[N-5-4] High Mobility N-MOSFETs on GeSn Film Formed by Solid Phase Epitaxy with Surface Passivation by Oxygen Plasma Treatment
2015 International Conference on Solid State Devices and Materials
|2015年9月29日(火)
894件中(291 - 300)
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|2015年9月29日(火)
2015 International Conference on Solid State Devices and Materials
|2015年9月30日(水)
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|2015年9月30日(水)
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|2015年9月30日(水)
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|2015年9月28日(月)
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|2015年9月28日(月)
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|2015年9月28日(月)
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