一般セッション(口頭講演)
[14p-B508-1~8] 3.15 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス
2020年3月14日(土) 15:45 〜 18:00 B508 (2-508)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
15:45 〜 16:00
〇松浦 壮佑1、 山作 直貴1、 西島 喜明1、 岡崎 慎司1、 荒川 太郎1 (1.横浜国立大学院工)
16:00 〜 16:15
〇(M1)吉木 幹人1 (1.東工大)
16:15 〜 16:30
〇(D)Alka Singh1、 Tomoki Nishimura2、 Hiroaki Satoh2,3、 Hiroshi Inokawa1,2,3 (1.GSST, Shizuoka Univ.、2.GSIST, Shizuoka Univ.、3.RIE, Shizuoka Univ.)
16:30 〜 16:45
〇(M1)宮武 悠人1、 関根 尚希1、 カシディット トープラサートポン1、 高木 信一1、 竹中 充1 (1.東大院工)
17:00 〜 17:15
〇(B)吉田 周平1、 上北 崇弘1、 清水 大雅1,2 (1.東京農工大工、2.東京農工大 GIR)
17:15 〜 17:30
〇(M1)岡本 将樹1、 北 智洋1、 Mendez-Astudillo Manuel1 (1.早稲田大学)
17:30 〜 17:45
〇槇原 豊1、 Eissa Moataz1、 御手洗 拓矢1、 宮嵜 隆之1、 雨宮 智宏1,2、 西山 伸彦1,2 (1.東工大工、2.東工大創成院)
17:45 〜 18:00
〇坂田 晟大1、 近藤 圭祐1、 馬場 俊彦1 (1.横国大・院工)