Jessiel Siaron GUERIBA^1,2、 Nur Ellina Annisa SALEHUDDIN^1,3、〇Wilson Agerico Tan Dino^1,2,3、 Kiminori WASHIKA⁴、 Hiroshi NAKAMURA⁵、 Tatsumi KAWAFUCHI⁴ (1.Osaka Univ.、2.DLSU-Philippines、3.UKM-Malaysia、4.Hirotec Co., Ltd.、5.Charmant, Inc.)

15:45 〜 16:00

[17p-D419-8] PCSD法を用いる透明導電膜配線のリマニュファクチャリング

〇中島智彦¹、野本淳一¹、北中佑樹¹、山口巖¹ (1.産総研)

16:00 〜 16:15

[17p-D419-9] 液相析出法による三次元規則多孔質構造を有する金ナノ粒子分散酸化チタン薄膜の作製

〇(M2)堤冬美花¹、青井芳史¹ (1.龍谷大院理工)

16:15 〜 16:30

[17p-D419-10] コンビナトリアルスパッタ成膜法によるMgSiSn系薄膜のナノ構造制御と熱電特性

〇後藤真宏¹、佐々木道子¹ (1.物材機構)

16:30 〜 16:45

[17p-D419-11] 化学ボロフェン無機液晶に向けた高結晶性 KBH4エピタキシャル薄膜の作製

〇(B)佐々木啓太¹、神永健一²、丸山伸伍²、松本祐司² (1.東北大、2.東北大院工)

16:45 〜 17:00

[17p-D419-12] 赤外レーザー蒸着法によるペロブスカイト水素化物MLiH₃薄膜合成

〇(M1)福士英里香¹、森史弥¹、原田尚之²、大口裕之¹ (1.芝浦工大理工、2.物材研)

17:00 〜 17:15

[17p-D419-13] Ni(OH)₂薄膜の光学特性に対する熱処理温度の影響

〇阿部良夫¹、川村みどり¹、金敬鎬¹、木場隆之¹ (1.北見工大)

17:15 〜 17:30

▲ [17p-D419-14] ReRAM characteristics utilizing pentacene/LaB_xN_y insulator stacked structure

〇Li Fenghao¹、 Eun Ki Hong¹、 JiaAng Zhao¹、 Ohmi Shun-ichiro¹ (1.Tokyo Inst. of Technology)

17:30 〜 17:45

▲ [17p-D419-15] Multiferroic ε-Fe₂O₃ Thin Films for Highly Efficient Visible Light Photoelectrochemical Water Splitting

〇Xinjue Wang¹、 Haining Li¹、 Hiroyasu Yamahara¹、 Hitoshi Tabata¹、 Munetoshi Seki¹ (1.Tokyo Univ.)

セッション一覧

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[16p-PA09-1~18] 6.4 薄膜新材料

[17a-D419-1~12] 6.4 薄膜新材料

△ [17a-D419-4] 複合成膜手法によるTiO2薄膜の低屈折率化の検討

△ [17a-D419-5] 複合成膜手法により成膜された低屈折率SiO2光学薄膜の親水性評価[5]

△ [17a-D419-6] 複合成膜により成膜された低屈折率SiO2光学薄膜(2)

△ [17a-D419-7] ナノインプリント法およびパルスレーザー堆積を用いたポリマー表面上への金属ナノ粒子周期パターン形成

△ [17a-D419-8] MBE法でLSAT基板上に成膜したβ相MoO3薄膜のプロトネーション効果

△ [17a-D419-9] MBE成長したCuI薄膜における金属的な低温伝導特性の観測

[17p-D419-1~15] 6.4 薄膜新材料

▲ [17p-D419-7] Defluorination and Adsorption of Tetrafluoroethylene (TFE) on TiO2(110) and Cr3O3(0001)Defluorination and Adsorption of Tetrafluoroethylene (TFE) on TiO2(110) and Cr3O3(0001)

▲ [17p-D419-14] ReRAM characteristics utilizing pentacene/LaBxNy insulator stacked structure

▲ [17p-D419-15] Multiferroic ε-Fe2O3 Thin Films for Highly Efficient Visible Light Photoelectrochemical Water Splitting

認証

△ [17a-D419-4] 複合成膜手法によるTiO₂薄膜の低屈折率化の検討

△ [17a-D419-5] 複合成膜手法により成膜された低屈折率SiO₂光学薄膜の親水性評価[5]

△ [17a-D419-6] 複合成膜により成膜された低屈折率SiO₂光学薄膜(2)

△ [17a-D419-8] MBE法でLSAT基板上に成膜したβ相MoO₃薄膜のプロトネーション効果

▲ [17p-D419-7] Defluorination and Adsorption of Tetrafluoroethylene (TFE) on TiO₂(110) and Cr₃O₃(0001)Defluorination and Adsorption of Tetrafluoroethylene (TFE) on TiO₂(110) and Cr₃O₃(0001)

▲ [17p-D419-14] ReRAM characteristics utilizing pentacene/LaB_xN_y insulator stacked structure

▲ [17p-D419-15] Multiferroic ε-Fe₂O₃ Thin Films for Highly Efficient Visible Light Photoelectrochemical Water Splitting