15:45 〜 16:00

△ [12p-B410-9] フェムト秒レーザー閾値以下予備照射によるチタン表面光学特性の時間変化

〇(DC)古川雄規^1,2、橋田昌樹^1,2、井上峻介^1,2、阪部周二^1,2 (1.京大化研、2.京大院理)

16:00 〜 16:15

△ [12p-B410-10] セルロースナノファイバーのフェムト秒レーザー炭化による導電性構造作製

〇茂呂澤郁也¹、林秀一郎²、寺川光洋^1,2 (1.慶大理工、2.慶大院理工)

16:15 〜 16:30

△ [12p-B410-11] 多光子還元法を利用したハイドロゲル内部におけるマイクロチャネルの光駆動寸法変化

〇長野陽¹、水口晃介²、尾上弘晃^1,2、寺川光洋^1,2 (1.慶大理工、2.慶大院理工)

16:45 〜 17:00

△ [12p-B410-12] レーザー誘起結晶化技術におけるパルス時間幅の影響

〇釣優香¹、丸山美帆子^1,2、吉川洋史^1,3、安達宏昭^1,4、高野和文^2,4、塚本勝男^1,5、今西正幸¹、吉村政志⁶、森勇介^1,4 (1.阪大院工、2.京府大生命環境、3.埼玉大院理工、4.創晶、5.東北大院理、6.阪大レーザー研)

17:00 〜 17:15

▼ [12p-B410-13] Hybrid Additive and Subtractive Patterning of Bovine Serum Albumin Microstructures by Femtosecond Laser Direct Write

〇(P)Daniela Serien¹、 Koji Sugioka¹ (1.RIKEN RAP)

17:15 〜 17:30

▲ [12p-B410-14] Femtosecond Laser induced Periodic Surface Nanostructure on Cu-Ag Double Layer inside glass microfluidic channel for Surface Enhanced Raman Scattering

〇(P)Shi Bai¹、 Daniela Serien¹、 Kotaro Obata¹、 Koji Sugioka¹ (1.RAP, RIKEN)

17:30 〜 17:45

△ [12p-B410-15] 各種半導体の中赤外FEL照射による微細LIPSS形成条件～微細LIPSS形成閾値と融解閾値～

〇(M1C)田中陽平¹、細川誓¹、橋田昌樹^1,2、全炳俊³、長島健⁴、尾崎典雅⁵、井上峻介^1,2、阪部周二^1,2 (1.京大理物、2.京大化研、3.京大エネ研、4.摂南大理工、5.阪大工)

17:45 〜 18:00

△ [12p-B410-16] 深層学習を用いたレーザー照射によるガラスの空洞分布の時間発展予測

〇(M2)島原光平¹、小林洋平¹、谷峻太郎¹ (1.東大物性研)

一般セッション(口頭講演)

[13a-B410-1~9] 3.7 レーザープロセシング

2020年3月13日(金) 09:00 〜 11:30 B410 (2-410)

奈良崎愛子(産総研)、伊藤佑介(東大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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09:00 〜 09:15

[13a-B410-1] 可視フェムト秒レーザーによる石英ガラスのアブレーション現象のPump-Probe時間分解イメージング

〇(M2)寺澤英知^1,2、佐藤大輔²、澁谷達則²、盛合靖章²、小川博嗣²、田中真人²、黒田隆之助²、坂上和之^1,3、鷲尾方一¹ (1.早大理工総研、2.産総研、3.東大光量子センター)

09:15 〜 09:30

[13a-B410-2] ガラスのフェムト秒レーザ穴あけ加工におけるダメージ形成メカニズムの調査

〇伊藤佑介¹、長藤圭介¹、杉田直彦¹ (1.東大院工)

09:30 〜 09:45

[13a-B410-3] GHzバーストモードフェムト秒レーザーアブレーションによる表面加工形状の観察

〇小幡孝太郎¹、カバジェロルカスフランセスク¹、杉岡幸次¹ (1.理研　光量子)

09:45 〜 10:00

[13a-B410-4] フェムト秒レーザー穴あけ加工におけるフィードバック制御

〇場本圭一¹、谷峻太郎¹、小林洋平¹ (1.東大物性研)

10:00 〜 10:15

[13a-B410-5] 誘電体に対するレーザーアブレーション閾値のパルス幅依存性精密測定

〇高橋孝^1,2、谷峻太郎¹、黒田隆之助²、小林洋平^1,2 (1.東大物性研、2.産総研オペランドOIL)

10:30 〜 10:45

[13a-B410-6] 任意波形ナノ秒パルスレーザーによる加工に最適な時間波形の探索

〇遠藤翼¹、谷峻太郎¹、小林洋平¹ (1.東大物性研)

10:45 〜 11:00

[13a-B410-7] ArFレーザー照射によりシリコーンゴム表面に作製された微細隆起構造の成長速度

〇横山岬¹、吉田剛¹、松木伸行²、大越昌幸¹ (1.防衛大電気電子、2.神大工)

11:00 〜 11:15

[13a-B410-8] 二色レーザーを用いた固体における非線形光子吸収の第一原理計算

〇佐々木翔¹、篠原康¹、石川顕一¹ (1.東大院工)

11:15 〜 11:30

[13a-B410-9] 超短パルスレーザー穴あけ加工における繰り返しレートとパルス幅の影響に関する広域連続的な分析

〇吉富大¹、高田英行¹、奈良崎愛子¹、鳥塚健二¹、小林洋平² (1.産総研、2.東大物性研)

一般セッション(ポスター講演)

[14a-PB4-1~15] 3.7 レーザープロセシング

2020年3月14日(土) 09:30 〜 11:30 PB4 (第１体育館)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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09:30 〜 11:30

[14a-PB4-1] ギ酸銅を出発剤としたグリオキシル酸銅錯体のグリーンフェムト秒レーザ還元描画

〇(B)林智英¹、植月暁²、大石知司²、溝尻瑞枝¹ (1.長岡技科大、2.芝浦工大)

09:30 〜 11:30

[14a-PB4-2] フェムト秒レーザ還元描画Cuパターンのナノ秒レーザ表面酸化処理

〇吉冨恭平¹、中村奨²、溝尻瑞枝¹ (1.長岡技科大、2.長岡高専)

09:30 〜 11:30

[14a-PB4-3] ３種アルカン混合液への高強度レーザー光照射による分子変換

石川和香子¹、〇佐藤俊一¹ (1.東北大多元研)

09:30 〜 11:30

[14a-PB4-4] 清浄表面の金―白金合金ナノ粒子の作製と磁気特性

〇片桐直人^1,2、佐藤俊一² (1.東北大院工、2.東北大多元研)

09:30 〜 11:30

[14a-PB4-5] 波面補償を用いたホログラフィック紫外レーザー加工の高精度化

〇(M1C)加藤瑞樹¹、長谷川智士¹、早崎芳夫¹ (1.宇都宮大オプティクス)

09:30 〜 11:30

[14a-PB4-6] 軸方向放電励起CO₂レーザーによるガラスの穴あけ加工

〇馬場善仁¹、渡會翔平¹、坂本康平¹、宇野和行¹、實野孝久² (1.山梨大、2.阪大レーザー研)

09:30 〜 11:30

[14a-PB4-7] パルス積重数変化によるSi基板への円偏光LIPSS形成過程

中村歩夢¹、〇宮川鈴衣奈¹、江龍修¹ (1.名工大)

09:30 〜 11:30

[14a-PB4-8] GaN基板上への円偏光LIPSS形成

〇松浦英徳¹、宮川鈴衣奈¹、江龍修¹ (1.名工大院)

09:30 〜 11:30

[14a-PB4-9] ガラスへの選択的光吸収によって形成した高温領域の高速掃引によるレーザ溝加工

〇(M2)魏超然¹、伊藤佑介¹、吉崎れいな¹、柴田章広²、長澤郁夫²、長藤圭介¹、杉田直彦¹ (1.東大院工、2.AGC)

09:30 〜 11:30

[14a-PB4-10] 銀ナノ粒子の近接場を用いた紫外透過性ポリマーのナノ加工

〇向山光太郎¹、竹内祐貴²、武安伸幸²、花田修賢¹ (1.弘前大理工、2.岡山大院)

09:30 〜 11:30

[14a-PB4-11] F₂レーザーによるポリカーボネート上Al薄膜パターニングの微細化

〇吉田剛¹、野尻秀智²、大越昌幸¹ (1.防大電気電子、2.（株）レニアス)

09:30 〜 11:30

[14a-PB4-12] 強く集光した径偏光ビームによるレーザー微細加工の材料依存性

佐藤柾¹、〇小澤祐市¹、佐藤俊一¹ (1.東北大多元研)

09:30 〜 11:30

[14a-PB4-13] プラズモン誘起還元反応で形成した銀-酸化亜鉛ナノ構造の物性評価

〇吉川裕之¹、池田佳奈子¹、民谷栄一^1,2 (1.阪大院工、2.産総研先端フォトバイオ)

09:30 〜 11:30

[14a-PB4-14] 液中レーザーアブレーションによるYAG:Ceナノ粒子の作製と光学特性

〇(M1)渡邉圭一¹、和田裕之¹ (1.東工大物質理工学院)

09:30 〜 11:30

[14a-PB4-15] フロー式液中レーザー溶融法を用いた中空粒子の複数パルス照射による変化の追跡

〇石川善恵¹、越崎直人² (1.産総研、2.北大工)

セッション一覧

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[12a-B410-1~8] 3.7 レーザープロセシング

[12p-B410-1~16] 3.7 レーザープロセシング

△ [12p-B410-8] パルスレーザーアブレーション過程で複合ナノ粒子の凝集に対する衝撃波の効果

△ [12p-B410-9] フェムト秒レーザー閾値以下予備照射によるチタン表面光学特性の時間変化

△ [12p-B410-10] セルロースナノファイバーのフェムト秒レーザー炭化による導電性構造作製

△ [12p-B410-11] 多光子還元法を利用したハイドロゲル内部におけるマイクロチャネルの光駆動寸法変化

△ [12p-B410-12] レーザー誘起結晶化技術におけるパルス時間幅の影響

▼ [12p-B410-13] Hybrid Additive and Subtractive Patterning of Bovine Serum Albumin Microstructures by Femtosecond Laser Direct Write

▲ [12p-B410-14] Femtosecond Laser induced Periodic Surface Nanostructure on Cu-Ag Double Layer inside glass microfluidic channel for Surface Enhanced Raman Scattering

△ [12p-B410-15] 各種半導体の中赤外FEL照射による微細LIPSS形成条件～微細LIPSS形成閾値と融解閾値～

△ [12p-B410-16] 深層学習を用いたレーザー照射によるガラスの空洞分布の時間発展予測

[13a-B410-1~9] 3.7 レーザープロセシング

[14a-PB4-1~15] 3.7 レーザープロセシング

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