一般セッション(口頭講演)
[15a-A409-1~6] 6.3 酸化物エレクトロニクス
10:00 〜 10:15
〇(M1)大澤 樹1、 庄司 拓貴1、 金子 健太1、 金子 智2,1、 松田 晃史1、 吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.神奈川産技総研)
10:15 〜 10:30
〇浜砂 智1、 パティ サトウヤ プラカシュ1、 矢嶋 赳彬1 (1.九州大学)
10:30 〜 10:45
〇宮谷 俊輝1、 上沼 睦典2、 浦岡 行治2、 木本 恒暢1、 西 佑介1,3 (1.京大院工、2.奈良先端大、3.舞鶴高専)
10:45 〜 11:00
〇高橋 竜太1、 鈴木 静華1、 徳永 智春2、 山本 剛久2、 リップマー ミック3 (1.日大工、2.名大工、3.東大物性研)
11:00 〜 11:15
〇(D)鈴木 静華1、 太宰 卓朗1、 徳永 智春2、 山本 剛久2、 加藤 隆二1、 高橋 竜太1 (1.日大工、2.名大工)
11:15 〜 11:30
〇磯田 洋介1、 菅 大介1、 間嶋 拓也2、 島川 祐一1 (1.京大化研、2.京大院工)