13:45 〜 14:00
〇山口 欣秀1、篠田 和典1、藤崎 寿美子1、高妻 豊2、川村 剛平2、伊澤 勝2 (1.日立研開、2.日立ハイテク)
一般セッション(口頭講演)
8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理
2018年9月20日(木) 13:45 〜 19:15 438 (3Fラウンジ)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇山口 欣秀1、篠田 和典1、藤崎 寿美子1、高妻 豊2、川村 剛平2、伊澤 勝2 (1.日立研開、2.日立ハイテク)
14:00 〜 14:15
〇篠田 和典1,3、小林 浩之1、三好 信哉2、川村 剛平2、伊澤 勝2、石川 健治3、堀 勝3 (1.日立研開、2.日立ハイテク、3.名大)
14:15 〜 14:30
〇(D)Abdulrahman Hikmat Basher1、Michiro Isobe1、Tomoko Ito1、Masato Kiuchi2、Take Takeuchi3、Kazuhiro Karahashi1、Ikutaro Hamada1、Yoshitada Morikawa1、Satoshi Hamaguchi1 (1.Osaka Univ.、2.AIST、3.Nara Womens Univ.)
14:30 〜 14:45
〇(M1)中根 一也1、ルネイ ヘンリカス ヨセフ フェーフィート2、堤 隆嘉1、小林 明子2、小林 伸好2、堀 勝3 (1.名大院工、2.日本エー・エス・エム、3.名大未来社会創造機構)
14:45 〜 15:00
〇(M1)大道 貴裕1、谷出 敦1,2、石川 健治1、堤 隆嘉1、近藤 博基1、関根 誠1、堀 勝1 (1.名大院工、2.(株)SCREENホールディングス)
15:00 〜 15:15
〇石川 翔太1、鈴木 陽香1、本田 剛2、豊田 浩孝1 (1.名大工、2.ニッシン)
15:15 〜 15:30
〇橋本 惇一1、大村 光広1、足立 昂拓1、近藤 祐介1、石川 勝朗1、阿部 淳子1、松下 貴哉1、林 久貴1 (1.東芝メモリ)
15:30 〜 15:45
〇唐橋 一浩1、伊藤 智子1、橋本 惇一2、大村 光広2、林 久貴2、浜口 智志1 (1.阪大院工、2.東芝メモリ株式会社)
15:45 〜 16:00
〇林 俊雄1、関根 誠1、石川 健治1、堀 勝1 (1.名大工)
16:00 〜 16:15
〇Nicolas Aini Mauchamp1、Michiro Isobe1、Satoshi Hamaguchi1 (1.Osaka University)
16:15 〜 16:30
〇(M1)Charisse Cagomoc1、Michiro Isobe1、Kazuhiro Karahashi1、Takuya Hirohashi2、Junichi Hashimoto2、Mitsuhiro Omura2、Hisataka Hayashi2、Satoshi Hamaguchi1 (1.Osaka University、2.Toshiba Memory Corp.)
16:45 〜 17:00
〇吉川 侑汰1、江利口 浩二1 (1.京大院工)
17:00 〜 17:15
〇久山 智弘1、吉川 侑汰1、佐藤 好弘1、占部 継一郎1、江利口 浩二1 (1.京大院工)
17:15 〜 17:30
〇濱野 誉1、占部 継一郎1、江利口 浩二1 (1.京大院工)
17:30 〜 17:45
〇布村 正太1、坂田 功1、松原 浩司1 (1.産総研太陽光センター)
17:45 〜 18:00
〇財前 義史1、深沢 正永1、三成 英樹1 (1.ソニーセミコンダクターソリューションズ株式会社)
18:00 〜 18:15
〇(PC)市村 進1、高島 成剛1、水流 一平2、大久保 大地2、松尾 英明2、後藤 峰男2 (1.名古屋産業振興公社、2.中日本炉工業 株式会社)
18:15 〜 18:30
〇新村 公基1、林 仲秋1、鈴木 俊明1,2、丹羽 雅昭1、本橋 光也1 (1.電機大工、2.日本電子)
18:30 〜 18:45
〇相澤 洸1、島田 大伸1、田中島 優1、石島 達夫1、田中 康規1、上杉 喜彦1 (1.金沢大自然)
18:45 〜 19:00
〇(B)谷 雅彦1、矢島 英樹2、古田 寛1、八田 章光1 (1.高知工科大、2.オーク製作所)
19:00 〜 19:15
〇守屋 翔平1、飯島 勇介1、末永 祐磨1、渡邉 俊介2、宮原 秀一3、佐藤 千明2、沖野 晃俊1 (1.東工大未来研、2.東工大フロンティア研、3.東大理学系研究科)
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