一般セッション(ポスター講演)

[16a-PA05-1~2] 3.6 レーザープロセシング（旧3.7）

2023年3月16日(木) 09:30 〜 11:30 PA05 (ポスター)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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09:30 〜 11:30

[16a-PA05-1] F₂レーザーによる Al₂O₃薄膜の形成 (2)

〇(M1)奥園聡史¹、吉田剛¹、大越昌幸¹ (1.防衛大電気電子)

09:30 〜 11:30

[16a-PA05-2] レーザー焼結法によるハイドロキシアパタイトの微細構造の検討

〇溝上真由¹、三上勝大¹、西川博昭¹ (1.近大生物理工)

一般セッション(口頭講演)

[17a-A405-1~9] 3.6 レーザープロセシング（旧3.7）

2023年3月17日(金) 09:00 〜 11:30 A405 (6号館)

谷峻太郎(東大)、宮地悟代(農工大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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09:00 〜 09:15

[17a-A405-1] レーザーアブレーションおける電子温度効果：分子動力学シミュレーション

〇小林亮¹、乙部智仁² (1.名工大工、2.量研機構)

09:15 〜 09:30

[17a-A405-2] 高強度フェムト秒レーザーから金属へのエネルギー移行における電子間散乱の効果

〇谷水城^1,2、乙部智仁²、篠原康¹、石川顕一¹ (1.東大院工、2.量研関西)

09:30 〜 09:45

[17a-A405-3] 熱的・非熱的レーザー破壊閾値の境界決定

〇遠藤翼¹、谷峻太郎¹、櫻井治之¹、小林洋平¹ (1.東大物性研)

09:45 〜 10:00

▲ [17a-A405-4] Preparation of manganese phthalocyanine nanoparticles by laser ablation in liquid and application to contrast agents for photoacoustic imaging

〇Yuchun Wang¹、 Hiroyuki Wada¹ (1.Tokyo Tech)

10:00 〜 10:15

[17a-A405-5] 中赤外線自由電子レーザーパルス列を用いた微細周期構造形成のポンププローブ計測

〇升野振一郎¹、橋田昌樹^1,2、全炳俊³、時田茂樹¹ (1.京大化研、2.東海大総科研、3.京大エネ研)

10:30 〜 10:45

[17a-A405-6] YAGレーザによるステンレスのアブレーション閾値測定

〇岡崎未来瑠¹、橋田昌樹²、岩森暁¹ (1.東海大工、2.総合科技研)

10:45 〜 11:00

[17a-A405-7] レーザーアブレーション過程で放出された液滴の挙動

伊東佑真¹、吉田岳人²、青木珠緖¹、〇梅津郁朗¹ (1.甲南大理工、2.阿南高専)

11:00 〜 11:15

▲ [17a-A405-8] Laser Processing Properties of Tungsten-Rhenium Alloy and Potassium-doped Tungsten

〇Haotian Yang¹、 Ryo Yasuhara^1,2、 Hiroyuki Noto^1,2、 Chihiro Suzuki^1,2、 Hiyori Uehara^1,2 (1.SOKENDAI、2.NIFS)

11:15 〜 11:30

[17a-A405-9] フェムト秒レーザーを用いたZnO基板への単一ナノ溝構造の形成

〇(B)森本純至^1,2、 Shi Bai¹、小幡孝太郎¹、宮地悟代²、杉岡幸次¹ (1.理研　光量子、2.東京農工大)

一般セッション(口頭講演)

[17p-A405-1~14] 3.6 レーザープロセシング（旧3.7）

2023年3月17日(金) 13:00 〜 16:45 A405 (6号館)

花田修賢(弘前大)、長谷川智士(宇都宮大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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13:00 〜 13:15

△ [17p-A405-1] 自由電子レーザー照射によってSi基板に形成された微細構造(LIPSS)

〇(M1)星野陽太¹、野平真義¹、岩田展幸¹ (1.日大理工)

13:15 〜 13:30

△ [17p-A405-2] GHzバーストモードフェムト秒レーザーを用いたTi表面への新奇2次元表面微細周期構造の形成

〇川端祥太^1,2、白石^1,3、小幡孝太郎¹、宮地悟代²、杉岡幸次¹ (1.理研光量子、2.東京農工大、3.河北科技大)

13:30 〜 13:45

△ [17p-A405-3] 鉄鋼材料への炭化水素液中での短パルスレーザー照射による耐摩耗性表面作製

〇鈴木基生¹、田中良樹¹、中村友哉¹、劉暁旭¹、前川覚¹、糸魚川文広¹、小野晋吾¹ (1.名工大)

13:45 〜 14:00

△ [17p-A405-4] レーザードーピング後の光学顕微鏡画像を用いた機械学習による 4H-SiC 電極のコンタクト状態の予測

〇岩泉裕生¹、安並拓磨¹、片山慶太¹、柿本祥明²、中村大輔¹、後藤哲也³、池上浩^1,2 (1.九大シス情、2.九大ギガフォトン共同部門、3.東北大未来研)

14:00 〜 14:15

△ [17p-A405-5] フェムト秒レーザ照射下のガラス内部における電子励起過程の時間分解定量イメージング

〇鄭勤如¹、伊藤佑介¹、服部隼也¹、手嶋勇太¹、任国旗¹、孫慧傑¹、アマニレザ²、岩崎純史²、杉田直彦¹ (1.東大院工、2.東大院理)

14:15 〜 14:30

△ [17p-A405-6] 木材成分へのレーザー照射による生成物の特性評価

〇山田萩平¹、足立零生¹、石内俊一²、和田裕之¹ (1.東工大物質理工、2.東工大理)

14:30 〜 14:45

△ [17p-A405-7] p/n半導性制御のための不純物ドープβ-Ga₂O₃薄膜の室温固相結晶化に向けたエキシマレーザーアニールプロセスの検討

〇沼田拓実¹、甲斐稜也¹、大賀友瑛¹、金子智^1,2、松田晃史¹、吉本護¹ (1.東工大物質理工、2.神奈川産技総研)

15:00 〜 15:15

△ [17p-A405-8] 液中レーザー照射によるイオン交換ゼオライトナノ粒子の作製と評価

〇小西紀進¹、和田裕之¹ (1.東工大物)

15:15 〜 15:30

△ [17p-A405-9] 超短パルスレーザ照射時の材料表面膨張過程のナノスケール計測

〇魏超然¹、伊藤佑介¹、服部隼也¹、孫慧傑¹、北村章吾¹、杉田直彦¹ (1.東大院工)

15:30 〜 15:45

△ [17p-A405-10] フィードバック制御によるガラス表面へのフェムト秒レーザー誘起ナノ周期構造の安定形成

〇長井大輔^1,2、高田英行²、奈良崎愛子²、宮地悟代¹ (1.東京農工大、2.産総研)

15:45 〜 16:00

▼ [17p-A405-11] Excitation dynamics in silicon using two-dimensional Three-Temperature Model

〇(P)Prachi Venkat¹、 Tomohito Otobe^1,2 (1.KPSI (QST)、2.PSC (Univ. of Tokyo))

16:00 〜 16:15

[17p-A405-12] 深層学習を用いた多種誘電体材料のレーザー深穴加工シミュレータ開発

〇(D)島原光平¹、谷峻太郎¹、櫻井治之¹、小林洋平¹ (1.東大物性研)

16:15 〜 16:30

[17p-A405-13] 深層学習を用いたレーザー誘起ナノ周期構造の推定による最適レーザー照射パラメータの決定

〇(B)増田諒太¹、早崎芳夫¹、長谷川智士¹ (1.宇都宮大学オプティクス教育センター)

16:30 〜 16:45

[17p-A405-14] 計算機ホログラムサーバーを備えるホログラフィック光学エンジン

〇(M1)小杉健文¹、長谷川智士¹、早崎芳夫¹ (1.宇都宮大オプティクス)

一般セッション(口頭講演)

[18a-A405-1~9] 3.6 レーザープロセシング（旧3.7）

2023年3月18日(土) 09:00 〜 11:30 A405 (6号館)

中嶋隆(京大)、小幡孝太郎(理研)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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09:00 〜 09:15

[18a-A405-1] ナノ秒レーザーパルス照射による高品質極浅穴およびラインの作製

〇曽田圭亮¹、安東航太¹、中嶋隆¹ (1.京都大)

09:15 〜 09:30

[18a-A405-2] 水電解用電極面のレーザー加工による電解効率向上

〇曽田圭亮¹、安東航太¹、内本喜晴¹、中嶋隆¹ (1.京都大)

09:30 〜 09:45

[18a-A405-3] モスアイ反射防止構造の透過スペクトルの格子構造依存性

〇小池陸生¹、川野将太郎¹、櫻井治之¹、小西邦昭¹、三尾典克¹ (1.東大院理)

09:45 〜 10:00

[18a-A405-4] 透明フッ素樹脂材料CYTOPへの3次元マイクロ流路チップの作製と高解像度細胞観察への応用

〇半澤未来^1,2、小幡孝太郎¹、河野弘幸³、尾笹一成¹、花田修賢⁴、宮脇敦史³、宮地悟代²、杉岡幸次¹ (1.理研光量子、2.農工大、3.理研 CBS、4.弘前大)

10:00 〜 10:15

▲ [18a-A405-5] Ultrahigh Speed Femtosecond Laser Fabrication of Numerous Glass Micro-chambers for Molecular Analysis

〇(P)Jiawei Zhang¹、 Kotaro Obata¹、 Koji Sugioka¹ (1.RIKEN)

10:30 〜 10:45

[18a-A405-6] SiC上のFe/Cr/Ni 積層膜へのフェムト秒レーザー照射

〇古市健人¹、山口誠²、岡田達也¹、富田卓朗¹ (1.徳島大理工、2.秋田大理工)

10:45 〜 11:00

[18a-A405-7] 鉄/クロム/ニッケル薄膜へのピコ秒レーザー照射による新奇合金生成のパルス時間幅依存性

〇河野太洋¹、土屋叡本²、山口誠³、岡田達也¹、小林洋平²、富田卓朗¹ (1.徳島大理工、2.東大物性研、3.秋田大理工)

11:00 〜 11:15

[18a-A405-8] レーザーで作成した電極表面マイクロ構造における水素気泡の生成挙動

〇安東航太¹、 Xiaofeng Wang¹、内本喜晴¹、中嶋隆¹ (1.京都大学)

11:15 〜 11:30

[18a-A405-9] ナノ秒ファイバーレーザーを用いたガラス光拡散板の作製

〇安東航太¹、 Weikang Rong¹、中嶋隆¹ (1.京都大学)

一般セッション(口頭講演)

[18p-A405-1~11] 3.6 レーザープロセシング（旧3.7）

2023年3月18日(土) 13:00 〜 16:00 A405 (6号館)

寺川光洋(慶大)、西山宏昭(山形大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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13:00 〜 13:15

[18p-A405-1] アルギン酸ハイドロゲルへのレーザー照射による導電性黒鉛質炭素構造の作製

〇服部雄真¹、宮越陸人²、伊藤茜^1,2、尾上弘晃^1,2、寺川光洋^1,2 (1.慶大理工、2.慶大院理工)

13:15 〜 13:30

[18p-A405-2] フェムト秒レーザーの高速走査による温度応答性ハイドロゲル内部の多光子還元

〇柏川健¹、尾上弘晃^1,2、寺川光洋^1,2 (1.慶大理工、2.慶大院理工)

13:30 〜 13:45

[18p-A405-3] フェムト秒レーザーを用いたコラーゲンの3Dマイクロ流体構造の作製

〇阿部航大¹、山田壮平¹、花田修賢¹ (1.弘前大理工)

13:45 〜 14:00

[18p-A405-4] Holographic laser processing machine with a rotating stage

〇(M1)YUTA NAKAMURA¹、 SATOSHI HASEGAWA¹、 YOSHIO HAYASAKI¹ (1.Utsunomiya Univ.)

14:00 〜 14:15

[18p-A405-5] レーザー穴加工におけるレーザー生成音を用いたレンズ位置制御

〇早崎芳夫¹、三浦拓真¹、熊谷幸汰¹ (1.宇都宮大オプティクス)

14:15 〜 14:30

[18p-A405-6] 紙のフェムト秒レーザーに加工

清水大輔¹、〇早崎芳夫¹ (1.宇都宮大オプティクス)

14:45 〜 15:00

[18p-A405-7] フェムト秒レーザー粒子集積プロセスにおける集光部近傍の伝熱解析

〇西山宏昭¹、沼田洸¹、青山昌央¹ (1.山形大院理工)

15:00 〜 15:15

[18p-A405-8] 二段階フェムト秒レーザー照射による非感光性粒子集積体のライン描画

〇西山宏昭¹、松本春加¹、大森隆史¹ (1.山形大院理工)

15:15 〜 15:30

[18p-A405-9] レーザー加工時におけるリアルタイム温度計測の高感度化

〇高田英行¹、吉富大¹、奈良崎愛子¹ (1.産総研)

15:30 〜 15:45

[18p-A405-10] レーザー誘起衝撃波によりメタノール中で生成した分子の赤外吸収分光

石川和香子¹、〇佐藤俊一¹ (1.東北大多元研)

15:45 〜 16:00

[18p-A405-11] 超高速時間分解複屈折イメージングによる超短パルスレーザー誘起異方性ナノ構造の動的観察

〇寺澤英知^1,2、佐藤大輔^2,3、丸征那^1,2、澁谷達則³、盛合靖章^2,4、小川博嗣^2,3、田中真人^2,3、坂上和之⁵、鷲尾方一¹、小林洋平^2,4、黒田隆之助^2,3 (1.早大理工総研、2.産総研オペランド計測OIL、3.産総研分析計測標準、4.東大物性研、5.東大院工)

セッション一覧

3 光・フォトニクス » 3.6 レーザープロセシング（旧3.7）

[16a-PA05-1~2] 3.6 レーザープロセシング（旧3.7）

[17a-A405-1~9] 3.6 レーザープロセシング（旧3.7）

▲ [17a-A405-4] Preparation of manganese phthalocyanine nanoparticles by laser ablation in liquid and application to contrast agents for photoacoustic imaging

▲ [17a-A405-8] Laser Processing Properties of Tungsten-Rhenium Alloy and Potassium-doped Tungsten

[17p-A405-1~14] 3.6 レーザープロセシング（旧3.7）

△ [17p-A405-1] 自由電子レーザー照射によってSi基板に形成された微細構造(LIPSS)

△ [17p-A405-2] GHzバーストモードフェムト秒レーザーを用いたTi表面への新奇2次元表面微細周期構造の形成

△ [17p-A405-3] 鉄鋼材料への炭化水素液中での短パルスレーザー照射による耐摩耗性表面作製

△ [17p-A405-4] レーザードーピング後の光学顕微鏡画像を用いた機械学習による 4H-SiC 電極のコンタクト状態の予測

△ [17p-A405-5] フェムト秒レーザ照射下のガラス内部における電子励起過程の時間分解定量イメージング

△ [17p-A405-6] 木材成分へのレーザー照射による生成物の特性評価

△ [17p-A405-7] p/n半導性制御のための不純物ドープβ-Ga2O3薄膜の室温固相結晶化に向けたエキシマレーザーアニールプロセスの検討

△ [17p-A405-8] 液中レーザー照射によるイオン交換ゼオライトナノ粒子の作製と評価

△ [17p-A405-9] 超短パルスレーザ照射時の材料表面膨張過程のナノスケール計測

△ [17p-A405-10] フィードバック制御によるガラス表面へのフェムト秒レーザー誘起ナノ周期構造の安定形成

▼ [17p-A405-11] Excitation dynamics in silicon using two-dimensional Three-Temperature Model

[18a-A405-1~9] 3.6 レーザープロセシング（旧3.7）

▲ [18a-A405-5] Ultrahigh Speed Femtosecond Laser Fabrication of Numerous Glass Micro-chambers for Molecular Analysis

[18p-A405-1~11] 3.6 レーザープロセシング（旧3.7）

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△ [17p-A405-7] p/n半導性制御のための不純物ドープβ-Ga₂O₃薄膜の室温固相結晶化に向けたエキシマレーザーアニールプロセスの検討