2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

セッション一覧

16 非晶質・微結晶 » 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

一般セッション(ポスター講演)

[9p-PB4-1~11] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2019年3月9日(土) 16:00 〜 18:00 PB4 (武道場)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[10a-W833-1~9] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2019年3月10日(日) 09:00 〜 11:30 W833 (W833)

本間 剛(長岡技科大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[10p-W833-1~17] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2019年3月10日(日) 13:15 〜 17:45 W833 (W833)

正井 博和(産総研)、吉田 憲充(岐阜大)、中岡 俊裕(上智大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

15:45 〜 16:00

齊藤 雄太1、 畑山 祥吾2、 雙 逸2、 進藤 怜史2、 フォンス ポール1、 コロボフ アレクサンダー1、 小林 啓介3,4,5、 須藤 祐司2 (1.産総研ナノエレ、2.東北大工、3.原子力機構、4.高知工大、5.名大)

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