一般セッション(口頭講演)
[12a-A202-1~7] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション
10:00 〜 10:15
〇宮木 翼1、 水嶋 祐基1、 真田 俊之1、 濱田 聡美2、 福永 明2、 檜山 浩國2 (1.静岡大工、2.荏原製作所)
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10:15 〜 10:30
〇平野 智暉1、 西尾 賢哉1、 深谷 天1、 齋藤 卓1、 萩本 賢哉1、 岩元 勇人1 (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ)
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10:30 〜 10:45
〇竹内 聡1、 大堀 大介1、 石田 昌久3、 曽田 匡洋3、 遠藤 和彦4、 寒川 誠二1,2,4 (1.東北大流体研、2.東北大AIMR、3.長瀬産業、4.産総研)
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10:45 〜 11:00
〇木村 慎治1、 山口 直1、 井上 真雄1 (1.ルネサス)
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11:00 〜 11:15
〇中西 英俊1、 西村 辰彦1、 伊藤 明1、 藤田 雄也1 (1.SCREEN)
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11:15 〜 11:30
〇奥山 亮輔1、 柾田 亜由美1、 鈴木 陽洋1、 小林 弘治1、 重松 理史1、 廣瀬 諒1、 門野 武1、 古賀 祥泰1、 栗田 一成1 (1.SUMCO)
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11:30 〜 11:45
〇尾花 宏樹1、 阿部 成海1、 熊谷 祐希1、 山下 拓真1、 小笠原 稜2、 濱田 樹2、 宮内 将成2、 吉井 稜2、 久保田 弘1、 橋新 剛1、 吉岡 昌雄2 (1.熊大院自、2.熊大工)
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